JPH03225248A - 光軸調整・ビーム径測定装置 - Google Patents
光軸調整・ビーム径測定装置Info
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- JPH03225248A JPH03225248A JP2060590A JP2060590A JPH03225248A JP H03225248 A JPH03225248 A JP H03225248A JP 2060590 A JP2060590 A JP 2060590A JP 2060590 A JP2060590 A JP 2060590A JP H03225248 A JPH03225248 A JP H03225248A
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- Photometry And Measurement Of Optical Pulse Characteristics (AREA)
- Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
概要
産業上の利用分野
従来の技術(第16〜18図)
発明が解決しようとする課題
課題を解決するための手段(第1図)
作用
実施例
第1実施例 第2.3図)
第2実施例 第4図
第3実施例 第5図
第4実施例 第6図
第5実施例 第7図
第6実施例 第8図
第7実施例 第9〜IOD図)
第8実施例 第11〜12B図)
第9実施例 第13図)
第10実施例(第14〜15C図)
発明の効果
レーザの光軸調整及びビーム径の測定、調整に用いられ
る光軸調整・ビーム径測定装置に関し、光軸の調整及び
ビーム径の測定、調整を容易迅速に行えるようにするこ
とを目的とし、レーザの光軸を調整するために、該レー
ザから射出されたレーザビームの基準軸に対するずれ景
を測定する光軸調整装置と、入射レーザビームの径を測
定するビーム径測定装置と、該光軸調整装置から該レー
ザビームの一部を取り出して該ビーム径測定装置に入射
させ、該ずれ量が0になった状態で該ビーム径測定装置
に対し正規の位置にレーザビームが入射するように配置
されたレーザビーム分割手段と、備えて構成する。 r産業上の利用分野】 本発明は、レーザの光軸調整及びビーム径の測定、調整
に用いられる光軸調整・ビーム径測定装置に関する。
る光軸調整・ビーム径測定装置に関し、光軸の調整及び
ビーム径の測定、調整を容易迅速に行えるようにするこ
とを目的とし、レーザの光軸を調整するために、該レー
ザから射出されたレーザビームの基準軸に対するずれ景
を測定する光軸調整装置と、入射レーザビームの径を測
定するビーム径測定装置と、該光軸調整装置から該レー
ザビームの一部を取り出して該ビーム径測定装置に入射
させ、該ずれ量が0になった状態で該ビーム径測定装置
に対し正規の位置にレーザビームが入射するように配置
されたレーザビーム分割手段と、備えて構成する。 r産業上の利用分野】 本発明は、レーザの光軸調整及びビーム径の測定、調整
に用いられる光軸調整・ビーム径測定装置に関する。
従来では、レーザの光軸調整とビーム径の測定、調整は
それぞれ別個の装置で行なわれていた。 第16図は従来の光軸調整装置を示す。 レール10に嵌合されたベース12上にはホルダ14が
設置され、ホルダ14にはレーザ16がその光軸を調整
自在に保持されている。レール10にはまた、アパーチ
ャ18.20及びスフIJ −ン22がレールlOに沿
って移動自在に嵌合されている。 レーザ16の光軸調整は、レーザ16から射出されたホ
ルダ14がアパーチャ18のピンホール+8a及びアパ
ーチャ20のピンホール20aを通って、スクリーン2
2に光スポットが形成された状態で完了する。 第17図は従来のビーム径測定装置を示す。 ベース12とは別個のベース13上には、ビーム径検出
器25に対向して、ホルダ14に保持されたレーザ16
が設置される。ビーム径検出器25は構成要素25a〜
25fからなり、パルスモータ25aの回転軸にスリッ
ト円板25bが固着され、スリット円板25bに形成さ
れたナイフェツジ付スリット25cに対向して、PIN
ホトダイオード等の光検出器25dが配置されている。 この光検出器25dの出力は、アンプ25eで増幅され
、A/D変換器26でデジタル変換されてマイクロコン
ピュータ27に供給される。マイクロコンピュータ27
は、ドライバ25「を介してパルスモータ25aを回転
駆動し、この回転に同期してA/D変換器26から第1
8図に示すような光検出強度を読み込み、光検出強度の
波形からビーム径を算出し、これを表示器28に表示さ
せる。 光検出器25dを中心としビーム径検出器25を90度
回転させた状態でビーム径を測定すれば、回転前と垂直
な方向のビーム径を測定することができる。 レーザ16は、例え!fル−ザダイオード16aの前方
にシリンドリカルレンズ16bを介してコリメートレン
ズ16cが配置されており、測定したビーム径が規定範
囲外であれば、これが規定範囲内の値になるようにシリ
ンドリカルレンズ16b又は/及びコリメートレンズ1
6cを調整する。 ビーム径検出器25は、光軸調整されたレーザ16をベ
ース13上に設置すると、レーザビーム24がスリット
25cの中心を通るように配置されており、まず光軸調
整を行い、その後にビーム径の測定を行なう。 光軸調整が完了し、ビーム径が規定範囲内であることが
m 認されると、レーザ16がホルダ14と一体になっ
て不図示のレーザプリンタ等に組み付けられる。
それぞれ別個の装置で行なわれていた。 第16図は従来の光軸調整装置を示す。 レール10に嵌合されたベース12上にはホルダ14が
設置され、ホルダ14にはレーザ16がその光軸を調整
自在に保持されている。レール10にはまた、アパーチ
ャ18.20及びスフIJ −ン22がレールlOに沿
って移動自在に嵌合されている。 レーザ16の光軸調整は、レーザ16から射出されたホ
ルダ14がアパーチャ18のピンホール+8a及びアパ
ーチャ20のピンホール20aを通って、スクリーン2
2に光スポットが形成された状態で完了する。 第17図は従来のビーム径測定装置を示す。 ベース12とは別個のベース13上には、ビーム径検出
器25に対向して、ホルダ14に保持されたレーザ16
が設置される。ビーム径検出器25は構成要素25a〜
25fからなり、パルスモータ25aの回転軸にスリッ
ト円板25bが固着され、スリット円板25bに形成さ
れたナイフェツジ付スリット25cに対向して、PIN
ホトダイオード等の光検出器25dが配置されている。 この光検出器25dの出力は、アンプ25eで増幅され
、A/D変換器26でデジタル変換されてマイクロコン
ピュータ27に供給される。マイクロコンピュータ27
は、ドライバ25「を介してパルスモータ25aを回転
駆動し、この回転に同期してA/D変換器26から第1
8図に示すような光検出強度を読み込み、光検出強度の
波形からビーム径を算出し、これを表示器28に表示さ
せる。 光検出器25dを中心としビーム径検出器25を90度
回転させた状態でビーム径を測定すれば、回転前と垂直
な方向のビーム径を測定することができる。 レーザ16は、例え!fル−ザダイオード16aの前方
にシリンドリカルレンズ16bを介してコリメートレン
ズ16cが配置されており、測定したビーム径が規定範
囲外であれば、これが規定範囲内の値になるようにシリ
ンドリカルレンズ16b又は/及びコリメートレンズ1
6cを調整する。 ビーム径検出器25は、光軸調整されたレーザ16をベ
ース13上に設置すると、レーザビーム24がスリット
25cの中心を通るように配置されており、まず光軸調
整を行い、その後にビーム径の測定を行なう。 光軸調整が完了し、ビーム径が規定範囲内であることが
m 認されると、レーザ16がホルダ14と一体になっ
て不図示のレーザプリンタ等に組み付けられる。
しかし、光軸調整とビーム径測定を別個の装置で行なっ
ていたので、各装置に対し、ホルダ14に保持されたレ
ーザ16を設置しなければならず、作業が煩雑であった
。 また、測定したビーム径が規定範囲外であった場合、こ
れが規定範囲内の値になるようにシリンドリカルレンズ
16b又は/及びコリメートレンズ16cを調整すると
、光軸がずれることがあるので、ホルダ14に保持され
たレーザ16を再度光軸調整装置のベース12に設置し
て光軸調整を行なわなければならず、作業が煩雑であっ
た。 本発明の目的はこのような問題点に鑑み、光軸の調整及
びビーム径の測定、調整を容易迅速に行うことが可能な
光軸調整・ビーム径測定装置を提供することにある。 1課題を解決するための手段】 本発明に係る光軸調整・ビーム径測定装置の原理構成を
第1図に基づいて説明する。 図中、1は光軸調整装置であり、レーザ2の光軸を調整
するために、レーザ2から射出されたレーザビーム3の
基準軸4に対するずれ量を測定する。 5はビーム径測定装置であり、入射レーザビーム6の径
を測定する。 7はレーザビーム分割手段であり、光軸調整装置1から
レーザビーム3の一部を取り出してビーム径測定装置5
に入射させ、該ずれ量が0になった状態でビーム径測定
装置5に対し正規の位置にレーザビーム6が入射するよ
うに配置されている。 1作用】 最初に、光軸調整装置lを用いてレーザ2の光軸を調整
する。例えば、光軸調整がほぼ完了した段階で、すなわ
ち、レーザビーム3が基準軸4に略一致した段階におい
て、ビーム径測定装置5でレーザビーム6のヒ゛−ム径
をm i忍する。 ビーム径測定値が規定範囲外であれば、これが規定範囲
内の値になるように、レーザに組み込まれている例えば
シリンドリカルレンズ又は/及びコリメートレンズ等を
調整する。 この調整により、光軸が少しずれる場合があるが、光軸
調整はまだ完了していないので、光軸調整の繰り返し作
業を避けることができる。 次に、光軸調整を完了させる。 本発明では、光軸調整装置とビーム径測定装置とが有機
的一体的に結合でいるので、レーザ2を設置変更するこ
となく、光軸調整作業及びビーム径測定、調整作業を容
易迅速に行なうことができる。
ていたので、各装置に対し、ホルダ14に保持されたレ
ーザ16を設置しなければならず、作業が煩雑であった
。 また、測定したビーム径が規定範囲外であった場合、こ
れが規定範囲内の値になるようにシリンドリカルレンズ
16b又は/及びコリメートレンズ16cを調整すると
、光軸がずれることがあるので、ホルダ14に保持され
たレーザ16を再度光軸調整装置のベース12に設置し
て光軸調整を行なわなければならず、作業が煩雑であっ
た。 本発明の目的はこのような問題点に鑑み、光軸の調整及
びビーム径の測定、調整を容易迅速に行うことが可能な
光軸調整・ビーム径測定装置を提供することにある。 1課題を解決するための手段】 本発明に係る光軸調整・ビーム径測定装置の原理構成を
第1図に基づいて説明する。 図中、1は光軸調整装置であり、レーザ2の光軸を調整
するために、レーザ2から射出されたレーザビーム3の
基準軸4に対するずれ量を測定する。 5はビーム径測定装置であり、入射レーザビーム6の径
を測定する。 7はレーザビーム分割手段であり、光軸調整装置1から
レーザビーム3の一部を取り出してビーム径測定装置5
に入射させ、該ずれ量が0になった状態でビーム径測定
装置5に対し正規の位置にレーザビーム6が入射するよ
うに配置されている。 1作用】 最初に、光軸調整装置lを用いてレーザ2の光軸を調整
する。例えば、光軸調整がほぼ完了した段階で、すなわ
ち、レーザビーム3が基準軸4に略一致した段階におい
て、ビーム径測定装置5でレーザビーム6のヒ゛−ム径
をm i忍する。 ビーム径測定値が規定範囲外であれば、これが規定範囲
内の値になるように、レーザに組み込まれている例えば
シリンドリカルレンズ又は/及びコリメートレンズ等を
調整する。 この調整により、光軸が少しずれる場合があるが、光軸
調整はまだ完了していないので、光軸調整の繰り返し作
業を避けることができる。 次に、光軸調整を完了させる。 本発明では、光軸調整装置とビーム径測定装置とが有機
的一体的に結合でいるので、レーザ2を設置変更するこ
となく、光軸調整作業及びビーム径測定、調整作業を容
易迅速に行なうことができる。
以下、図面に基づいて本発明の詳細な説明する。
(1)第1実施例
第2図は第1実施例の光軸調整・ビーム径測定装置を示
す。 ベース12A上に設置されたホルダ14には、レーザ1
6がその光軸を調整自在に保持されている。レーザ16
の前方には、ハーフミラ−29及び凸レンズ30を介し
てハーフミラ−32が配置されており、レーザ16から
射出されたレーザビーム24は、ハーフミラ−29で反
射光束24Cと透過光束とに2分割され、透過光束は、
凸レンズ30で収束され、ハーフミラ−32で透過光束
24八と反射光束24Bとに2分割される。これら透過
光束24A及び反射光束24Bの位置を検出するために
、PSD (光位置検出器)34A及び34Bが配置さ
れている。PSD34Aは、凸レンズ30の焦点Flよ
り距離d1だけ凸レンズ30と反対側へ離れた位置に配
置され、PSD34Bは、凸レンズ30の焦点F2より
距離d2だけハーフミラ−32側へ離れた位置に配置さ
れている。また、レーザ16の光軸調整が完了した状態
にふいて、レーザ16から射出されたレーザビーム24
が凸レンズ30の光軸りに一致し、かつ、PSD34A
及び34Bの受光面に形成される光スポットがそれぞれ
の受光面中心位置(原点)に形成されるように、凸レン
ズ30、ハーフミラ−32、PSD34A及び34Bが
配置されている。 ここで、第2図に示す如く、レーザビーA24が光軸り
とθ1の角度をなして凸レンズ30に入射し、かつ、凸
レンズ30の位置でレーザビーム24が光軸りからhだ
け離れている場合に、PSD34A及び34Bの受光面
に形成される光スボットの受光面上の光点位[ZA及び
ZBを用いてこれら角度ずれθl及び位置ずれhを求め
ることができることを説明する。 凸レンズ30の焦点距離をfとし、凸レンズ30で屈折
されたレーザビーム24が光軸りとなす角をθ2とする
と、第2図から次式が成立することがわかる。 θ2 = j a n−’ (ZA−ZB)/(dl+
d2)) ・・・ (1)h= (f+dt)tan
(θ2)−ZA(2) また、θ1とθ2との間には、幾何光学上の公知の関係
が成立する。 したがって、光点位置ZA及びZBをそれぞれPSD3
4A及び34Bで検出することにより、角度ずれθ1及
び位置ずれhを求めることができる。 第2図において、PSD34Aの一対の電極から取り出
された光電流は、アンプ36A及び38Aで増幅され電
圧に変換された後、加算器40Δ及び減算器42Aで両
者の和及び差が演算され、次にこの和を差で除した値が
除算器44Aで演算され、これが受光面上の光位置とし
てマルチプレクサ46へ供給される。PSD34Bの出
力信号の処理についても同様であり、第2図では、同一
構成要素には同一番号を付しかつBを付している。 除算器44A及び44Bの出力は、マルチプレクサ46
で交互に選択されてA/D変換器48へ供給され、デジ
タル変換されてマイクロコンピュータ50へ供給される
。マイクロコンピュータ50は、光点位置ZA及びZB
を用いて上述の角度ずれθl及び位置ずれhを求め、こ
れらを表示器52へ供給して表示させる。 なお、第2図では説明の簡単化のために、PSD34A
及び34Bが1次元構成の場合を説明したが、実際には
PSD34A及び34Bは2次元構成のものが用いられ
、紙面垂直方向の光位置も検出される。そして、光軸り
及びレーザビーム24を含む平面の基準面に対する角度
、この平面内での角度ずれθ1及び位置ずれhを求め、
又は、互いに直交する両軸の各々について角度ずれθ1
及び位置ずれhを求めて、これらを表示器52に表示さ
せる。 一方、ハーフミラ−29の第2図上方にはビーム径検出
器25が配置されており、ハーフミラ−29で反射され
た光束24Cは、ビーム径検出器25に入射する。ビー
ム径検出器25は第17図に示す既述のものと同一構成
であり、その説明を省略する。レーザビーム24が光軸
りに一致した状態で、レーザビーム24がスリット円板
25bに対し垂直になり、かつ、スリット円板25bが
所定回転角のときに光束24Cがスリット25cの中心
を通るように、ビーム径検出器25が配置されている。 アンプ25eの出力は、マルチプレクサ46及びA/D
変換器48を介してマイクロコンピュータ50に供給さ
れ、マイクロコンピュータ50は、角度ずれθl及び位
置ずれhが共に略0になると、ドライバ25fを介して
パルスモータ25aを回転駆動し、この回転に同期して
A/D変換器48から第一8図に示すような光検出強度
を読み込み、光検出強度の波形からビーム径を算出し、
これを表示器:12に表示させる。 ビーJ・径検出器25は、不図示のスナップ機構により
、光検出器25dを中心とし90度回転可能となってお
り、ビーム径を互いに直交する方向について測定するこ
とができる。なお、ビーム径検出器:(5を2組配置し
、反射光束24Cを不図示のハーフミラ−でさらに2分
割し、ビーム径を互いに直交する方向について同時に測
定するように構成してもよい。 次に、上記構成の光軸調整・ビーム径測定装置の使用方
法を説明する。 最初に、光軸調整を行なう。 レーザ16からレーザビーム24を射出させている間は
常に、その時点でのレーザビーム24の光軸りに対する
ずれ量が表示器52に表示される。 したがって、従来装置と異なり、レーザ16の角度調整
及び位置調整をどの程度行えばよいかが調整中宮に分か
る。このため、レーザ16の光軸調整を容易迅速に行う
ことができ、しかも、従来よりも高精度で光軸調整を行
なうことができる。 光軸調整手順はホルダ14の構成により異なるが、例え
ばホルダ14がレーザ16の光軸の角度調整と位置調I
II!(角度を一定にしてレーザ16を平行移動させる
調整)とを独立に行なえる構成であれば、角度調整を先
に行って表示器52に表示された角度ずれθlを0にし
、次に、位置調整を行って表示器52に表示された位置
ずれhを0にし、あるいはこれと逆に、位置調整を行っ
た後に角度調整を行う。 この際、光軸調整がほぼ完了すると、すなわち、角度ず
れθl及び位置ずれhが共に略0になると、マイクロコ
ンピュータ50によりビーム径検出器25が自動的に作
動し、表示器52にビーム径が表示される。ビーム径検
出器25を上記の如く90度回転させると、これが不図
示のリミットスイッチで検出され、その信号がマイクロ
コンピュータ50に供給され、同様にして、マイクロコ
ンピュータ50によりビーム径検出器25が自動的に再
度作動し、表示器52にビーム径が表示される。 ビーム径測定値が規定範囲外であれば、これが規定範囲
内の値になるように、シリンドリカルレンズ16b又は
/及びコリメートレンズ16cを調整する。この調整に
より、光軸が少しずれる場合があるが、光軸調整はまだ
完了していないので、光軸調整の繰り返し作業を避ける
ことができる。 次に、上記同様にして光軸調整を完了させる。 本実施例によれば、光軸調整装置とビーム径測定装置と
が有機的一体的に結合でいるので、光軸調整作業及びビ
ーム径測定、調整作業を容易迅速に行なうことができる
。 なお、表示器52には、角度ずれθl及び位置ずれhを
表示させる代わりに、光点位置ZA及びZBを直接表示
させる構成であってもよく、また、光点位置ZA及びZ
Bからレーザ16自体の位置ずれ量(角度ずれ量はθ1
に等しい)を演算してこれらを表示させる構成であって
もよい。 また、ビーム径検出器25は、光軸調整中宮に作動し、
または、不図示のスイッチを押したときだけ作動するよ
うにしてもよい。 (2)第2実施例 第4図は第2実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 第2図との相違点は、凸レンズ30とハーフミラ−32
の配置を逆にし、角度ずれθ1を光点位置に変換するた
めに、凸レンズ30の焦点F1にPSD34Aの受光面
中心位置を一致させてPSD34Aを配置し、位置ずれ
hを光点位置に変換するために、ハーフミラ−32によ
る反射光を収束させずに直接PSD34Bで検出してい
る点である。不図示の信号処理回路は第2図と同一であ
り、第10実施例を除き以下の他の実施例についても同
様である。光点位IZA及びZBと角度ずれθl及び位
置ずれhとの関係は第2図の場合と異なるが、両者の関
係は上記同様に幾何学的に決定される。この点も、以下
の他の実施例について同様である。 この装置を用いた光軸調整は、例えば次のようにして行
う。 レーザビーム24が点線で示す如くなっている場合には
、PSD34A及び34Bの受光面に形成された光スポ
ットはそれぞれその中心位置からずれている。そこで、
レーザ16の角度調整を行なって、PSD34Aによる
光点位置ZA(又は角度ずれθl)をOにする。これに
より、レーザビーム24は同図2点鎖線で示す如く光軸
りと平行になる。次に、レーザ16の位置調整を行なっ
て、PSD34Bによる光点位置ZB(又は位置ずれh
)を0にする。この際、光点位置ZA及び角度ずれθ1
は0のままである。したがって、これによりレーザビー
ム24は光軸りに一致する。 (3)第3実施例 第5図は第3実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、PSD34A及び34Bの配置が第2
図と異なる。即ち、PSD34Aは、角度ずれθ1を光
点位置に変換するためにその受光面中心位置が凸レンズ
30の焦点F1に一致するように配置され、PSD34
Bは、位置ずれhを光点位置に変換するためにその受光
面が焦点F2からハーフミラ−32と反対側へ離れた位
置に配置されている。 この装置を用いた光軸調整は、例えば次のようにして行
う。 レーザビーム24が点線で示す如く光軸りと非平行にな
っている場合には、PSD34Bによる光点位置ZBが
0になっても、PSD34Aによる光点位置ZAは0に
ならない。そこで、最初にレーザ16の角度調整を行っ
て光点位置ZA(又は角度ずれθ1)を0にする。これ
により、同図2点鎖線で示す如く、レーザビーム24は
光軸りと平行になる。この時、光点位置ZBはOでなく
、位置ずれhに比例している。次に、光点位置ZB(又
は位置ずれh)が0になるようにレーザ16の位置調整
を行う。この際、光点位置ZA及び角度ずれθ1は0の
ままである。光点位置ZA及びZBが共にOになると、
同図1点鎖線で示す如く、レーザビーム24は光軸りに
一致する。 (4)第4実施例 第6図は第4実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、ハーフミラ−32のPSD34A側に
凸レンズ30Aを配置し、ハーフミラ−32のPSD3
4B側に凸レンズ30Bを配置している点で第4図と異
なっている。他の点は第5図と同一であり、使用方法も
第5図の場合と同一である。 この実施例は、ハーフミラ−32に対し平行光束を入射
させることができ、かつ、凸レンズ30Bの焦点距離を
短くすることによりハーフミラ−32とPSD34Bと
の間隔を第5図の場合よりも短くすることができる点で
、第3実施例よりも優れている。 (5)第5実施例 第7図は第5実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第6図のハーフミラ−32と凸レンズ
30Bとを反射型ホログラム54Aで代用しているので
、部品点数が第6図の構成よりも1つ少なくなり、構成
が簡単になっている。この反射型ホログラム54Aは、
透過光束に対してはこれを回折させないが、反射光束に
対してはこれを回折させて焦点F2に収束させるように
作成されている。他の点は第6図と同一である。 (6)第6実施例 第8図は第6実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第7図に示す反射型ホログラム54A
の代わりに透過型ホログラム54Bを用いている。他の
点は第7図と同一である。 (7)第7実施例 第9図は第7実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第8図に示す凸レンズ30の代わりに
透過型ホログラム54Dを用いている。 透過型ホログラム54Cは、その回折角のみが第8図に
示す透過型ホログラム54Bと異なる。また、ハーフミ
ラ−29、透過型ホログラム54C及び54Dが重ね合
わされて互いに接着されているので、装置を小型化でき
る。他の点は第8図の場合と同一である。 なお、透過型ホログラム54Cは、第10A図に示す如
く、発散する参照光と収束する物体光とを干渉させ、こ
れで感光材料54cを露光することにより記録される。 このようにして記録された透過型ホログラム54Cに対
し、第10B図に示す如く、発散波P1を入射させると
点Q1に収束し、発散波P2を入射させると点Q1から
少しずれた点Q2に収束する。同様に、透過型ホログラ
ム54Dは、第10C図に示す如く、平行な参照光と収
束する物体光とを干渉させ、これで感光材料54dを露
光することにより記録される。このようにして記録され
た透過型ホログラム54Dに対し、第10D図に示す如
く、平面波P3を入射させると点Q3に収束し、平面波
P4を入射させると点Q3から少しずれた点Q4に収束
する。 上記第3〜7実施例では、PSD34Bが焦点F2から
外側にずれて配置されている場合を説明したが、PSD
34Bは焦点F2から内側にずれて配置してもよい。 また、第3実施例の変形例である第4〜7実施例の考え
方は、上記第1及び第2実施例に関しても適用すること
ができる。 (8)第8実施例 第11図は第8実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の
光学系を示す。 この実施例では、レーザ16の前方に透過型ホログラム
70が配置され、この透過型ホログラム70の後方にP
SD34Δ、34B、34C及び34Dが配置されて構
成されている。透過型ホログラム70は、その光軸(中
心線)Lが、光軸調整後にレーザ16から射出されたレ
ーザビーム24に一致するように配置されている。透過
型ホログラム70は同一構成の領域?0A〜70Dから
なり、これらは中心角90度の扇形である。領域?0A
〜70Dは、各頂点が共通点Oとなっている。透過型ホ
ログラム70は、同図に示す如く、その中心点0に対し
レーザビーム24を垂直入射させると、中心点0の近傍
の領域?0A〜?0Dを通過する光束がそれぞれ、PS
D34A〜34Dの受光面中心位置に収束するように作
成されている。 したがって、PSD34A〜34Dにより検出された光
位置により、レーザビーム24の光軸りに対するずれを
知得することができる。 透過型ホログラム70は、第12Δ図に示す如く、領域
?OAに相当する感光材料70aの部分以外をマスクし
、参照光としての平面波を感光材料70aに垂直に照射
し、物体光としての発散光を感光材料70aに対し参照
光と同一側から照射して、両光の干渉光で感光材料70
aを露光することにより領域?OAにホログラムが記録
される。 このようにして記録されたホログラムに対し、第12B
図に示す如く、領域?OAに垂直に平面波Pを照射する
と、領域?OAを透過した光束は回折されて点Qに収束
する。 第12A図において、マスクをそのままにし、感光材料
のみを90度回転させて同様に漏光することにより領域
?OBにホログラムが記録される。 領域70C及び70Dについても同様である。 (9)第9実施例 第13図は第9実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の
光学系を示す。 この実施例では、第11図における透過型ホログラム7
0の代わりに反射型ホログラム72を用い、PSD34
A〜34Dを反射型ホログラム72のレーザ16側に配
置している。反射型ホログラム72の中心点0に対し、
反射型ホログラム72に垂直にレーザビーム24を照射
すると、中心点0の近傍の領域?2A〜?2Dに照射さ
れた光束はそれぞれ、反射回折されてPSD34A〜3
4Dの受光面中心位置に収束する。また、ビーム径検出
器25を反射型ホログラム72の後方に配置し、反射型
ホログラム72を透過したレーザビーム24をビーム径
検出器25に入射させている。 他の点は第11図の場合と同一である。 この反射型ホログラム72は、第12A図において、参
照光を図示方向と反対方向から感光材料に照射すること
により作成される。 (10)第10実施例 第14図は第10実施例の光軸調整・ビーム径測定装置
の光学系を示す。 この実施例では、上記各実施例と構成が本質的に異なっ
ている。すなわち、レーザ16の前方にハーフミラ−3
2を介して反射干渉器56が配置され、ハーフミラ−3
2の側方にスクリーン64及びビーム径検出器25が配
置されて構成されている。この反射干渉器56は、平凸
レンズ58の凸面に反射膜60が被着され、平凸レンズ
58の平面に反射率50%の半透膜62が被着されてい
る。 上記構成において、レーザ16から射出されたレーザビ
ーム24は、ハーフミラ−32で透過光束と反射光束と
に2分割され、透過光束は、その50%が半透膜62で
反射され、残りの50%が平凸レンズ58を通って反射
膜60で反射され、画成射光が合波干渉し、ハーフミラ
−32へ戻ってその一部がスクリーン64側に反射され
、スクリーン64上にニュートンリングの像が形成され
る。また、ハーフミラ−32で反射された光束は、ビー
ム径検出器25に入射する。反射干渉器56は、その光
軸りが、光軸調整後にレーザ16から射出されたレーザ
ビーム24と一致するように配置されている。この状態
では、第15A図に示す如く、スクリーン64に形成さ
れた十字66の交点にニュートンリング68の中心が一
致する。 例えば、レーザビーム24が、第14図−点鎖線で示す
如く、光軸りから平行にずれた場合には、スクリーン6
4には第15B図に示すようなニュートンリング68が
映る。これは、半透膜62での反射角と反射膜60での
反射角とが異なるので、スクリーン64上では画成射光
の光スポットがずれるためである。 また、レーザビーム24が、第14図点線で示す如(、
光軸りと非平行にになり、かつ、平凸レンズ58の中心
Rを通る場合には、スクリーン64には第15C図に示
すようなニュートンリング68が映る。 したがって、スクリーン64上に映ったニュートンリン
グ68の形状及びその中心点の位置とレーザビーム24
の状態とを1対1に対応させたものを表にしておけば、
レーザビーム24の角度及び位置がどの程度ずれている
かを容易に知ることができる。 なお、スクリーン64の代わりに2次元イメージセンサ
を配置し、画像処理を行ってレーザビーム24の角度ず
れ01及び位置ずれhを求め、これらを表示器に表示さ
せるように構成してもよい。 また、反射干渉器56の平凸レンズ58は光路差分布を
付与するものであり、平凸レンズに限定されず、両凸レ
ンズ、平凹レンズ又はメニスカスレンズ等であってもよ
いことは勿論である。さらに、反射干渉器5Gは、平凸
レンズ58に直接反射膜60及び半透膜62を被着せず
に、平凸レンズ58の凸面を平面鏡に当接させてニュー
トンリングを形成する構成であってもよい。 【発明の効果] 以上説明した如く、本発明に係る光軸調整・ビーム径測
定装置によれば、光軸調整装置とビーム径測定装置とが
有機的一体的に結合しているので、レーザを設置変更す
ることなく、光軸調整作業及びビーム径測定、調整作業
を容易迅速に行なうことができるという優れた効果を奏
する。
す。 ベース12A上に設置されたホルダ14には、レーザ1
6がその光軸を調整自在に保持されている。レーザ16
の前方には、ハーフミラ−29及び凸レンズ30を介し
てハーフミラ−32が配置されており、レーザ16から
射出されたレーザビーム24は、ハーフミラ−29で反
射光束24Cと透過光束とに2分割され、透過光束は、
凸レンズ30で収束され、ハーフミラ−32で透過光束
24八と反射光束24Bとに2分割される。これら透過
光束24A及び反射光束24Bの位置を検出するために
、PSD (光位置検出器)34A及び34Bが配置さ
れている。PSD34Aは、凸レンズ30の焦点Flよ
り距離d1だけ凸レンズ30と反対側へ離れた位置に配
置され、PSD34Bは、凸レンズ30の焦点F2より
距離d2だけハーフミラ−32側へ離れた位置に配置さ
れている。また、レーザ16の光軸調整が完了した状態
にふいて、レーザ16から射出されたレーザビーム24
が凸レンズ30の光軸りに一致し、かつ、PSD34A
及び34Bの受光面に形成される光スポットがそれぞれ
の受光面中心位置(原点)に形成されるように、凸レン
ズ30、ハーフミラ−32、PSD34A及び34Bが
配置されている。 ここで、第2図に示す如く、レーザビーA24が光軸り
とθ1の角度をなして凸レンズ30に入射し、かつ、凸
レンズ30の位置でレーザビーム24が光軸りからhだ
け離れている場合に、PSD34A及び34Bの受光面
に形成される光スボットの受光面上の光点位[ZA及び
ZBを用いてこれら角度ずれθl及び位置ずれhを求め
ることができることを説明する。 凸レンズ30の焦点距離をfとし、凸レンズ30で屈折
されたレーザビーム24が光軸りとなす角をθ2とする
と、第2図から次式が成立することがわかる。 θ2 = j a n−’ (ZA−ZB)/(dl+
d2)) ・・・ (1)h= (f+dt)tan
(θ2)−ZA(2) また、θ1とθ2との間には、幾何光学上の公知の関係
が成立する。 したがって、光点位置ZA及びZBをそれぞれPSD3
4A及び34Bで検出することにより、角度ずれθ1及
び位置ずれhを求めることができる。 第2図において、PSD34Aの一対の電極から取り出
された光電流は、アンプ36A及び38Aで増幅され電
圧に変換された後、加算器40Δ及び減算器42Aで両
者の和及び差が演算され、次にこの和を差で除した値が
除算器44Aで演算され、これが受光面上の光位置とし
てマルチプレクサ46へ供給される。PSD34Bの出
力信号の処理についても同様であり、第2図では、同一
構成要素には同一番号を付しかつBを付している。 除算器44A及び44Bの出力は、マルチプレクサ46
で交互に選択されてA/D変換器48へ供給され、デジ
タル変換されてマイクロコンピュータ50へ供給される
。マイクロコンピュータ50は、光点位置ZA及びZB
を用いて上述の角度ずれθl及び位置ずれhを求め、こ
れらを表示器52へ供給して表示させる。 なお、第2図では説明の簡単化のために、PSD34A
及び34Bが1次元構成の場合を説明したが、実際には
PSD34A及び34Bは2次元構成のものが用いられ
、紙面垂直方向の光位置も検出される。そして、光軸り
及びレーザビーム24を含む平面の基準面に対する角度
、この平面内での角度ずれθ1及び位置ずれhを求め、
又は、互いに直交する両軸の各々について角度ずれθ1
及び位置ずれhを求めて、これらを表示器52に表示さ
せる。 一方、ハーフミラ−29の第2図上方にはビーム径検出
器25が配置されており、ハーフミラ−29で反射され
た光束24Cは、ビーム径検出器25に入射する。ビー
ム径検出器25は第17図に示す既述のものと同一構成
であり、その説明を省略する。レーザビーム24が光軸
りに一致した状態で、レーザビーム24がスリット円板
25bに対し垂直になり、かつ、スリット円板25bが
所定回転角のときに光束24Cがスリット25cの中心
を通るように、ビーム径検出器25が配置されている。 アンプ25eの出力は、マルチプレクサ46及びA/D
変換器48を介してマイクロコンピュータ50に供給さ
れ、マイクロコンピュータ50は、角度ずれθl及び位
置ずれhが共に略0になると、ドライバ25fを介して
パルスモータ25aを回転駆動し、この回転に同期して
A/D変換器48から第一8図に示すような光検出強度
を読み込み、光検出強度の波形からビーム径を算出し、
これを表示器:12に表示させる。 ビーJ・径検出器25は、不図示のスナップ機構により
、光検出器25dを中心とし90度回転可能となってお
り、ビーム径を互いに直交する方向について測定するこ
とができる。なお、ビーム径検出器:(5を2組配置し
、反射光束24Cを不図示のハーフミラ−でさらに2分
割し、ビーム径を互いに直交する方向について同時に測
定するように構成してもよい。 次に、上記構成の光軸調整・ビーム径測定装置の使用方
法を説明する。 最初に、光軸調整を行なう。 レーザ16からレーザビーム24を射出させている間は
常に、その時点でのレーザビーム24の光軸りに対する
ずれ量が表示器52に表示される。 したがって、従来装置と異なり、レーザ16の角度調整
及び位置調整をどの程度行えばよいかが調整中宮に分か
る。このため、レーザ16の光軸調整を容易迅速に行う
ことができ、しかも、従来よりも高精度で光軸調整を行
なうことができる。 光軸調整手順はホルダ14の構成により異なるが、例え
ばホルダ14がレーザ16の光軸の角度調整と位置調I
II!(角度を一定にしてレーザ16を平行移動させる
調整)とを独立に行なえる構成であれば、角度調整を先
に行って表示器52に表示された角度ずれθlを0にし
、次に、位置調整を行って表示器52に表示された位置
ずれhを0にし、あるいはこれと逆に、位置調整を行っ
た後に角度調整を行う。 この際、光軸調整がほぼ完了すると、すなわち、角度ず
れθl及び位置ずれhが共に略0になると、マイクロコ
ンピュータ50によりビーム径検出器25が自動的に作
動し、表示器52にビーム径が表示される。ビーム径検
出器25を上記の如く90度回転させると、これが不図
示のリミットスイッチで検出され、その信号がマイクロ
コンピュータ50に供給され、同様にして、マイクロコ
ンピュータ50によりビーム径検出器25が自動的に再
度作動し、表示器52にビーム径が表示される。 ビーム径測定値が規定範囲外であれば、これが規定範囲
内の値になるように、シリンドリカルレンズ16b又は
/及びコリメートレンズ16cを調整する。この調整に
より、光軸が少しずれる場合があるが、光軸調整はまだ
完了していないので、光軸調整の繰り返し作業を避ける
ことができる。 次に、上記同様にして光軸調整を完了させる。 本実施例によれば、光軸調整装置とビーム径測定装置と
が有機的一体的に結合でいるので、光軸調整作業及びビ
ーム径測定、調整作業を容易迅速に行なうことができる
。 なお、表示器52には、角度ずれθl及び位置ずれhを
表示させる代わりに、光点位置ZA及びZBを直接表示
させる構成であってもよく、また、光点位置ZA及びZ
Bからレーザ16自体の位置ずれ量(角度ずれ量はθ1
に等しい)を演算してこれらを表示させる構成であって
もよい。 また、ビーム径検出器25は、光軸調整中宮に作動し、
または、不図示のスイッチを押したときだけ作動するよ
うにしてもよい。 (2)第2実施例 第4図は第2実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 第2図との相違点は、凸レンズ30とハーフミラ−32
の配置を逆にし、角度ずれθ1を光点位置に変換するた
めに、凸レンズ30の焦点F1にPSD34Aの受光面
中心位置を一致させてPSD34Aを配置し、位置ずれ
hを光点位置に変換するために、ハーフミラ−32によ
る反射光を収束させずに直接PSD34Bで検出してい
る点である。不図示の信号処理回路は第2図と同一であ
り、第10実施例を除き以下の他の実施例についても同
様である。光点位IZA及びZBと角度ずれθl及び位
置ずれhとの関係は第2図の場合と異なるが、両者の関
係は上記同様に幾何学的に決定される。この点も、以下
の他の実施例について同様である。 この装置を用いた光軸調整は、例えば次のようにして行
う。 レーザビーム24が点線で示す如くなっている場合には
、PSD34A及び34Bの受光面に形成された光スポ
ットはそれぞれその中心位置からずれている。そこで、
レーザ16の角度調整を行なって、PSD34Aによる
光点位置ZA(又は角度ずれθl)をOにする。これに
より、レーザビーム24は同図2点鎖線で示す如く光軸
りと平行になる。次に、レーザ16の位置調整を行なっ
て、PSD34Bによる光点位置ZB(又は位置ずれh
)を0にする。この際、光点位置ZA及び角度ずれθ1
は0のままである。したがって、これによりレーザビー
ム24は光軸りに一致する。 (3)第3実施例 第5図は第3実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、PSD34A及び34Bの配置が第2
図と異なる。即ち、PSD34Aは、角度ずれθ1を光
点位置に変換するためにその受光面中心位置が凸レンズ
30の焦点F1に一致するように配置され、PSD34
Bは、位置ずれhを光点位置に変換するためにその受光
面が焦点F2からハーフミラ−32と反対側へ離れた位
置に配置されている。 この装置を用いた光軸調整は、例えば次のようにして行
う。 レーザビーム24が点線で示す如く光軸りと非平行にな
っている場合には、PSD34Bによる光点位置ZBが
0になっても、PSD34Aによる光点位置ZAは0に
ならない。そこで、最初にレーザ16の角度調整を行っ
て光点位置ZA(又は角度ずれθ1)を0にする。これ
により、同図2点鎖線で示す如く、レーザビーム24は
光軸りと平行になる。この時、光点位置ZBはOでなく
、位置ずれhに比例している。次に、光点位置ZB(又
は位置ずれh)が0になるようにレーザ16の位置調整
を行う。この際、光点位置ZA及び角度ずれθ1は0の
ままである。光点位置ZA及びZBが共にOになると、
同図1点鎖線で示す如く、レーザビーム24は光軸りに
一致する。 (4)第4実施例 第6図は第4実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、ハーフミラ−32のPSD34A側に
凸レンズ30Aを配置し、ハーフミラ−32のPSD3
4B側に凸レンズ30Bを配置している点で第4図と異
なっている。他の点は第5図と同一であり、使用方法も
第5図の場合と同一である。 この実施例は、ハーフミラ−32に対し平行光束を入射
させることができ、かつ、凸レンズ30Bの焦点距離を
短くすることによりハーフミラ−32とPSD34Bと
の間隔を第5図の場合よりも短くすることができる点で
、第3実施例よりも優れている。 (5)第5実施例 第7図は第5実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第6図のハーフミラ−32と凸レンズ
30Bとを反射型ホログラム54Aで代用しているので
、部品点数が第6図の構成よりも1つ少なくなり、構成
が簡単になっている。この反射型ホログラム54Aは、
透過光束に対してはこれを回折させないが、反射光束に
対してはこれを回折させて焦点F2に収束させるように
作成されている。他の点は第6図と同一である。 (6)第6実施例 第8図は第6実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第7図に示す反射型ホログラム54A
の代わりに透過型ホログラム54Bを用いている。他の
点は第7図と同一である。 (7)第7実施例 第9図は第7実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の光
学系を示す。 この実施例では、第8図に示す凸レンズ30の代わりに
透過型ホログラム54Dを用いている。 透過型ホログラム54Cは、その回折角のみが第8図に
示す透過型ホログラム54Bと異なる。また、ハーフミ
ラ−29、透過型ホログラム54C及び54Dが重ね合
わされて互いに接着されているので、装置を小型化でき
る。他の点は第8図の場合と同一である。 なお、透過型ホログラム54Cは、第10A図に示す如
く、発散する参照光と収束する物体光とを干渉させ、こ
れで感光材料54cを露光することにより記録される。 このようにして記録された透過型ホログラム54Cに対
し、第10B図に示す如く、発散波P1を入射させると
点Q1に収束し、発散波P2を入射させると点Q1から
少しずれた点Q2に収束する。同様に、透過型ホログラ
ム54Dは、第10C図に示す如く、平行な参照光と収
束する物体光とを干渉させ、これで感光材料54dを露
光することにより記録される。このようにして記録され
た透過型ホログラム54Dに対し、第10D図に示す如
く、平面波P3を入射させると点Q3に収束し、平面波
P4を入射させると点Q3から少しずれた点Q4に収束
する。 上記第3〜7実施例では、PSD34Bが焦点F2から
外側にずれて配置されている場合を説明したが、PSD
34Bは焦点F2から内側にずれて配置してもよい。 また、第3実施例の変形例である第4〜7実施例の考え
方は、上記第1及び第2実施例に関しても適用すること
ができる。 (8)第8実施例 第11図は第8実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の
光学系を示す。 この実施例では、レーザ16の前方に透過型ホログラム
70が配置され、この透過型ホログラム70の後方にP
SD34Δ、34B、34C及び34Dが配置されて構
成されている。透過型ホログラム70は、その光軸(中
心線)Lが、光軸調整後にレーザ16から射出されたレ
ーザビーム24に一致するように配置されている。透過
型ホログラム70は同一構成の領域?0A〜70Dから
なり、これらは中心角90度の扇形である。領域?0A
〜70Dは、各頂点が共通点Oとなっている。透過型ホ
ログラム70は、同図に示す如く、その中心点0に対し
レーザビーム24を垂直入射させると、中心点0の近傍
の領域?0A〜?0Dを通過する光束がそれぞれ、PS
D34A〜34Dの受光面中心位置に収束するように作
成されている。 したがって、PSD34A〜34Dにより検出された光
位置により、レーザビーム24の光軸りに対するずれを
知得することができる。 透過型ホログラム70は、第12Δ図に示す如く、領域
?OAに相当する感光材料70aの部分以外をマスクし
、参照光としての平面波を感光材料70aに垂直に照射
し、物体光としての発散光を感光材料70aに対し参照
光と同一側から照射して、両光の干渉光で感光材料70
aを露光することにより領域?OAにホログラムが記録
される。 このようにして記録されたホログラムに対し、第12B
図に示す如く、領域?OAに垂直に平面波Pを照射する
と、領域?OAを透過した光束は回折されて点Qに収束
する。 第12A図において、マスクをそのままにし、感光材料
のみを90度回転させて同様に漏光することにより領域
?OBにホログラムが記録される。 領域70C及び70Dについても同様である。 (9)第9実施例 第13図は第9実施例の光軸調整・ビーム径測定装置の
光学系を示す。 この実施例では、第11図における透過型ホログラム7
0の代わりに反射型ホログラム72を用い、PSD34
A〜34Dを反射型ホログラム72のレーザ16側に配
置している。反射型ホログラム72の中心点0に対し、
反射型ホログラム72に垂直にレーザビーム24を照射
すると、中心点0の近傍の領域?2A〜?2Dに照射さ
れた光束はそれぞれ、反射回折されてPSD34A〜3
4Dの受光面中心位置に収束する。また、ビーム径検出
器25を反射型ホログラム72の後方に配置し、反射型
ホログラム72を透過したレーザビーム24をビーム径
検出器25に入射させている。 他の点は第11図の場合と同一である。 この反射型ホログラム72は、第12A図において、参
照光を図示方向と反対方向から感光材料に照射すること
により作成される。 (10)第10実施例 第14図は第10実施例の光軸調整・ビーム径測定装置
の光学系を示す。 この実施例では、上記各実施例と構成が本質的に異なっ
ている。すなわち、レーザ16の前方にハーフミラ−3
2を介して反射干渉器56が配置され、ハーフミラ−3
2の側方にスクリーン64及びビーム径検出器25が配
置されて構成されている。この反射干渉器56は、平凸
レンズ58の凸面に反射膜60が被着され、平凸レンズ
58の平面に反射率50%の半透膜62が被着されてい
る。 上記構成において、レーザ16から射出されたレーザビ
ーム24は、ハーフミラ−32で透過光束と反射光束と
に2分割され、透過光束は、その50%が半透膜62で
反射され、残りの50%が平凸レンズ58を通って反射
膜60で反射され、画成射光が合波干渉し、ハーフミラ
−32へ戻ってその一部がスクリーン64側に反射され
、スクリーン64上にニュートンリングの像が形成され
る。また、ハーフミラ−32で反射された光束は、ビー
ム径検出器25に入射する。反射干渉器56は、その光
軸りが、光軸調整後にレーザ16から射出されたレーザ
ビーム24と一致するように配置されている。この状態
では、第15A図に示す如く、スクリーン64に形成さ
れた十字66の交点にニュートンリング68の中心が一
致する。 例えば、レーザビーム24が、第14図−点鎖線で示す
如く、光軸りから平行にずれた場合には、スクリーン6
4には第15B図に示すようなニュートンリング68が
映る。これは、半透膜62での反射角と反射膜60での
反射角とが異なるので、スクリーン64上では画成射光
の光スポットがずれるためである。 また、レーザビーム24が、第14図点線で示す如(、
光軸りと非平行にになり、かつ、平凸レンズ58の中心
Rを通る場合には、スクリーン64には第15C図に示
すようなニュートンリング68が映る。 したがって、スクリーン64上に映ったニュートンリン
グ68の形状及びその中心点の位置とレーザビーム24
の状態とを1対1に対応させたものを表にしておけば、
レーザビーム24の角度及び位置がどの程度ずれている
かを容易に知ることができる。 なお、スクリーン64の代わりに2次元イメージセンサ
を配置し、画像処理を行ってレーザビーム24の角度ず
れ01及び位置ずれhを求め、これらを表示器に表示さ
せるように構成してもよい。 また、反射干渉器56の平凸レンズ58は光路差分布を
付与するものであり、平凸レンズに限定されず、両凸レ
ンズ、平凹レンズ又はメニスカスレンズ等であってもよ
いことは勿論である。さらに、反射干渉器5Gは、平凸
レンズ58に直接反射膜60及び半透膜62を被着せず
に、平凸レンズ58の凸面を平面鏡に当接させてニュー
トンリングを形成する構成であってもよい。 【発明の効果] 以上説明した如く、本発明に係る光軸調整・ビーム径測
定装置によれば、光軸調整装置とビーム径測定装置とが
有機的一体的に結合しているので、レーザを設置変更す
ることなく、光軸調整作業及びビーム径測定、調整作業
を容易迅速に行なうことができるという優れた効果を奏
する。
第1図は本発明に係る光軸調整・ビーム径測定装置の原
理構成を示すブロック図である。 第2図及び第3図は本発明の第1実施例に係り、第2図
は光軸調整・ビーム径測定装置構成図、第3図はPSD
34A及び34Bにより検出された光点位置ZA及びZ
Bと角度ずれθ1及び位置ずれhとの関係を示す図であ
る。 第4図は本発明の第2実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第5図は本発明の第3実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第6図は本発明の第4実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第7図は本発明の第5実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第8図は本発明の第6実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第9図乃至第10D図は本発明の第7実施例に係り、 第9図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系図、 第10A図は透過型ホログラム54Cの記録図、第10
B図は透過型ホログラム54Cの再生図、第10C図は
透過型ホログラム54Dの記録図、第10D図は透過型
ホログラム54Dの再生図である。 第11図乃至第12B図は本発明の第8実施例に係り、 第11図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系斜視図
、 第12A図は透過型ホログラム70の記録図、第12B
図は透過型ホログラム7oの再生図である。 第13図は本発明の第9実施例に係る光軸調整・ビーム
径測定装置の光学系図である。 第14図乃至第15C図は本発明の第10実施例に係り
、 第14図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系図、 第15A〜15C図はスクリーン64上に映ったニュー
トンリング68を示す図である。 第16図乃至第18図は従来例に係り、第16図は光軸
調整装置構成図、 第17図はビーム径測定装置構成図、 第18図は光検出器25dの出力波形図である。 図中、 14はホルダ 6はレーザ 5はビーム径検出器 5bはスリット円板 5dは光検出器 9.32はハーフミラ− 34A、34BはPSD 54A、?2は反射型ホログラム 54B〜54D、Toは透過型ホログラム56は反射干
渉器 64はスクリーン 68はニュートンリング 1 1光轄調整装置 第 図 30:凸レンズ 29.32:ハーフミラ− 34A、34B : PS;l) \ 占ジ〜34B 光軸調整・ビーム径測定装置の光学系(第4実施f!A
)第6図 ホログラムの記録 第12A図 ホログラムの再生 第128図 16:レーザ 25;ビーム径検出器 72;反射型ホログラム 34 A〜34D: PSD 光粒調整 ビーム径測定装置の光学系(第9実施例)第13図 ビーム径検出器 ハーフミラ− 平凸レンズ 先細調整・ビーム径測定装置の光学系(第10実施例)
第142図 スクリーンに映るニュートンリング 第15A図 第15B図 第15C図 10、レール 14:ホルダ 16:レーザ 1820ニアパーチヤ 22ニスクリーン 光軸調整装置(従来技術) 第16図 光検出器25dの出力波形 第18図
理構成を示すブロック図である。 第2図及び第3図は本発明の第1実施例に係り、第2図
は光軸調整・ビーム径測定装置構成図、第3図はPSD
34A及び34Bにより検出された光点位置ZA及びZ
Bと角度ずれθ1及び位置ずれhとの関係を示す図であ
る。 第4図は本発明の第2実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第5図は本発明の第3実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第6図は本発明の第4実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第7図は本発明の第5実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第8図は本発明の第6実施例に係る光軸調整・ビーム径
測定装置の光学系図である。 第9図乃至第10D図は本発明の第7実施例に係り、 第9図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系図、 第10A図は透過型ホログラム54Cの記録図、第10
B図は透過型ホログラム54Cの再生図、第10C図は
透過型ホログラム54Dの記録図、第10D図は透過型
ホログラム54Dの再生図である。 第11図乃至第12B図は本発明の第8実施例に係り、 第11図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系斜視図
、 第12A図は透過型ホログラム70の記録図、第12B
図は透過型ホログラム7oの再生図である。 第13図は本発明の第9実施例に係る光軸調整・ビーム
径測定装置の光学系図である。 第14図乃至第15C図は本発明の第10実施例に係り
、 第14図は光軸調整・ビーム径測定装置の光学系図、 第15A〜15C図はスクリーン64上に映ったニュー
トンリング68を示す図である。 第16図乃至第18図は従来例に係り、第16図は光軸
調整装置構成図、 第17図はビーム径測定装置構成図、 第18図は光検出器25dの出力波形図である。 図中、 14はホルダ 6はレーザ 5はビーム径検出器 5bはスリット円板 5dは光検出器 9.32はハーフミラ− 34A、34BはPSD 54A、?2は反射型ホログラム 54B〜54D、Toは透過型ホログラム56は反射干
渉器 64はスクリーン 68はニュートンリング 1 1光轄調整装置 第 図 30:凸レンズ 29.32:ハーフミラ− 34A、34B : PS;l) \ 占ジ〜34B 光軸調整・ビーム径測定装置の光学系(第4実施f!A
)第6図 ホログラムの記録 第12A図 ホログラムの再生 第128図 16:レーザ 25;ビーム径検出器 72;反射型ホログラム 34 A〜34D: PSD 光粒調整 ビーム径測定装置の光学系(第9実施例)第13図 ビーム径検出器 ハーフミラ− 平凸レンズ 先細調整・ビーム径測定装置の光学系(第10実施例)
第142図 スクリーンに映るニュートンリング 第15A図 第15B図 第15C図 10、レール 14:ホルダ 16:レーザ 1820ニアパーチヤ 22ニスクリーン 光軸調整装置(従来技術) 第16図 光検出器25dの出力波形 第18図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 レーザ(2)の光軸を調整するために、該レーザから射
出されたレーザビーム(3)の基準軸(4)に対するず
れ量を測定する光軸調整装置(1)と、 入射レーザビーム(6)の径を測定するビーム径測定装
置(5)と、 該光軸調整装置から該レーザビームの一部を取り出して
該ビーム径測定装置に入射させ、該ずれ量が0になった
状態で該ビーム径測定装置に対し正規の位置にレーザビ
ーム(6)が入射するように配置されたレーザビーム分
割手段(7)と、を有することを特徴とする光軸調整・
ビーム径測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060590A JPH03225248A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光軸調整・ビーム径測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2060590A JPH03225248A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光軸調整・ビーム径測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03225248A true JPH03225248A (ja) | 1991-10-04 |
Family
ID=12031900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2060590A Pending JPH03225248A (ja) | 1990-01-31 | 1990-01-31 | 光軸調整・ビーム径測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03225248A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102735423A (zh) * | 2012-06-29 | 2012-10-17 | 西北核技术研究所 | 一种光学系统受迫振动的在线测量方法及装置 |
WO2017026344A1 (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 三菱電機株式会社 | 光検出装置 |
-
1990
- 1990-01-31 JP JP2060590A patent/JPH03225248A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102735423A (zh) * | 2012-06-29 | 2012-10-17 | 西北核技术研究所 | 一种光学系统受迫振动的在线测量方法及装置 |
WO2017026344A1 (ja) * | 2015-08-07 | 2017-02-16 | 三菱電機株式会社 | 光検出装置 |
JPWO2017026344A1 (ja) * | 2015-08-07 | 2018-04-12 | 三菱電機株式会社 | 光検出装置 |
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