JPH0322518A - 照明光学装置 - Google Patents
照明光学装置Info
- Publication number
- JPH0322518A JPH0322518A JP1157165A JP15716589A JPH0322518A JP H0322518 A JPH0322518 A JP H0322518A JP 1157165 A JP1157165 A JP 1157165A JP 15716589 A JP15716589 A JP 15716589A JP H0322518 A JPH0322518 A JP H0322518A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- wavelength
- dichroic mirror
- light source
- alignment
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 41
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims abstract description 19
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims abstract description 15
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims description 4
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 3
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 8
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 4
- 238000009423 ventilation Methods 0.000 description 4
- 239000002826 coolant Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000149 argon plasma sintering Methods 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 1
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70058—Mask illumination systems
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
- G02B6/24—Coupling light guides
- G02B6/42—Coupling light guides with opto-electronic elements
- G02B6/4298—Coupling light guides with opto-electronic elements coupling with non-coherent light sources and/or radiation detectors, e.g. lamps, incandescent bulbs, scintillation chambers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、特にレチクル(マスク)上のパターンをウエ
ハまたはプレート、(基板)上に転写する半導体製造の
ための照明光学装置に関するものである。
ハまたはプレート、(基板)上に転写する半導体製造の
ための照明光学装置に関するものである。
従来の照明光学装置においては、第6図に示す如く、楕
円鏡40の第1焦点位置近傍に配置された超高圧水銀放
電灯lより発する光束はこの楕円鏡20により反射し、
反射部材60を介してこの楕円鏡20の第2焦点位置に
向けて集光する。この第2焦点位置近傍には、照明光路
を切替え可能なロータリーシャッター50が設けられて
おり、このシャッター50は、モーター51により回転
可能に設けられている。
円鏡40の第1焦点位置近傍に配置された超高圧水銀放
電灯lより発する光束はこの楕円鏡20により反射し、
反射部材60を介してこの楕円鏡20の第2焦点位置に
向けて集光する。この第2焦点位置近傍には、照明光路
を切替え可能なロータリーシャッター50が設けられて
おり、このシャッター50は、モーター51により回転
可能に設けられている。
第7図にはロータリーシャッター50の平面図を示して
おり、その形状は4つのセクター(50a,50b,5
0c,50d)を有し、これらのセクターは光源からの
光束を遮光するのに十分な大きさで形成されている。ま
た、シャッター50の光源側はアルミニウム(An)等
の金属基板上に多層膜等でコートした反射面に加工され
ている。
おり、その形状は4つのセクター(50a,50b,5
0c,50d)を有し、これらのセクターは光源からの
光束を遮光するのに十分な大きさで形成されている。ま
た、シャッター50の光源側はアルミニウム(An)等
の金属基板上に多層膜等でコートした反射面に加工され
ている。
これは、図示の如く、中心Cを回転中心としてモーター
5lによって間欠的に回転する。セクターが光路中に位
置する時には、光源からの光はアライメント光学系へ送
光するためのライトガイド200へ向けて反射され、セ
クターが光路から退避している時には、光源からの光は
露光照明系のコリメーターレンズ5へ入射する。
5lによって間欠的に回転する。セクターが光路中に位
置する時には、光源からの光はアライメント光学系へ送
光するためのライトガイド200へ向けて反射され、セ
クターが光路から退避している時には、光源からの光は
露光照明系のコリメーターレンズ5へ入射する。
さて、ロータリーシャッター50を通過した光源からの
光束は、コリメーターレンズ5を通過することにより平
行光束となり、複数のレンズ素子の集合体で形或されて
いるオプティカルインテグレータ(フライアイレンズ)
により、このオプティカルインテグレー夕の射出側面近
傍には2次元的な複数の点光源、すなわち2次元的な面
光源が形成される。そして、この2次光源からの光束は
、反射部材7により反射され、コンデンサーレンズ8に
より被照射面を重畳的に均一照明する。
光束は、コリメーターレンズ5を通過することにより平
行光束となり、複数のレンズ素子の集合体で形或されて
いるオプティカルインテグレータ(フライアイレンズ)
により、このオプティカルインテグレー夕の射出側面近
傍には2次元的な複数の点光源、すなわち2次元的な面
光源が形成される。そして、この2次光源からの光束は
、反射部材7により反射され、コンデンサーレンズ8に
より被照射面を重畳的に均一照明する。
さて、X,Y方向へ2次元移動するステージI2上に載
置されたウエハl1は投影レンズ10に関してレチクル
9と共役に配置されており、投影レンズlOを介してレ
チクル上のパターンの像がレジスト(感光層)を塗布さ
れたウエハ11上に転写される。
置されたウエハl1は投影レンズ10に関してレチクル
9と共役に配置されており、投影レンズlOを介してレ
チクル上のパターンの像がレジスト(感光層)を塗布さ
れたウエハ11上に転写される。
ステージl2のX方向における位置を検出するためのレ
ーザー干渉計13が設けられており、不図示ではあるが
ステージ(ウエハ)面に対してX方向と垂直なステージ
l2のY方向の位置を検出するための別のレーザー干渉
計が設けられている。
ーザー干渉計13が設けられており、不図示ではあるが
ステージ(ウエハ)面に対してX方向と垂直なステージ
l2のY方向の位置を検出するための別のレーザー干渉
計が設けられている。
また、ウエハのアライメントを行うために、投影レンズ
lOの外周部に隣接してアライメント光学系20が設け
られており、投影レンズlOの光軸Axとアライメント
光学系20の光軸1xとが平行となっている。
lOの外周部に隣接してアライメント光学系20が設け
られており、投影レンズlOの光軸Axとアライメント
光学系20の光軸1xとが平行となっている。
さて、アライメントする際には、ロータリーシャッター
50のセクターが光路中に位置しているため、光源から
の光束はこのセクターで反射し3 アライメント光として、光ファイバー束よりなるガイド
ライト200、アライメント光学系20を介して、ウエ
ハマークWMを照射し、アライメント光学系中において
ウエハマークWMと像共役位置に設けられた撮像管等を
通して得られた画像信号に基づいて、このマークWMの
像の位置を検出することによりアライメントを行うこと
ができる。
50のセクターが光路中に位置しているため、光源から
の光束はこのセクターで反射し3 アライメント光として、光ファイバー束よりなるガイド
ライト200、アライメント光学系20を介して、ウエ
ハマークWMを照射し、アライメント光学系中において
ウエハマークWMと像共役位置に設けられた撮像管等を
通して得られた画像信号に基づいて、このマークWMの
像の位置を検出することによりアライメントを行うこと
ができる。
近年、半導体製造装置については、生産性の向上、すな
わちスループットを向上させるために、露光光の光量(
照度)を増大させることにとが極めて有効な手法である
。
わちスループットを向上させるために、露光光の光量(
照度)を増大させることにとが極めて有効な手法である
。
すなわち、同一感度のレジストにおいては、焼付に必要
な光量が決まっているからである。
な光量が決まっているからである。
このため、露光光の光量の増大を図るには、光源の出力
を増大されれば良いが、従来の照明光学装置においては
、これに伴って光源付近の温度上昇が著しくなり、光源
を集光させる例えば楕円鏡40、光源に近く位置する反
射ミラー4、さらには楕円鏡40の第2焦点位置近傍に
位置して光線4 が集中するシャッター50等に関する光学部材の変形、
破損、寿命劣化等の問題が生ずる。
を増大されれば良いが、従来の照明光学装置においては
、これに伴って光源付近の温度上昇が著しくなり、光源
を集光させる例えば楕円鏡40、光源に近く位置する反
射ミラー4、さらには楕円鏡40の第2焦点位置近傍に
位置して光線4 が集中するシャッター50等に関する光学部材の変形、
破損、寿命劣化等の問題が生ずる。
また、光源自体の熱により光源自身から発する光の波長
域がシフトして出力波長特性が変化するため、逆に適正
な露光光の波長域の光量(照度)が減少し極端に照明効
率が劣化する問題がある。
域がシフトして出力波長特性が変化するため、逆に適正
な露光光の波長域の光量(照度)が減少し極端に照明効
率が劣化する問題がある。
そこで、本発明は、以上の問題を全て解決し、簡素な構
成にもかかわらず、温度上昇の主要因である光源から発
する不要な光、特に赤外光を発散させつつ、同一光源か
ら狭帯化された所定の波長域の露光光と、所定の波長域
のアライメント光とをそれぞれ抽出して光束の有効利用
が図れ、常に安定した光束を被照射面へ供給できる高性
能な照明光学装置を提供することを目的としている。
成にもかかわらず、温度上昇の主要因である光源から発
する不要な光、特に赤外光を発散させつつ、同一光源か
ら狭帯化された所定の波長域の露光光と、所定の波長域
のアライメント光とをそれぞれ抽出して光束の有効利用
が図れ、常に安定した光束を被照射面へ供給できる高性
能な照明光学装置を提供することを目的としている。
上記の目的を達戒するために、本発明は第1図に示す如
く、第1被照射面を照明する第1照明系と第2被照射面
を照射する第2照明系とを有する照明光学装置において
、 光源と、その光源からの第1波長域の光束を分別して集
光するための第1波長分別集光手段と、その第1波長分
別集光手段の外側に沿って設けられるとともにこの第1
波長分別集光手段を通過した第2波長域の光束を分別し
て集光する第2波長分別集光手段と、第1波長分別集光
手段からの分別光束を第1照明系へ導くとともに第2波
長分別集光手段からの分別光束を第2照明系へ導くため
の波長分別手段とを有するものである。
く、第1被照射面を照明する第1照明系と第2被照射面
を照射する第2照明系とを有する照明光学装置において
、 光源と、その光源からの第1波長域の光束を分別して集
光するための第1波長分別集光手段と、その第1波長分
別集光手段の外側に沿って設けられるとともにこの第1
波長分別集光手段を通過した第2波長域の光束を分別し
て集光する第2波長分別集光手段と、第1波長分別集光
手段からの分別光束を第1照明系へ導くとともに第2波
長分別集光手段からの分別光束を第2照明系へ導くため
の波長分別手段とを有するものである。
さらに、光源から発する熱を除去して安定した光束を供
給するための冷却手段を第2集光手段の周辺領域に設け
ることがより望ましい。
給するための冷却手段を第2集光手段の周辺領域に設け
ることがより望ましい。
本発明は、光源より発する不要な光、特に温度上昇の主
要因である赤外光を発散させながら、同一光源から狭帯
化された所定の波長域の露光光と、所定の波長域のアラ
イメント光とをそれぞれを抽出することができるように
して光束の有効利用を図ったものである。
要因である赤外光を発散させながら、同一光源から狭帯
化された所定の波長域の露光光と、所定の波長域のアラ
イメント光とをそれぞれを抽出することができるように
して光束の有効利用を図ったものである。
これにより、スループットを向上させるために、光源の
出力を増加させても、光源の周辺に配置された光学部材
の熱による光学性能の劣化、変形、破損、寿命劣化等の
問題を解消でき常に安定した高出力の光束を被照射面へ
供給することが保証される。
出力を増加させても、光源の周辺に配置された光学部材
の熱による光学性能の劣化、変形、破損、寿命劣化等の
問題を解消でき常に安定した高出力の光束を被照射面へ
供給することが保証される。
第1図は本発明の実施例における概略構成図であり、こ
の図を参照しながら本実施例について詳述する。
の図を参照しながら本実施例について詳述する。
光源としての超高圧水銀灯1 (光源)は赤外線から遠
紫外線にわたる広波長域の光を発し、この光源lの輝点
が第1楕円ダイクロイックミラ−2(第1波長分別集光
手段)の第1焦点にほぼ位置するように設けられている
。そして、この第1楕円ダイクロイックミラ−2の外側
に沿って設けられている第2楕円ダイクロイックミラ−
3(第2波長分別集光手段)も、光源lと共有するよう
にこれの第1焦点に光源lがほぼ位置している。
紫外線にわたる広波長域の光を発し、この光源lの輝点
が第1楕円ダイクロイックミラ−2(第1波長分別集光
手段)の第1焦点にほぼ位置するように設けられている
。そして、この第1楕円ダイクロイックミラ−2の外側
に沿って設けられている第2楕円ダイクロイックミラ−
3(第2波長分別集光手段)も、光源lと共有するよう
にこれの第1焦点に光源lがほぼ位置している。
先ず第1楕円ダイクロイックミラ−2は、超高圧水銀灯
lから発する光より狭帯化した露光に必要な遠紫外の波
長域の光を反射し、グイクロイッ7 クミラー4を介して第1楕円ダイクロイックミラ−2の
第2焦点位置Aに集光させる一方、露光に不必要な波長
域の光束を透過させる。
lから発する光より狭帯化した露光に必要な遠紫外の波
長域の光を反射し、グイクロイッ7 クミラー4を介して第1楕円ダイクロイックミラ−2の
第2焦点位置Aに集光させる一方、露光に不必要な波長
域の光束を透過させる。
そして、第2楕円ダイクロイックミラ−3は、第1楕円
ダイクロイックミラ−2を通過した光源からの光より、
アライメントに必要な可視領域の波長光を反射し、ダイ
クロイックミラ−4を介して第2楕円ダイクロイックミ
ラ−3の第2焦点位置Bに集光させる一方、この第2楕
円ダイクロイックミラ−3を通過する不要な光は周辺部
へ発散させる。
ダイクロイックミラ−2を通過した光源からの光より、
アライメントに必要な可視領域の波長光を反射し、ダイ
クロイックミラ−4を介して第2楕円ダイクロイックミ
ラ−3の第2焦点位置Bに集光させる一方、この第2楕
円ダイクロイックミラ−3を通過する不要な光は周辺部
へ発散させる。
ここで、図示の如く、ダイクロイックミラ−4は第1楕
円グイクロイックミラ−2により分別集光された領域の
光束を反射するようにコンパクトに設けているが、第2
楕円グイクロイックミラ−3により分別集光された領域
をカバーするように設けても良い。また、ダイクロイッ
クミラ−4は、露光光を反射させ、アライメント光を透
過させるように構成されているが、逆に、露光光を透過
させ、アライメント光を反射させるように構或され8− ても良い。
円グイクロイックミラ−2により分別集光された領域の
光束を反射するようにコンパクトに設けているが、第2
楕円グイクロイックミラ−3により分別集光された領域
をカバーするように設けても良い。また、ダイクロイッ
クミラ−4は、露光光を反射させ、アライメント光を透
過させるように構成されているが、逆に、露光光を透過
させ、アライメント光を反射させるように構或され8− ても良い。
さて、第1楕円ダイクロイックミラ−2の第2焦点位置
Aには、露光光による光源像が形成されており、この光
源像からの露光光はコリメーターレンズ5に入射する。
Aには、露光光による光源像が形成されており、この光
源像からの露光光はコリメーターレンズ5に入射する。
このコリメーターレンズ5はこのレンズの前側焦点が光
源像が形成される位置Aにほぼ一致するように設けられ
ており、このレンズ5を通過した露光光は平行光束とな
る。
源像が形成される位置Aにほぼ一致するように設けられ
ており、このレンズ5を通過した露光光は平行光束とな
る。
この平行光束中には、複数のレンズ素子(六角柱、四角
柱状のレンズ等)の集合体よりなるオプティカルインテ
グレータ6(フライアイレンズ)が設けられており、こ
れの射出側もしくはその空間近傍にレンズ素子の数に対
応した複数の面光源としての第2次光源が形成される。
柱状のレンズ等)の集合体よりなるオプティカルインテ
グレータ6(フライアイレンズ)が設けられており、こ
れの射出側もしくはその空間近傍にレンズ素子の数に対
応した複数の面光源としての第2次光源が形成される。
この2次光源からの複数の露光光は、反射ミラーを7を
により反射転向してコンデンサーレンズ8を通過するこ
とによりレチクル9を重畳的に均一照明する。
により反射転向してコンデンサーレンズ8を通過するこ
とによりレチクル9を重畳的に均一照明する。
均一照明されたレチクル上のパターンの像が投影レンズ
10を通してレジストを塗布されたウエハ上に転写され
る。
10を通してレジストを塗布されたウエハ上に転写され
る。
以上の如くレチクル9を照明する露光光は、先にも述べ
た如く、第1楕円グイクロイックミラー2で狭帯化され
ているため、露光光による色収差を除去できるため、レ
チクル上のパターンの解像度を向上させることができる
。
た如く、第1楕円グイクロイックミラー2で狭帯化され
ているため、露光光による色収差を除去できるため、レ
チクル上のパターンの解像度を向上させることができる
。
これに対し、先にも述べた如く、第2楕円ダイクロイッ
クミラ−3、ダイクロイックミラ−4を介した可視領域
の波長光のアライメント光は、この第2楕円グイクロイ
ックミラ−3の第2焦点位置Bに集光してアライメント
光による光源像が形成される。
クミラ−3、ダイクロイックミラ−4を介した可視領域
の波長光のアライメント光は、この第2楕円グイクロイ
ックミラ−3の第2焦点位置Bに集光してアライメント
光による光源像が形成される。
この光源像位置近傍に、複数の光ファイバーよりなるラ
イトガイド200の入射端が位置するように配置されて
おり、このライトガイド200の射出端がアライメント
光学系の光源として機能するように配置されている。こ
れにより、第2楕円ダイクロイックミラ−3の第2焦点
位置Bに光源像を形成したアライメント光がアライメン
ト光学系へ送光される。
イトガイド200の入射端が位置するように配置されて
おり、このライトガイド200の射出端がアライメント
光学系の光源として機能するように配置されている。こ
れにより、第2楕円ダイクロイックミラ−3の第2焦点
位置Bに光源像を形成したアライメント光がアライメン
ト光学系へ送光される。
ここで、ライトガイド200を構成する光ファイバーを
不規則的に配列して束ねても、入射光の入射角に関係な
く射出光の射出角による配光特性は、ほぼ一様にするこ
とができるだけでなく、光強度の平滑化を達成すること
ができる。
不規則的に配列して束ねても、入射光の入射角に関係な
く射出光の射出角による配光特性は、ほぼ一様にするこ
とができるだけでなく、光強度の平滑化を達成すること
ができる。
次に、アライメント光学系について第2図を参照しなが
ら詳述する。
ら詳述する。
ライトガイド200からのアライメント光はリレー光学
系201a,20lb,レンズ202を通過し、ハーフ
ミラー203で反射されて、対物レンズ204を通して
アライメント光学系の光軸IXと平行に均一な平行光と
なってウエハ11を照明する。
系201a,20lb,レンズ202を通過し、ハーフ
ミラー203で反射されて、対物レンズ204を通して
アライメント光学系の光軸IXと平行に均一な平行光と
なってウエハ11を照明する。
このとき、ウエハl1上にはレジストFRが塗布されて
いるが、これは露光光に対してのみ感光特性を有し、ア
ライメント光に対しては感光しない光束が第2楕円ダイ
クロイックミラーにより抽出されて供給される。
いるが、これは露光光に対してのみ感光特性を有し、ア
ライメント光に対しては感光しない光束が第2楕円ダイ
クロイックミラーにより抽出されて供給される。
さて、ウエハ1lの表面から生じた反射光(性l1
反射光、散乱光、回折光等)は、対物レンズ204、ハ
ーフミラー204を介して結像レンズ205に入射し、
ガラス等で作られた指標板206の下面に結像する。
ーフミラー204を介して結像レンズ205に入射し、
ガラス等で作られた指標板206の下面に結像する。
ここで、対物レンズ204と結像レンズ205との両者
によって所謂テレセントリック対物光学系が構成され、
ウエハ11側と指標板206側とで主光線はともに光軸
1xと平行になっている。
によって所謂テレセントリック対物光学系が構成され、
ウエハ11側と指標板206側とで主光線はともに光軸
1xと平行になっている。
そして、指標板206上に形成されたウエハマークWM
の像と指標マーク207とはテレセントリック拡大光学
系208a、208bを介して撮像管209の撮像面2
09a上に形成される。
の像と指標マーク207とはテレセントリック拡大光学
系208a、208bを介して撮像管209の撮像面2
09a上に形成される。
このテレセントリック拡大光学系の瞳位置には、正反射
光をカットするための空間フィルター210が着脱可能
に設けられている。
光をカットするための空間フィルター210が着脱可能
に設けられている。
このフィルター210が光路中に存在する時には、ウエ
ハ11上のウエハマークWMの暗視野像が撮像され、フ
ィルター210が光路外に退避している時には、明視野
像が撮像される。
ハ11上のウエハマークWMの暗視野像が撮像され、フ
ィルター210が光路外に退避している時には、明視野
像が撮像される。
この撮像された画像信号に基づいてブラウン管12
(CRT)で表示しながらアライメントを行うことがで
きる。
きる。
このアライメントの方式及び動作についての詳細は、本
件と同一出願人による特開昭62−171125号公報
等にて提案しているが、これを以下において簡単に説明
する。
件と同一出願人による特開昭62−171125号公報
等にて提案しているが、これを以下において簡単に説明
する。
第3図は撮像管210からの画像信号をCRTに表示さ
せたときの各マークの見え方の一例を示す図である。
せたときの各マークの見え方の一例を示す図である。
指標マーク207aと207bとの間にウエハマークW
Mの像WM’が位置するようにウエハ11を位置決めし
たとき、マーク207aと207bとのX方向の中心位
置XCに対して像WM’の中心位置X,はΔXだけX方
向にズレているものとする。このズレ量が所謂アライメ
ント誤差となり、クローバルアライメント後においては
、ウエハ1l上で±lμm以下の微小量である。中心位
置XCはマーク207aの中心X1とマーク207bの
中心x2との中点として求められる。このようなマーク
を所定の走査領域209b内に位置させると、走査線S
Lによる画像信号は第4図の如き波形となる。ここでは
、空間フィルター2IOが光路中にない明視野検出の場
合について図示する。この第4図では縦軸は画像信号の
大きさ(レベル)■を表し、横軸は位置(X)を表す。
Mの像WM’が位置するようにウエハ11を位置決めし
たとき、マーク207aと207bとのX方向の中心位
置XCに対して像WM’の中心位置X,はΔXだけX方
向にズレているものとする。このズレ量が所謂アライメ
ント誤差となり、クローバルアライメント後においては
、ウエハ1l上で±lμm以下の微小量である。中心位
置XCはマーク207aの中心X1とマーク207bの
中心x2との中点として求められる。このようなマーク
を所定の走査領域209b内に位置させると、走査線S
Lによる画像信号は第4図の如き波形となる。ここでは
、空間フィルター2IOが光路中にない明視野検出の場
合について図示する。この第4図では縦軸は画像信号の
大きさ(レベル)■を表し、横軸は位置(X)を表す。
第2図に示した如く、指標板206はウエハ1lからの
反射光によって照明されることになるので、位置x,
、x2においてマーク207a,207bのためにレベ
ルIはボトムとなる。またマークWM’については走査
線SLと直交する方向に延びた2つの段差エッジで光の
散乱が生じるので、位置El,E2においてボトムとな
る。位置X,は位置E. 、E2との中点として検出さ
れ、位置XCは位置XI 、xtの中点として検出され
るので、アライメント誤差ΔXは 22 として求められる。
反射光によって照明されることになるので、位置x,
、x2においてマーク207a,207bのためにレベ
ルIはボトムとなる。またマークWM’については走査
線SLと直交する方向に延びた2つの段差エッジで光の
散乱が生じるので、位置El,E2においてボトムとな
る。位置X,は位置E. 、E2との中点として検出さ
れ、位置XCは位置XI 、xtの中点として検出され
るので、アライメント誤差ΔXは 22 として求められる。
このときステージl2のX方尚の絶対的な位置はレーザ
ー干渉計13によって例えば0.02μmてんどの分解
能で検出されているので、ステージl2を現在位置から
ーΔXだけX方向へ移動させることによりアライメント
が達成される。
ー干渉計13によって例えば0.02μmてんどの分解
能で検出されているので、ステージl2を現在位置から
ーΔXだけX方向へ移動させることによりアライメント
が達成される。
さて、本実施例においては、超高圧水銀灯により発する
赤外光による熱の影響を考慮しつつ、露光光とアライメ
ント光とのそれぞれを抽出できる構成としたが、第1及
び第2楕円ダイクロイツクミラーを通過した不要な光束
、特に赤外光による温度上昇の影響を軽減するために、
第5図に示す如く、第2楕円ダイクロイックミラーの外
周部を覆うように冷却手段を配置しても良い。
赤外光による熱の影響を考慮しつつ、露光光とアライメ
ント光とのそれぞれを抽出できる構成としたが、第1及
び第2楕円ダイクロイツクミラーを通過した不要な光束
、特に赤外光による温度上昇の影響を軽減するために、
第5図に示す如く、第2楕円ダイクロイックミラーの外
周部を覆うように冷却手段を配置しても良い。
図示の如く、光源と、第1及び第2楕円ダイクロイック
ミラーとの光源部と被照射部とを空間的に分離しつつ、
光源部より発する光を透過させるために光源部の下方に
ガラス等で形成された透過部30と、光源部を包囲する
ように設けられた冷却剤循環通路tlと、冷却剤32(
液体または気体)を循環させるための循環手段33と、
外気と光源部内部とを連通ずる通風通路34と、外気を
−15 送風するファン等の送風千段35とが設けられている。
ミラーとの光源部と被照射部とを空間的に分離しつつ、
光源部より発する光を透過させるために光源部の下方に
ガラス等で形成された透過部30と、光源部を包囲する
ように設けられた冷却剤循環通路tlと、冷却剤32(
液体または気体)を循環させるための循環手段33と、
外気と光源部内部とを連通ずる通風通路34と、外気を
−15 送風するファン等の送風千段35とが設けられている。
これにより、光源部から発する熱を冷却剤循環冷却系で
強制的に冷却して吸収する。また、ファンを回転させて
外気を光源部内部へ送風することにより、超高圧水銀灯
、第1及び第2楕円ダイクロイックミラーの内部に蓄積
されている熱を除去することができる。
強制的に冷却して吸収する。また、ファンを回転させて
外気を光源部内部へ送風することにより、超高圧水銀灯
、第1及び第2楕円ダイクロイックミラーの内部に蓄積
されている熱を除去することができる。
尚、第5図では、ファンを回転させて直接に外気を光源
部内部に送り込んで、光源部内部の空気を通風通路を通
して吐き出しているが、ファンの回転を逆転させて光源
部内部からの空気を外部に吐き出し、通風通路から外気
を取り込むようにしても良い。また、外気を光源部内部
に送風する空冷方式のみで実現しても良い。
部内部に送り込んで、光源部内部の空気を通風通路を通
して吐き出しているが、ファンの回転を逆転させて光源
部内部からの空気を外部に吐き出し、通風通路から外気
を取り込むようにしても良い。また、外気を光源部内部
に送風する空冷方式のみで実現しても良い。
以上の如き構成により、スループットを上げるために光
源の出力を増大させてもこれによる熱の影響を軽減でき
るため、安定した露光及びアライメントが保証される。
源の出力を増大させてもこれによる熱の影響を軽減でき
るため、安定した露光及びアライメントが保証される。
尚、光源部を含めた冷却手段をユニット化してl6
交換可能に設けても良い。また、アライメント専用の光
源と露光用の光源とを独立に設け、露光用の光源から発
する光を1つの楕円ダイクロイックミラーで狭帯化した
所定の波長域の光のみを分別して集光するような構成に
して良い。
源と露光用の光源とを独立に設け、露光用の光源から発
する光を1つの楕円ダイクロイックミラーで狭帯化した
所定の波長域の光のみを分別して集光するような構成に
して良い。
以上の如く、本発明によれば、光源の出力を上げて、ス
ループットの向上に容易に対応できるため、常に安定し
た露光が保証される。
ループットの向上に容易に対応できるため、常に安定し
た露光が保証される。
しかも、同一の共有光源より狭帯化した露光光と所定波
長域のアライメント光とにそれぞれ抽出できるため、簡
易な構威で光束の有効利用を図れる照明光学装置が達成
でき極めて有効である。
長域のアライメント光とにそれぞれ抽出できるため、簡
易な構威で光束の有効利用を図れる照明光学装置が達成
でき極めて有効である。
第1図は本発明の実施例における概略構成図、第2図は
本発明の実施例におけるアライメント光学系を示す図、
第3図はアライメントマークWMを用いたアライメント
誤差の検出の様子を示す図、第4図はアライメント信号
の波形図、第5図は光源部周辺に冷却手段を設けた様子
を示す図、第6図は従来の装置における概略構成図、第
7図はロータリーシャッターの平面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・超高圧水銀灯 2・・・第1楕円ダイクロイックミラーA・・・第2焦
点 3・・・第2楕円ダイクロイツクミラーB・・・第2焦
点 4、7・・・反射ミラー 5・・・コリメーターレンズ 8・・・コンデンサーレンズ 20・・・アライメント光学系 200・・・ライトガイド
本発明の実施例におけるアライメント光学系を示す図、
第3図はアライメントマークWMを用いたアライメント
誤差の検出の様子を示す図、第4図はアライメント信号
の波形図、第5図は光源部周辺に冷却手段を設けた様子
を示す図、第6図は従来の装置における概略構成図、第
7図はロータリーシャッターの平面図である。 〔主要部分の符号の説明〕 1・・・超高圧水銀灯 2・・・第1楕円ダイクロイックミラーA・・・第2焦
点 3・・・第2楕円ダイクロイツクミラーB・・・第2焦
点 4、7・・・反射ミラー 5・・・コリメーターレンズ 8・・・コンデンサーレンズ 20・・・アライメント光学系 200・・・ライトガイド
Claims (2)
- (1)第1被照射面を照明する第1照明系と第2被照射
面を照射する第2照明系とを有する照明光学装置におい
て、 光源と、該光源からの第1波長域の光束を分別して集光
するための第1波長分別集光手段と、該第1波長分別集
光手段の外側に沿って設けられるとともに該第1波長分
別集光手段を通過した第2波長域の光束を分別して集光
する第2波長分別集光手段と、前記第1波長分別集光手
段からの分別光束を前記第1照明系へ導くとともに前記
第2波長分別集光手段からの分別光束を前記第2照明系
へ導くための波長分別手段とを有することを特徴とする
照明光学装置。 - (2)前記光源より発する熱を冷却するための冷却手段
を前記第2波長分別集光手段の周辺領域に設けることを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載の照明光学装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1157165A JPH0322518A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 照明光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1157165A JPH0322518A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 照明光学装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0322518A true JPH0322518A (ja) | 1991-01-30 |
Family
ID=15643610
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1157165A Pending JPH0322518A (ja) | 1989-06-20 | 1989-06-20 | 照明光学装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0322518A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001022168A1 (de) * | 1999-09-17 | 2001-03-29 | Basys Print Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur wellenlängenabhängigen lichtauskupplung |
KR100885102B1 (ko) * | 2004-06-23 | 2009-02-20 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 자외광 조사 장치 |
JP2014199938A (ja) * | 2014-06-09 | 2014-10-23 | 株式会社ニコン | メンテナンス方法 |
JP2016170430A (ja) * | 2016-05-12 | 2016-09-23 | 株式会社ニコン | メンテナンス方法 |
JP2018146967A (ja) * | 2018-04-11 | 2018-09-20 | 株式会社ニコン | 光源装置、露光装置、ランプ、メンテナンス方法およびデバイス製造方法 |
-
1989
- 1989-06-20 JP JP1157165A patent/JPH0322518A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001022168A1 (de) * | 1999-09-17 | 2001-03-29 | Basys Print Gmbh | Vorrichtung und verfahren zur wellenlängenabhängigen lichtauskupplung |
JP2003510638A (ja) * | 1999-09-17 | 2003-03-18 | バージス プリント ゲーエムベーハー | 光を波長分別する装置および方法 |
KR100885102B1 (ko) * | 2004-06-23 | 2009-02-20 | 우시오덴키 가부시키가이샤 | 자외광 조사 장치 |
JP2014199938A (ja) * | 2014-06-09 | 2014-10-23 | 株式会社ニコン | メンテナンス方法 |
JP2016170430A (ja) * | 2016-05-12 | 2016-09-23 | 株式会社ニコン | メンテナンス方法 |
JP2018146967A (ja) * | 2018-04-11 | 2018-09-20 | 株式会社ニコン | 光源装置、露光装置、ランプ、メンテナンス方法およびデバイス製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP3278896B2 (ja) | 照明装置及びそれを用いた投影露光装置 | |
JP3360686B2 (ja) | 照明光学装置および投影露光装置並びに露光方法および素子製造方法 | |
KR101139051B1 (ko) | 집광 광학계, 광원 유닛, 조명 광학 장치 및 노광 장치 | |
US5619376A (en) | Illuminating optical apparatus for uniformly illuminating a reticle | |
US6208707B1 (en) | X-ray projection exposure apparatus | |
JPH06188174A (ja) | 照明光学装置 | |
JP3278277B2 (ja) | 投影露光装置及びこれを用いたデバイス製造方法 | |
JPH0322518A (ja) | 照明光学装置 | |
JPH08203803A (ja) | 露光装置 | |
JPS622539A (ja) | 照明光学系 | |
JP3380868B2 (ja) | 投影露光装置 | |
TW201433826A (zh) | 照明光學系統、曝光裝置、以及裝置之製造方法 | |
JPH0744141B2 (ja) | 照明光学装置 | |
JPH06349710A (ja) | 照明光学装置 | |
JP3236193B2 (ja) | 照明装置、露光装置及びデバイス製造方法 | |
JP2003295459A (ja) | 露光装置及び露光方法 | |
JPS6349367B2 (ja) | ||
JPH11150051A (ja) | 露光方法及び装置 | |
KR101782672B1 (ko) | 프리즘 광학계, 조명 광학계, 노광 장치 및 소자 제조 방법 | |
KR100456436B1 (ko) | 조명장치 | |
JP2001230204A (ja) | 半導体集積回路パターンの投影露光方法 | |
JPH0261131B2 (ja) | ||
JP2810400B2 (ja) | 露光装置 | |
JPH07135145A (ja) | 露光装置 | |
JP2000133562A (ja) | 縮小投影露光装置 |