JPH05118829A - 曲率半径の測定方法及び測定装置 - Google Patents
曲率半径の測定方法及び測定装置Info
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- JPH05118829A JPH05118829A JP28294191A JP28294191A JPH05118829A JP H05118829 A JPH05118829 A JP H05118829A JP 28294191 A JP28294191 A JP 28294191A JP 28294191 A JP28294191 A JP 28294191A JP H05118829 A JPH05118829 A JP H05118829A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被測定面の曲率半径を非接触でしかも高精度
で簡単に測定できる測定方法及び装置を提供することを
目的としている。 【構成】 干渉光学系内に2つの参照面F1,F2を設
け、第1の参照面と被測定面1の頂点との間ではキャッ
ツアイの干渉縞を形成させ、第2の参照面F2と被測定
面1との間で干渉縞を形成させる。両干渉縞のコントラ
ストが最も鮮明になったところで、第1、第2の参照面
F1,F2間の距離Rを測定すれば被測定面の曲率半径
rを算出できる。2つの参照面で同時に干渉縞を形成で
きるので、測定時間を短縮することができる。
で簡単に測定できる測定方法及び装置を提供することを
目的としている。 【構成】 干渉光学系内に2つの参照面F1,F2を設
け、第1の参照面と被測定面1の頂点との間ではキャッ
ツアイの干渉縞を形成させ、第2の参照面F2と被測定
面1との間で干渉縞を形成させる。両干渉縞のコントラ
ストが最も鮮明になったところで、第1、第2の参照面
F1,F2間の距離Rを測定すれば被測定面の曲率半径
rを算出できる。2つの参照面で同時に干渉縞を形成で
きるので、測定時間を短縮することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、曲面の曲率半径を非接
触で測定する技術に関するものである。
触で測定する技術に関するものである。
【0002】
【従来の技術】現在、被測定面の曲率半径を測定するに
は、接触式の形状測定機、あるいは、被接触式の光プロ
ーブを用いる3次元形状測定機が用いられている。しか
し、前者の接触式では被測定面に傷を付けるおそれがあ
り、後者は測定に時間がかかるという問題があった。
は、接触式の形状測定機、あるいは、被接触式の光プロ
ーブを用いる3次元形状測定機が用いられている。しか
し、前者の接触式では被測定面に傷を付けるおそれがあ
り、後者は測定に時間がかかるという問題があった。
【0003】また、他の公知例として図8に示すような
測定方法もあった。同図において、aは被測定面を、b
は参照面を示す。可干渉光としてのレーザは、参照面b
から矢印の線に沿って被測定面を照射する。このとき、
参照面bから被測定面に向かう入射波面の曲率中心が、
被測定面aの曲率中心Oとほぼ一致するような位置に
し、参照面bからと被測定面aからとの各反射光を重畳
して、できるだけ縞本数の少ない干渉縞を作る。次に、
この位置から被測定面aと参照面bとの相対位置を変化
させ、被測定面をaからa′の位置に移動し、入射波面
の曲率中心Oと被測定面a′の頂点とがほぼ一致する位
置(キャッツアイ干渉縞が出る位置)に移動する。この
ときの被測定面a〜a′の頂点間の距離Lが、被測定面
aの曲率半径となる。
測定方法もあった。同図において、aは被測定面を、b
は参照面を示す。可干渉光としてのレーザは、参照面b
から矢印の線に沿って被測定面を照射する。このとき、
参照面bから被測定面に向かう入射波面の曲率中心が、
被測定面aの曲率中心Oとほぼ一致するような位置に
し、参照面bからと被測定面aからとの各反射光を重畳
して、できるだけ縞本数の少ない干渉縞を作る。次に、
この位置から被測定面aと参照面bとの相対位置を変化
させ、被測定面をaからa′の位置に移動し、入射波面
の曲率中心Oと被測定面a′の頂点とがほぼ一致する位
置(キャッツアイ干渉縞が出る位置)に移動する。この
ときの被測定面a〜a′の頂点間の距離Lが、被測定面
aの曲率半径となる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法で
は、曲率半径が大きい場合には、移動距離Lが大きくな
り、計測が大掛かりになってしまう。また、1つの被測
定面につき必ず参照面をRだけ移動をさせなければなら
ないので、測定に時間がかかる。本発明は、上記の問題
の解決を図ったもので、被測定面の曲率半径を非接触で
しかも高精度で簡単に測定できる測定方法及び装置を提
供することを目的としている。
は、曲率半径が大きい場合には、移動距離Lが大きくな
り、計測が大掛かりになってしまう。また、1つの被測
定面につき必ず参照面をRだけ移動をさせなければなら
ないので、測定に時間がかかる。本発明は、上記の問題
の解決を図ったもので、被測定面の曲率半径を非接触で
しかも高精度で簡単に測定できる測定方法及び装置を提
供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明の方法は、同一光源からの可干渉光を被測定
面と基準になる参照面とに照射し、これら両面からの反
射光を重畳して干渉縞を形成する方法において、第1の
参照面の曲率半径中心と被測定面の曲率半径中心とを一
致させて干渉縞を形成すると共に第2の参照面の曲率半
径中心と被測定面の表面とを一致させて干渉縞を形成す
る工程と、第1及び第2の参照面間の距離を測定して被
測定面の曲率半径を求める工程とからなる構成を特徴と
している。
めに本発明の方法は、同一光源からの可干渉光を被測定
面と基準になる参照面とに照射し、これら両面からの反
射光を重畳して干渉縞を形成する方法において、第1の
参照面の曲率半径中心と被測定面の曲率半径中心とを一
致させて干渉縞を形成すると共に第2の参照面の曲率半
径中心と被測定面の表面とを一致させて干渉縞を形成す
る工程と、第1及び第2の参照面間の距離を測定して被
測定面の曲率半径を求める工程とからなる構成を特徴と
している。
【0006】この方法において、前記第1及び第2の参
照面の距離を測定して被測定面の曲率半径を求める工程
が、干渉縞の像をセンサ上に結像して該センサの出力か
ら干渉縞のコントラストを求めてデフォーカス信号を発
生する工程と、該デフォーカス信号が減少する方向に第
1、第2の参照面を移動する工程とをさらに含む構成が
望ましい。
照面の距離を測定して被測定面の曲率半径を求める工程
が、干渉縞の像をセンサ上に結像して該センサの出力か
ら干渉縞のコントラストを求めてデフォーカス信号を発
生する工程と、該デフォーカス信号が減少する方向に第
1、第2の参照面を移動する工程とをさらに含む構成が
望ましい。
【0007】また、光源からの光を集束レンズにより平
行光束にして第1、第2のレンズに入射させる工程と、
該第1のレンズによって被測定面の曲率半径中心に集束
するように照射すると共に第2のレンズにより被測定面
の頂点に集束するように照射する工程と、被測定面から
反射された光束を第1、第2のレンズを逆行させて平行
光束にし前記集束レンズを逆行させる工程と、第1、第
2のレンズの光束が集束レンズの焦点で集束した後の各
光束をそれぞれ二分割した受光素子で受光する工程と、
前記集点にナイフエッジを設けて第1、第2のレンズが
デフォーカスしたとき光束の一部をカットすることによ
って前記2分割受光素子に生じる出力のアンバランスか
らデフォーカス量を求める工程と、該デフォーカス量に
応じて前記第1、第2のレンズを移動させる工程と、フ
ォーカスが合ったときの第1及び第2のレンズ間の距離
を測定して被測定面の曲率半径を求める工程とからなる
構成としてもよい。
行光束にして第1、第2のレンズに入射させる工程と、
該第1のレンズによって被測定面の曲率半径中心に集束
するように照射すると共に第2のレンズにより被測定面
の頂点に集束するように照射する工程と、被測定面から
反射された光束を第1、第2のレンズを逆行させて平行
光束にし前記集束レンズを逆行させる工程と、第1、第
2のレンズの光束が集束レンズの焦点で集束した後の各
光束をそれぞれ二分割した受光素子で受光する工程と、
前記集点にナイフエッジを設けて第1、第2のレンズが
デフォーカスしたとき光束の一部をカットすることによ
って前記2分割受光素子に生じる出力のアンバランスか
らデフォーカス量を求める工程と、該デフォーカス量に
応じて前記第1、第2のレンズを移動させる工程と、フ
ォーカスが合ったときの第1及び第2のレンズ間の距離
を測定して被測定面の曲率半径を求める工程とからなる
構成としてもよい。
【0008】本発明の装置は、同一光源からの可干渉光
を被測定面と基準になる参照面とに照射し、これら両面
からの反射光を重畳して干渉縞を形成する方法におい
て、光軸上を移動自在で球面を有する第1、第2の参照
面と、各参照面の位置を検出する手段とを有する構成を
特徴としている。この場合、前記干渉縞を結像するディ
テクタと、該ディテクタの出力から各干渉縞のデフォー
カスを算出する手段と、該デフォーカス算出手段の出力
に応じて各参照面を駆動する参照面制御手段とを有する
構成とすることが望ましい。
を被測定面と基準になる参照面とに照射し、これら両面
からの反射光を重畳して干渉縞を形成する方法におい
て、光軸上を移動自在で球面を有する第1、第2の参照
面と、各参照面の位置を検出する手段とを有する構成を
特徴としている。この場合、前記干渉縞を結像するディ
テクタと、該ディテクタの出力から各干渉縞のデフォー
カスを算出する手段と、該デフォーカス算出手段の出力
に応じて各参照面を駆動する参照面制御手段とを有する
構成とすることが望ましい。
【0009】または、光源からの光を平行光束にする集
束レンズと、光軸上を移動自在な第1、第2のレンズ
と、該各レンズを別々に移動するレンズ駆動手段と、前
記集束レンズの焦点に置かれたナイフエッジと、第1、
第2のレンズから集束レンズを経て該集束レンズの焦点
を通過した各光束をそれぞれ受光する2分割受光素子
と、該2分割受光素子の出力の差を測定する比較手段
と、両レンズの位置を検出する手段と、前記比較手段の
出力に応じてレンズ駆動手段を制御して前記第1、第2
のレンズのフォーカスを合わせるレンズ制御手段とから
なる構成とすることもできる。
束レンズと、光軸上を移動自在な第1、第2のレンズ
と、該各レンズを別々に移動するレンズ駆動手段と、前
記集束レンズの焦点に置かれたナイフエッジと、第1、
第2のレンズから集束レンズを経て該集束レンズの焦点
を通過した各光束をそれぞれ受光する2分割受光素子
と、該2分割受光素子の出力の差を測定する比較手段
と、両レンズの位置を検出する手段と、前記比較手段の
出力に応じてレンズ駆動手段を制御して前記第1、第2
のレンズのフォーカスを合わせるレンズ制御手段とから
なる構成とすることもできる。
【0010】
【作用】干渉光学系内に2つの参照面を設け、第1の参
照面の曲率半径中心と被測定面の曲率半径中心とを一致
させて干渉縞を形成させ、第2の参照面と被測定面の頂
点との間ではキャッツアイの干渉縞を形成させる。両干
渉縞のコントラストが最も鮮明になったところで、第
1、第2の参照面間の距離を測定すれば被測定面の曲率
半径を算出できる。2つの参照面で同時に干渉縞を形成
できるので、測定時間を短縮することができる。
照面の曲率半径中心と被測定面の曲率半径中心とを一致
させて干渉縞を形成させ、第2の参照面と被測定面の頂
点との間ではキャッツアイの干渉縞を形成させる。両干
渉縞のコントラストが最も鮮明になったところで、第
1、第2の参照面間の距離を測定すれば被測定面の曲率
半径を算出できる。2つの参照面で同時に干渉縞を形成
できるので、測定時間を短縮することができる。
【0011】又は、光源からの光束を集束レンズで平行
にし、第1、第2のレンズにこの平行光束を入射させ、
第1のレンズでは、被測定面に垂直に入射するように屈
折させ、第2のレンズでは、被測定面の頂点に集束する
ように屈折させる。被測定面で反射された2種類の光束
は、それぞれ元の光路を戻り、総て集束レンズの焦点に
集束した後、結像レンズで2分割受光素子の上に結像す
る。何れかのレンズがデフォーカスしている場合は、こ
の集束点が焦点の前後にずれるので、集束レンズの焦点
にナイフエッジを設けておけば、デフォーカスした場合
の光束を一部カットすることになる。したがって、デフ
ォーカスしている場合は、2分割受光素子の双方の受光
素子への入射光量がバランスしないので、このアンバラ
ンスからデフォーカスの量と方向とを検知することがで
きる。したがって、このデフォーカス信号を第1、第2
のレンズの駆動手段に送って制御すれば、フォーカス合
わせができる。そして、フォーカスが合ったときの第
1、第2レンズ間の位置を検出すれば距離が求まり、被
測定面の曲率半径を求めることができる。
にし、第1、第2のレンズにこの平行光束を入射させ、
第1のレンズでは、被測定面に垂直に入射するように屈
折させ、第2のレンズでは、被測定面の頂点に集束する
ように屈折させる。被測定面で反射された2種類の光束
は、それぞれ元の光路を戻り、総て集束レンズの焦点に
集束した後、結像レンズで2分割受光素子の上に結像す
る。何れかのレンズがデフォーカスしている場合は、こ
の集束点が焦点の前後にずれるので、集束レンズの焦点
にナイフエッジを設けておけば、デフォーカスした場合
の光束を一部カットすることになる。したがって、デフ
ォーカスしている場合は、2分割受光素子の双方の受光
素子への入射光量がバランスしないので、このアンバラ
ンスからデフォーカスの量と方向とを検知することがで
きる。したがって、このデフォーカス信号を第1、第2
のレンズの駆動手段に送って制御すれば、フォーカス合
わせができる。そして、フォーカスが合ったときの第
1、第2レンズ間の位置を検出すれば距離が求まり、被
測定面の曲率半径を求めることができる。
【0012】
【実施例】以下に図面を用いて本発明の実施例を説明す
る。図1は、本発明の基本原理を示す図で、(a) は被測
定面1が凸の球面の場合で、(b) は凹の球面の場合であ
る。図において、F1,F2は第1、第2の参照面で、
通常これはレンズの被測定面側の面を半透鏡にすること
により作成される。第1の参照面F1は、第2の参照面
F2の中心部を切り取って形成したもので、第1、第2
の参照面は、同じ曲率半径の球面からなっている。
る。図1は、本発明の基本原理を示す図で、(a) は被測
定面1が凸の球面の場合で、(b) は凹の球面の場合であ
る。図において、F1,F2は第1、第2の参照面で、
通常これはレンズの被測定面側の面を半透鏡にすること
により作成される。第1の参照面F1は、第2の参照面
F2の中心部を切り取って形成したもので、第1、第2
の参照面は、同じ曲率半径の球面からなっている。
【0013】図の左方から第1の参照面F1に入射した
干渉光は、その一部が参照面F1で反射され、残りが被
測定面1の頂点に集束するように進んで、いわゆるキャ
ッツアイの状態になっている。第2の参照面F2に入射
した干渉光は、その一部が参照面F2で反射され、残り
が被測定面1の曲率半径中心Oに集束するように進む。
これらは、両方とも干渉縞が形成される状態である。た
だし、実際に干渉縞を発生させる場合には、参照面F
1,F2又は被測定面1に微小なチルトを与え、等厚干
渉縞を形成させることになる。そして、参照面F1,F
2との間隔Rを測定すれば、その値が被測定面1の曲率
半径rに等しいことになる。
干渉光は、その一部が参照面F1で反射され、残りが被
測定面1の頂点に集束するように進んで、いわゆるキャ
ッツアイの状態になっている。第2の参照面F2に入射
した干渉光は、その一部が参照面F2で反射され、残り
が被測定面1の曲率半径中心Oに集束するように進む。
これらは、両方とも干渉縞が形成される状態である。た
だし、実際に干渉縞を発生させる場合には、参照面F
1,F2又は被測定面1に微小なチルトを与え、等厚干
渉縞を形成させることになる。そして、参照面F1,F
2との間隔Rを測定すれば、その値が被測定面1の曲率
半径rに等しいことになる。
【0014】以上から、参照面F1,F2を光軸上で移
動させ、干渉縞を観測して、図1のような配置を実現す
れば、被測定面の曲率半径を求めることができる。な
お、説明の都合上、参照面F1とF2との曲率半径を同
一としたが、これらの曲率半径が相違していても、既知
の値であれば、Rの値から簡単な計算によって被測定面
1の曲率半径rを求めることができる。図1(b) は、被
測定面1が凹面であるから、参照面F1とF2が(a) の
位置と左右反対になっているが、その他は図1(a) と同
様である。
動させ、干渉縞を観測して、図1のような配置を実現す
れば、被測定面の曲率半径を求めることができる。な
お、説明の都合上、参照面F1とF2との曲率半径を同
一としたが、これらの曲率半径が相違していても、既知
の値であれば、Rの値から簡単な計算によって被測定面
1の曲率半径rを求めることができる。図1(b) は、被
測定面1が凹面であるから、参照面F1とF2が(a) の
位置と左右反対になっているが、その他は図1(a) と同
様である。
【0015】図2は、図1によって形成された干渉縞2
を光学系によってスクリーンとしてのディテクタ3上に
結像させた図で、真中の干渉縞21が参照面F1により
形成されるキャッツアイの干渉縞、両側の干渉縞22が
参照面F2により形成される両曲率中心が一致した干渉
縞である。
を光学系によってスクリーンとしてのディテクタ3上に
結像させた図で、真中の干渉縞21が参照面F1により
形成されるキャッツアイの干渉縞、両側の干渉縞22が
参照面F2により形成される両曲率中心が一致した干渉
縞である。
【0016】図3は、本発明による測定装置の実施例の
構成を示す図である。被測定面1は、図1と同様であ
る。第1参照面F1、第2参照面F2は、それぞれ第
1、第2のレンズL1、L2の被測定面側の面であり、
第2のレンズL2の中心部を切り取って第1のレンズL
1を形成したものである。また、レンズL1,L2の焦
点は、参照面F1,F2の曲率半径中心と一致してい
る。ディテクタ3としては、ラインセンサやCCD等、
種々のセンサを使用することができるが、このディテク
タ3は、結像された干渉縞の明暗のコントラストをディ
テクタ3を構成する各素子の出力差として出力する。
構成を示す図である。被測定面1は、図1と同様であ
る。第1参照面F1、第2参照面F2は、それぞれ第
1、第2のレンズL1、L2の被測定面側の面であり、
第2のレンズL2の中心部を切り取って第1のレンズL
1を形成したものである。また、レンズL1,L2の焦
点は、参照面F1,F2の曲率半径中心と一致してい
る。ディテクタ3としては、ラインセンサやCCD等、
種々のセンサを使用することができるが、このディテク
タ3は、結像された干渉縞の明暗のコントラストをディ
テクタ3を構成する各素子の出力差として出力する。
【0017】4は光源で、可干渉性の高いガスレーザ又
は半導体レーザ等が使用される。5はビームエクスパン
ダで、光源4からの狭い光束を適当な大きさに拡げるも
のである。6は光アイソレータで、ビームスプリッタ6
a、λ/4板6b及び反射面6cを有する。7は集束レ
ンズで、光源4から来た可干渉光を平行な光束にして次
のレンズL1,L2に入射させる。8,9は、それぞれ
参照面F1及びF2の駆動手段である。これらは共に、
リニアアクチュエータや、ラックとピニオン等で構成さ
れた電動式の駆動手段で、電気信号により参照面F1,
F2(すなわちレンズL1,L2)を光軸に沿って自在
に進退させる。また、これらの参照面駆動手段8,9に
は差動トランス等からなる光軸上の座標を高精度に検知
できる位置検出手段10,11が設けられている。
は半導体レーザ等が使用される。5はビームエクスパン
ダで、光源4からの狭い光束を適当な大きさに拡げるも
のである。6は光アイソレータで、ビームスプリッタ6
a、λ/4板6b及び反射面6cを有する。7は集束レ
ンズで、光源4から来た可干渉光を平行な光束にして次
のレンズL1,L2に入射させる。8,9は、それぞれ
参照面F1及びF2の駆動手段である。これらは共に、
リニアアクチュエータや、ラックとピニオン等で構成さ
れた電動式の駆動手段で、電気信号により参照面F1,
F2(すなわちレンズL1,L2)を光軸に沿って自在
に進退させる。また、これらの参照面駆動手段8,9に
は差動トランス等からなる光軸上の座標を高精度に検知
できる位置検出手段10,11が設けられている。
【0018】光アイソレータ6とディテクタ3との間に
は、結像レンズ12が設けられ、集束レンズ7から戻っ
てきた光束が焦点Fで集束した後の発散光を平行光にし
てディテクタ3に入射させる。符号13はデフォーカス
算出手段で、14は参照面制御手段である。図4は、図
3の測定装置のブロック図を示す。
は、結像レンズ12が設けられ、集束レンズ7から戻っ
てきた光束が焦点Fで集束した後の発散光を平行光にし
てディテクタ3に入射させる。符号13はデフォーカス
算出手段で、14は参照面制御手段である。図4は、図
3の測定装置のブロック図を示す。
【0019】次に、本装置の作用を説明する。光源4か
らの可干渉光は、直線偏光として発光されるが、先ず、
ビームエクスパンダ5を透過して所定の広がりをもつ光
束に拡大され、次に光アイソレータ6に入射する。ビー
ムエクスパンダ6aの反射面6cはこの方向の直線偏光
を透過し、これと直交する直線偏光は反射する。したが
って、光アイソレータ6に入射した可干渉光は反射面6
cを透過し、1/4λ板6bを透過して円偏光となり、
集束レンズ7に入射する。集束レンズ7はこれを平行な
光束として第1、第2のレンズL1,L2に入射する。
そして各々一部の光束がレンズの最終面としての参照面
F1,F2で反射されて参照光となるが、残りはレンズ
L1,L2を透過して被測定面1に達し、ここで反射さ
れ被検光となって同一光路を戻る。被検光は参照面F
1,F2まで戻って参照光と重畳され、集束レンズ7を
透過し、さらに1/4λ板6bを透過して光源の直線偏
光とは直交する方向の直線偏光となる。そのため、ビー
ムエクスパンダ6aの反射面6cで反射されて図の下方
に進み、集束レンズの焦点Pに集束した後、結像レンズ
12に向かい、ディテクタ3に干渉縞の像を作る。
らの可干渉光は、直線偏光として発光されるが、先ず、
ビームエクスパンダ5を透過して所定の広がりをもつ光
束に拡大され、次に光アイソレータ6に入射する。ビー
ムエクスパンダ6aの反射面6cはこの方向の直線偏光
を透過し、これと直交する直線偏光は反射する。したが
って、光アイソレータ6に入射した可干渉光は反射面6
cを透過し、1/4λ板6bを透過して円偏光となり、
集束レンズ7に入射する。集束レンズ7はこれを平行な
光束として第1、第2のレンズL1,L2に入射する。
そして各々一部の光束がレンズの最終面としての参照面
F1,F2で反射されて参照光となるが、残りはレンズ
L1,L2を透過して被測定面1に達し、ここで反射さ
れ被検光となって同一光路を戻る。被検光は参照面F
1,F2まで戻って参照光と重畳され、集束レンズ7を
透過し、さらに1/4λ板6bを透過して光源の直線偏
光とは直交する方向の直線偏光となる。そのため、ビー
ムエクスパンダ6aの反射面6cで反射されて図の下方
に進み、集束レンズの焦点Pに集束した後、結像レンズ
12に向かい、ディテクタ3に干渉縞の像を作る。
【0020】ディテクタ3の受光素子は、干渉縞の明暗
に応じた出力の干渉縞信号を出し、次のデフォーカス算
出手段13に入力する。デフォーカス算出手段13では
次のようにしてデフォーカス量を算出する。すなわち、
フォーカスずれがあれば、干渉縞の明暗の差としてのデ
ィテクタの出力差は小さく、フォーカスが合っていると
きが、もっとも出力差が大きくなる。そして、フォーカ
スが合っている場合の出力差は予めデフォーカス算出手
段13内にセットされており、この値との差がデフォー
カス量として出力され、参照面制御手段14に入力され
て、ここから参照面駆動手段8,9に移動の指示がされ
る。ただし、このデフォーカス量だけでは方向が不明な
ので、参照面F1,F2を被測定面1に近づけるのか、
遠ざけるのか分からない。そのため、デフォーカスが検
知されると、とりあえずどちらかに若干移動し、その結
果デフォーカス量が減少したら正しい方向としてそのま
まデフォーカス量が0になるまで移動を続け、もしデフ
ォーカス量が増加したら逆であるから移動方向を反転し
てデフォーカス量が0になるまで移動を続ける。
に応じた出力の干渉縞信号を出し、次のデフォーカス算
出手段13に入力する。デフォーカス算出手段13では
次のようにしてデフォーカス量を算出する。すなわち、
フォーカスずれがあれば、干渉縞の明暗の差としてのデ
ィテクタの出力差は小さく、フォーカスが合っていると
きが、もっとも出力差が大きくなる。そして、フォーカ
スが合っている場合の出力差は予めデフォーカス算出手
段13内にセットされており、この値との差がデフォー
カス量として出力され、参照面制御手段14に入力され
て、ここから参照面駆動手段8,9に移動の指示がされ
る。ただし、このデフォーカス量だけでは方向が不明な
ので、参照面F1,F2を被測定面1に近づけるのか、
遠ざけるのか分からない。そのため、デフォーカスが検
知されると、とりあえずどちらかに若干移動し、その結
果デフォーカス量が減少したら正しい方向としてそのま
まデフォーカス量が0になるまで移動を続け、もしデフ
ォーカス量が増加したら逆であるから移動方向を反転し
てデフォーカス量が0になるまで移動を続ける。
【0021】以上の構成において、ディテクタ3、デフ
ォーカス算出手段13及び参照面制御手段14は、第
1、第2の参照面F1,F2に対応して切り換えられる
構成になっており、たとえば、一方に切り換えた状態で
は第1の参照面F1について測定、制御を行い、他方に
切り換えれば参照面F2について測定、制御を行うよう
になっている。ただし、ディテクタ3、デフォーカス算
出手段13及び参照面制御手段14を並列に2つずつ設
ければ、第1、第2の参照面F1,F2について同時に
測定及び制御をすることができる。
ォーカス算出手段13及び参照面制御手段14は、第
1、第2の参照面F1,F2に対応して切り換えられる
構成になっており、たとえば、一方に切り換えた状態で
は第1の参照面F1について測定、制御を行い、他方に
切り換えれば参照面F2について測定、制御を行うよう
になっている。ただし、ディテクタ3、デフォーカス算
出手段13及び参照面制御手段14を並列に2つずつ設
ければ、第1、第2の参照面F1,F2について同時に
測定及び制御をすることができる。
【0022】図5は、非球面としてのトロイダル面の曲
率半径測定に使用する本発明の装置である。同図におい
て、新たに付加された構成について説明する。15は被
検体で、被測定面15aとしてのノーマルトロイダル面
を有する。このトロイダル面は、G主径線をR主径線に
沿って回転して形成されたものである。16は被検体1
5をR主径線に沿って回転するための支持台で、図示し
ないDCサーボモータやステッピングモータ等によって
駆動される。17はゴースト光や反射光等の不要な光を
カットする空間フィルタである。
率半径測定に使用する本発明の装置である。同図におい
て、新たに付加された構成について説明する。15は被
検体で、被測定面15aとしてのノーマルトロイダル面
を有する。このトロイダル面は、G主径線をR主径線に
沿って回転して形成されたものである。16は被検体1
5をR主径線に沿って回転するための支持台で、図示し
ないDCサーボモータやステッピングモータ等によって
駆動される。17はゴースト光や反射光等の不要な光を
カットする空間フィルタである。
【0023】次に、この実施例の作用を説明する。光源
4からの可干渉光はビームエクスパンダ5、空間フィル
タ17、光アイソレータ6、集束レンズ7を透過して第
1,第2のレンズL1,L2に入射する。これらのレン
ズの最終面は、半透鏡としての参照面F1,F2となっ
ており、ここで入射した可干渉光の一部が反射され、残
りがトロイダル面である被測定面15aに達し反射され
る。参照面F1の曲率中心は被測定面15aの頂点に一
致しており、参照面F2の曲率中心は、被測定面15a
のG主径線(CD)の仕上がり曲率中心とほぼ一致して
いる。また、この参照面F1,F2又は被測定面15a
は、x−z断面内で若干シフト及び/又はチルト可能に
なっている。
4からの可干渉光はビームエクスパンダ5、空間フィル
タ17、光アイソレータ6、集束レンズ7を透過して第
1,第2のレンズL1,L2に入射する。これらのレン
ズの最終面は、半透鏡としての参照面F1,F2となっ
ており、ここで入射した可干渉光の一部が反射され、残
りがトロイダル面である被測定面15aに達し反射され
る。参照面F1の曲率中心は被測定面15aの頂点に一
致しており、参照面F2の曲率中心は、被測定面15a
のG主径線(CD)の仕上がり曲率中心とほぼ一致して
いる。また、この参照面F1,F2又は被測定面15a
は、x−z断面内で若干シフト及び/又はチルト可能に
なっている。
【0024】参照面F1,F2で反射された参照光と、
被測定面15aで反射された被検光は、来た光路を戻っ
て参照面F1,F2のところで重なり合う。そして、参
照面F1はキャッツアイの干渉縞を形成し、参照面F2
は、その球面と被測定面15aとがほぼ平行と見なせる
G主径線に平行なスリット状の測定部分ないし測定断面
について干渉縞を形成する。これらの干渉縞は、図2に
示すように結像レンズ12を介してディテクタ3上に結
像される。
被測定面15aで反射された被検光は、来た光路を戻っ
て参照面F1,F2のところで重なり合う。そして、参
照面F1はキャッツアイの干渉縞を形成し、参照面F2
は、その球面と被測定面15aとがほぼ平行と見なせる
G主径線に平行なスリット状の測定部分ないし測定断面
について干渉縞を形成する。これらの干渉縞は、図2に
示すように結像レンズ12を介してディテクタ3上に結
像される。
【0025】以上の構成に図3,4の構成を付加する
と、一測定断面についての曲率半径の測定ができ、さら
に、支持台16をR主径線に沿って回動すると、被測定
面15aの任意の測定断面について曲率半径の測定がで
きることになる。したがって、この構成の装置では、被
測定面の曲率半径が支持台の走査に応じて変化する非球
面についても、任意の断面における曲率半径の測定が可
能である。
と、一測定断面についての曲率半径の測定ができ、さら
に、支持台16をR主径線に沿って回動すると、被測定
面15aの任意の測定断面について曲率半径の測定がで
きることになる。したがって、この構成の装置では、被
測定面の曲率半径が支持台の走査に応じて変化する非球
面についても、任意の断面における曲率半径の測定が可
能である。
【0026】図6は、本発明の他の実施例の装置を示す
図である。この実施例においては、干渉縞を形成する必
要がなく、したがって、参照面を使用していない。図3
の構成と共通する部分については省略し、相違する点を
中心に説明する。まず、前述したように第1、第2のレ
ンズL1,L2には、参照面がない。そして集束レンズ
7の焦点Pにはナイフエッジ18が設けられ、ディテク
タ3の位置には、4分割受光素子19が置かれている。
図である。この実施例においては、干渉縞を形成する必
要がなく、したがって、参照面を使用していない。図3
の構成と共通する部分については省略し、相違する点を
中心に説明する。まず、前述したように第1、第2のレ
ンズL1,L2には、参照面がない。そして集束レンズ
7の焦点Pにはナイフエッジ18が設けられ、ディテク
タ3の位置には、4分割受光素子19が置かれている。
【0027】図7に示すように、この4分割受光素子1
9は、S1からS4で示された4つのフォトダイオード
から構成されるが、内側のS2とS3で一つの2分割受
光素子19aを構成し、外側のS1とS4でまた別の2
分割受光素子19bを構成している。
9は、S1からS4で示された4つのフォトダイオード
から構成されるが、内側のS2とS3で一つの2分割受
光素子19aを構成し、外側のS1とS4でまた別の2
分割受光素子19bを構成している。
【0028】図6に戻り、20,21は比較手段で、こ
のうち比較手段20はフォトダイオードS2とS3の出
力を比較し、比較手段21はS1とS4の出力を比較す
る。14′は、比較手段20,21の出力を受けてレン
ズ駆動手段8′,9′を制御するレンズ制御手段で、こ
れは図3に示す参照面制御手段14と実質的に同じであ
り、レンズ駆動手段8′,9′は、参照面駆動手段8,
9と実質的に同じものである。
のうち比較手段20はフォトダイオードS2とS3の出
力を比較し、比較手段21はS1とS4の出力を比較す
る。14′は、比較手段20,21の出力を受けてレン
ズ駆動手段8′,9′を制御するレンズ制御手段で、こ
れは図3に示す参照面制御手段14と実質的に同じであ
り、レンズ駆動手段8′,9′は、参照面駆動手段8,
9と実質的に同じものである。
【0029】なお、この実施例では、干渉縞を形成する
必要がないので、通常の干渉性の少ない自然光線を使用
できる。その場合は、ビームスプリッタ6aの反射面6
cには半透鏡を使用する。また、1/4λ板も不要にな
り、装置を安価に製造できるようになる。
必要がないので、通常の干渉性の少ない自然光線を使用
できる。その場合は、ビームスプリッタ6aの反射面6
cには半透鏡を使用する。また、1/4λ板も不要にな
り、装置を安価に製造できるようになる。
【0030】次に、この実施例の作用を説明する。光源
4から発された光束は集束レンズ7で平行光束にされ、
第1、第2のレンズL1,L2に入射し、ここで屈折さ
れる。そして、第1のレンズL1を透過してから射出さ
れた光束は、被測定面1の頂点に集束し、キャッツアイ
の状態になって反射される。第2のレンズL2を透過し
てから射出された光束は、被測定面1の曲率中心Oに集
束するように進み、被測定面1で反射される。そして各
反射光束は、元来た光路をそれぞれのレンズL1,L2
へと戻り、平行な光束に戻されて集束レンズ7で屈折さ
れ、反射面6cで反射されて焦点Pで集束し、結像レン
ズ12を経て4分割受光素子19に入射する。
4から発された光束は集束レンズ7で平行光束にされ、
第1、第2のレンズL1,L2に入射し、ここで屈折さ
れる。そして、第1のレンズL1を透過してから射出さ
れた光束は、被測定面1の頂点に集束し、キャッツアイ
の状態になって反射される。第2のレンズL2を透過し
てから射出された光束は、被測定面1の曲率中心Oに集
束するように進み、被測定面1で反射される。そして各
反射光束は、元来た光路をそれぞれのレンズL1,L2
へと戻り、平行な光束に戻されて集束レンズ7で屈折さ
れ、反射面6cで反射されて焦点Pで集束し、結像レン
ズ12を経て4分割受光素子19に入射する。
【0031】4分割受光素子の内、内側の2分割受光素
子19aには、集束レンズ7の光軸近傍の光束、すなわ
ち第1のレンズL1の光束が入射しており、外側の2分
割受光素子19bには集束レンズ7の周辺光束、すなわ
ち第2のレンズL2の光束が入射している。
子19aには、集束レンズ7の光軸近傍の光束、すなわ
ち第1のレンズL1の光束が入射しており、外側の2分
割受光素子19bには集束レンズ7の周辺光束、すなわ
ち第2のレンズL2の光束が入射している。
【0032】ところで、4分割受光素子19の中心は集
束レンズ7の光軸と一致しているので、被測定面1と第
1、第2のレンズL1,L2の相対位置が図6に示すフ
ォーカスした位置にあれば、ナイフエッジ18は全く光
束を遮らず、フォトダイオードS2とS3との出力はバ
ランスするはずである。同様にフォトダイオードS1と
S4との出力もバランスするはずである。
束レンズ7の光軸と一致しているので、被測定面1と第
1、第2のレンズL1,L2の相対位置が図6に示すフ
ォーカスした位置にあれば、ナイフエッジ18は全く光
束を遮らず、フォトダイオードS2とS3との出力はバ
ランスするはずである。同様にフォトダイオードS1と
S4との出力もバランスするはずである。
【0033】しかし、仮に被測定面1と第1、第2のレ
ンズL1,L2の相対位置が図の位置になくて、それよ
り離れ過ぎていたり、近すぎていたりすると、被測定面
1から反射して第1、第2のレンズに戻る光量が減少す
ると同時に集束する点もP点の上下いずれかの方向に移
動する。集束点が移動すると、ナイフエッジ18は相対
的に18′又は18″の位置移動したのと同様になり、
光束の一部をカットしてしまう。したがって、カットさ
れた分だけ、フォトダイオードS2とS3又はS1とS
4の出力バランスがくずれることになる。また、どちら
のフォトダイオードの出力が低下したかをみれば、デフ
ォーカスの方向も知ることができる。
ンズL1,L2の相対位置が図の位置になくて、それよ
り離れ過ぎていたり、近すぎていたりすると、被測定面
1から反射して第1、第2のレンズに戻る光量が減少す
ると同時に集束する点もP点の上下いずれかの方向に移
動する。集束点が移動すると、ナイフエッジ18は相対
的に18′又は18″の位置移動したのと同様になり、
光束の一部をカットしてしまう。したがって、カットさ
れた分だけ、フォトダイオードS2とS3又はS1とS
4の出力バランスがくずれることになる。また、どちら
のフォトダイオードの出力が低下したかをみれば、デフ
ォーカスの方向も知ることができる。
【0034】そこで、比較手段20,21でこのアンバ
ランス量を測定すれば、デフォーカス量とその方向を知
ることができ、このデフォーカス量に応じた信号をレン
ズ制御手段14′に入力すれば、以下は、図3で説明し
たのと同様にして曲率半径を求めることができる。な
お、本発明の実施例において、レンズL1はレンズL2
の中心部分を分割して形成形成されているが、この方法
に限定されるものではなく、たとえば、半円形の2枚に
分割すること等によっても形成可能である。
ランス量を測定すれば、デフォーカス量とその方向を知
ることができ、このデフォーカス量に応じた信号をレン
ズ制御手段14′に入力すれば、以下は、図3で説明し
たのと同様にして曲率半径を求めることができる。な
お、本発明の実施例において、レンズL1はレンズL2
の中心部分を分割して形成形成されているが、この方法
に限定されるものではなく、たとえば、半円形の2枚に
分割すること等によっても形成可能である。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、球
面及び非球面の曲率半径の測定が、非接触でしかも高精
度に測定できる。また、2つの参照面で同時に干渉縞を
形成できるので、測定時間を短縮することができる。
面及び非球面の曲率半径の測定が、非接触でしかも高精
度に測定できる。また、2つの参照面で同時に干渉縞を
形成できるので、測定時間を短縮することができる。
【0036】干渉縞を結像するディテクタと、該ディテ
クタの出力から各干渉縞のデフォーカスを算出する手段
と、参照面を光軸に沿って移動させる参照面駆動手段
と、該デフォーカス算出手段の出力に応じて参照面駆動
手段を制御する参照面制御手段とを有する構成とすれ
ば、参照面のフォーカス位置を、簡単に、かつ精度良く
求めることができる。
クタの出力から各干渉縞のデフォーカスを算出する手段
と、参照面を光軸に沿って移動させる参照面駆動手段
と、該デフォーカス算出手段の出力に応じて参照面駆動
手段を制御する参照面制御手段とを有する構成とすれ
ば、参照面のフォーカス位置を、簡単に、かつ精度良く
求めることができる。
【0037】また、集束レンズの焦点にナイフエッジを
置き、その後方に第1、第2のレンズの光束を受光する
2分割受光素子を設ける構成とすれば、干渉縞を形成す
る必要がなくなるので、参照面やレーザビーム等の可干
渉光の必要がなくなり、装置を安価に製造できる。さら
に、参照面駆動手段やレンズ駆動手段を設けて参照面ま
たはレンズを移動するので、被測定面を動かさなくてよ
い。等々の格別の効果を奏するものである。
置き、その後方に第1、第2のレンズの光束を受光する
2分割受光素子を設ける構成とすれば、干渉縞を形成す
る必要がなくなるので、参照面やレーザビーム等の可干
渉光の必要がなくなり、装置を安価に製造できる。さら
に、参照面駆動手段やレンズ駆動手段を設けて参照面ま
たはレンズを移動するので、被測定面を動かさなくてよ
い。等々の格別の効果を奏するものである。
【図1】本発明の測定原理を説明する図で、(a) は被測
定面が凸面の場合、(b) は凹面の場合の図である。
定面が凸面の場合、(b) は凹面の場合の図である。
【図2】2つの参照面を用いて形成された干渉縞が、デ
ィテクタ上に結像した状態を示す図である。
ィテクタ上に結像した状態を示す図である。
【図3】本発明の測定装置の構成図である。
【図4】参照面をフォーカス制御するためのブロック図
である。
である。
【図5】本発明をトロイダル面に適用した装置の図で、
(a) はy−z面図、(b) はx−z面図である。
(a) はy−z面図、(b) はx−z面図である。
【図6】干渉縞を形成しない本発明の実施例の構成を示
す図である。
す図である。
【図7】4分割素子の構成を示す平面図である。
【図8】従来の曲率半径測定方法を説明する図である。
1 被測定面 2 干渉縞 3 ディテクタ 4 光源 7 集束レンズ 8,9 参照面駆動手段 8′,9′ レンズ駆動手段 10,11 位置検出手段 12 結像レンズ 13 デフォーカス算出手段 14 参照面制御手段 14′ レンズ制御手段 15a 被測定面 18 ナイフエッジ 19a,19b 2分割受光素子 20,21 比較手段 L1 第1のレンズ L2 第2のレンズ F1 第1の参照面 F2 第2の参照面
Claims (10)
- 【請求項1】 同一光源からの可干渉光を被測定面と基
準になる参照面とに照射し、これら両面からの反射光を
重畳して干渉縞を形成する方法において、 第1の参照面の曲率半径中心と被測定面の曲率半径中心
とを一致させて干渉縞を形成すると共に第2の参照面の
曲率半径中心と被測定面の表面とを一致させて干渉縞を
形成する工程と、第1及び第2の参照面間の距離を測定
して被測定面の曲率半径を求める工程とからなることを
特徴とする曲率半径の測定方法。 - 【請求項2】 前記第1及び第2の参照面の距離を測定
して被測定面の曲率半径を求める工程が、干渉縞の像を
センサ上に結像して該センサの出力から干渉縞のコント
ラストを求めてデフォーカス信号を発生する工程と、該
デフォーカス信号が減少する方向に第1、第2の参照面
を移動する工程とをさらに含むことを特徴とする請求項
1記載の曲率半径の測定方法。 - 【請求項3】 光源からの光を集束レンズにより平行光
束にして第1、第2のレンズに入射させる工程と、該第
1のレンズによって被測定面の曲率半径中心に集束する
ように照射すると共に第2のレンズにより被測定面の頂
点に集束するように照射する工程と、被測定面から反射
された光束を第1、第2のレンズを逆行させて平行光束
にし前記集束レンズを逆行させる工程と、第1、第2の
レンズの光束が集束レンズの焦点で集束した後の各光束
をそれぞれ二分割した受光素子で受光する工程と、前記
集点にナイフエッジを設けて第1、第2のレンズがデフ
ォーカスしたとき光束の一部をカットすることによって
前記2分割受光素子に生じる出力のアンバランスからデ
フォーカス量を求める工程と、該デフォーカス量に応じ
て前記第1、第2のレンズを移動させる工程と、フォー
カスが合ったときの第1及び第2のレンズ間の距離を測
定して被測定面の曲率半径を求める工程とからなること
を特徴とする曲率半径の測定方法。 - 【請求項4】 同一光源からの可干渉光を被測定面と基
準になる参照面とに照射し、これら両面からの反射光を
重畳して干渉縞を形成する方法において、 光軸上を移動自在で球面を有する第1、第2の参照面
と、各参照面の位置を検出する位置検出手段とを有する
ことを特徴とする曲率半径の測定装置。 - 【請求項5】 前記第1と第2の参照面の曲率半径が等
しいことを特徴とする請求項4記載の曲率半径の測定装
置。 - 【請求項6】 前記第1と第2の参照面の一方が中心部
に孔を有し、他方の参照面が該孔を自在に通過できる大
きさとしたことを特徴とする請求項4又は5記載の曲率
半径の測定装置。 - 【請求項7】 前記干渉縞を結像するディテクタと、該
ディテクタの出力から各干渉縞のデフォーカスを算出す
る手段と、参照面を光軸に沿って移動させる参照面駆動
手段と、該デフォーカス算出手段の出力に応じて参照面
駆動手段を制御する参照面制御手段とを有することを特
徴とする請求項4記載の曲率半径の測定装置。 - 【請求項8】 光源からの光を平行光束にする集束レン
ズと、光軸上を移動自在な第1、第2のレンズと、該各
レンズを別々に移動する各レンズ駆動手段と、前記集束
レンズの焦点に置かれたナイフエッジと、第1、第2の
レンズから集束レンズを経て該集束レンズの焦点を通過
した各光束をそれぞれ受光する2分割受光素子と、該2
分割受光素子の出力の差を測定する比較手段と、両レン
ズの位置を検出する手段と、前記比較手段の出力に応じ
て各レンズ駆動手段を制御して前記第1、第2のレンズ
のフォーカスを合わせる各レンズ制御手段とからなるこ
とを特徴とする曲率半径の測定装置。 - 【請求項9】 前記第1と第2のレンズの焦点距離が等
しいことを特徴とする請求項8記載の曲率半径の測定装
置。 - 【請求項10】 前記第1と第2のレンズの一方が中心
部に孔を有し、他方のレンズが該孔を自在に通過できる
大きさとしたことを特徴とする請求項8又は9記載の曲
率半径の測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28294191A JPH05118829A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 曲率半径の測定方法及び測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28294191A JPH05118829A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 曲率半径の測定方法及び測定装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05118829A true JPH05118829A (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=17659098
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28294191A Withdrawn JPH05118829A (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 曲率半径の測定方法及び測定装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05118829A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009128340A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Shimadzu Corp | トロイダル面評価方法 |
CN108106560A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-01 | 青岛海泰光电技术有限公司 | 光学元件大曲率半径的比较法测量方法及其测量装置 |
CN108955569A (zh) * | 2018-09-27 | 2018-12-07 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 大口径长焦距菲索型球面干涉测试装置 |
-
1991
- 1991-10-29 JP JP28294191A patent/JPH05118829A/ja not_active Withdrawn
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009128340A (ja) * | 2007-11-28 | 2009-06-11 | Shimadzu Corp | トロイダル面評価方法 |
CN108106560A (zh) * | 2018-01-30 | 2018-06-01 | 青岛海泰光电技术有限公司 | 光学元件大曲率半径的比较法测量方法及其测量装置 |
CN108106560B (zh) * | 2018-01-30 | 2024-01-26 | 青岛海泰光电技术有限公司 | 光学元件大曲率半径的比较法测量方法及其测量装置 |
CN108955569A (zh) * | 2018-09-27 | 2018-12-07 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 大口径长焦距菲索型球面干涉测试装置 |
CN108955569B (zh) * | 2018-09-27 | 2023-10-27 | 成都太科光电技术有限责任公司 | 大口径长焦距菲索型球面干涉测试装置 |
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