JPH0322015B2 - - Google Patents
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- JPH0322015B2 JPH0322015B2 JP59178869A JP17886984A JPH0322015B2 JP H0322015 B2 JPH0322015 B2 JP H0322015B2 JP 59178869 A JP59178869 A JP 59178869A JP 17886984 A JP17886984 A JP 17886984A JP H0322015 B2 JPH0322015 B2 JP H0322015B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- icp
- contact
- nozzle
- mass spectrometer
- inductively coupled
- Prior art date
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- Expired
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- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 5
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/12—Ion sources; Ion guns using an arc discharge, e.g. of the duoplasmatron type
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Other Investigation Or Analysis Of Materials By Electrical Means (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、誘導結合プラズマ（以下、ICPと言
う）で励起する原子等を導電性部材から成るノズ
ルを介して分析部に導入する装置に関し、特に
ICPにノズルを接触したとき発生するノイズを低
減したICPをイオン源とした質量分析装置に関す
る。
う）で励起する原子等を導電性部材から成るノズ
ルを介して分析部に導入する装置に関し、特に
ICPにノズルを接触したとき発生するノイズを低
減したICPをイオン源とした質量分析装置に関す
る。
［従来の技術］
従来のICPをイオン源とした質量分析装置とし
て、例えば、第２図に示すものがある。図におい
て、１はICP発生装置、２は真空排気装置、３は
質量分析装置である。ICP発生装置１は、シール
ドケース４に収納されたプラズマトーチ５（トー
チの先端にワークコイル６が巻回され、その近傍
でICP７が発生する）と、ワークコイル６に高周
波電圧を印加する高周波電圧源８（接地側２５が
ケース４に接続されている）と、、キヤリアガス
（アルゴンガス）によりサンプル９を霧状にして
プラズマトーチ５に供給するネブライザ１０と、
流量計１１を介してプラズマトーチ５及びネブラ
イザ１０にアルゴンガスを供給するガス供給装置
１２とで構成される。真空排気装置２は、導電性
部材から成り、かつ各室が絶縁部材で電気的に絶
縁されている３室、即ち、油回転ポンプ１３によ
つて排気され、ノズル１４をICP７に接触させる
第１室１５と、大形拡散ポンプ１６によつて排気
される第２室１７と、質量分析装置３を設置する
室であつて、拡散ポンプ１８で排気されると共
に、接地電位１９に保持される第３室２０から成
る差動排気容器の構成となつている。
て、例えば、第２図に示すものがある。図におい
て、１はICP発生装置、２は真空排気装置、３は
質量分析装置である。ICP発生装置１は、シール
ドケース４に収納されたプラズマトーチ５（トー
チの先端にワークコイル６が巻回され、その近傍
でICP７が発生する）と、ワークコイル６に高周
波電圧を印加する高周波電圧源８（接地側２５が
ケース４に接続されている）と、、キヤリアガス
（アルゴンガス）によりサンプル９を霧状にして
プラズマトーチ５に供給するネブライザ１０と、
流量計１１を介してプラズマトーチ５及びネブラ
イザ１０にアルゴンガスを供給するガス供給装置
１２とで構成される。真空排気装置２は、導電性
部材から成り、かつ各室が絶縁部材で電気的に絶
縁されている３室、即ち、油回転ポンプ１３によ
つて排気され、ノズル１４をICP７に接触させる
第１室１５と、大形拡散ポンプ１６によつて排気
される第２室１７と、質量分析装置３を設置する
室であつて、拡散ポンプ１８で排気されると共
に、接地電位１９に保持される第３室２０から成
る差動排気容器の構成となつている。
このようなICPをイオン源とした質量分析装置
において、ICP発生装置１のプラズマトーチ５
は、ワークコイル６に高周波電圧源８から
27.12MHz又は40.68MHzで０〜2KWの高周波電力
の供給を受けると共に、ガス供給装置１２からア
ルゴンガスの供給を受けて、ICP７を発生する。
そして、プラズマトーチ５は、そのICP７の中に
ネブライザ１０からの霧状のサンプル９（アルゴ
ンガスがキヤリア）を通過させ励起して送出す
る。
において、ICP発生装置１のプラズマトーチ５
は、ワークコイル６に高周波電圧源８から
27.12MHz又は40.68MHzで０〜2KWの高周波電力
の供給を受けると共に、ガス供給装置１２からア
ルゴンガスの供給を受けて、ICP７を発生する。
そして、プラズマトーチ５は、そのICP７の中に
ネブライザ１０からの霧状のサンプル９（アルゴ
ンガスがキヤリア）を通過させ励起して送出す
る。
又、真空排気装置２は、各ポンプを駆動して各
室を所定の真空、例えば、第１室１５が1Torr、
第２室１７が10-4Torr、第３室１９が10-5Torr
の真空を実現している。これらの動作により励起
された原子等がノズル１４を介して導入される。
質量分析装置３は、この原子等の分析を行う。
室を所定の真空、例えば、第１室１５が1Torr、
第２室１７が10-4Torr、第３室１９が10-5Torr
の真空を実現している。これらの動作により励起
された原子等がノズル１４を介して導入される。
質量分析装置３は、この原子等の分析を行う。
［発明が解決しようとする問題点］
しかし、従来のICPをイオン源とした質量分析
装置は、ICP７にノズル１４を接触させると、
ICP用の高周波電力が真空排気装置１７を通じ接
地側２０に流れ、ノズル１４をはじめとする真空
排気装置２を構成する容器がアンテナとして動作
するため、質量分析装置３や周囲の他の機器に対
して非常に大きなノイズになるという問題があつ
た。又、高周波電源８の出力部（オートチユーニ
ング、パワーコントロール等を備えている）にお
いても不安定動作を招くという問題があつた。
装置は、ICP７にノズル１４を接触させると、
ICP用の高周波電力が真空排気装置１７を通じ接
地側２０に流れ、ノズル１４をはじめとする真空
排気装置２を構成する容器がアンテナとして動作
するため、質量分析装置３や周囲の他の機器に対
して非常に大きなノイズになるという問題があつ
た。又、高周波電源８の出力部（オートチユーニ
ング、パワーコントロール等を備えている）にお
いても不安定動作を招くという問題があつた。
本発明は、このような点に鑑みてなされたもの
で、その目的は、ノズルをICPに接触させたとき
に発生するノイズを小さくし、質量分析装置や高
周波電源への影響を低減したICPをイオン源とし
た質量分析装置を提供することにある。
で、その目的は、ノズルをICPに接触させたとき
に発生するノイズを小さくし、質量分析装置や高
周波電源への影響を低減したICPをイオン源とし
た質量分析装置を提供することにある。
［問題を解決するための手段］
上記問題を解決する本発明は、誘導結合プラズ
マで励起する原子等を導電性部材から成るノズル
を介して分析部に導入する誘導結合プラズマをイ
オン源とした質量分析装置において、前記誘導結
合プラズマを発生するワークコイルの接地側と前
記ノズルを低インピーダンス結合する手段を具備
することを特徴とするものである。
マで励起する原子等を導電性部材から成るノズル
を介して分析部に導入する誘導結合プラズマをイ
オン源とした質量分析装置において、前記誘導結
合プラズマを発生するワークコイルの接地側と前
記ノズルを低インピーダンス結合する手段を具備
することを特徴とするものである。
［実施例］
以下、図面を参照し本発明の実施例を詳細に説
明する。
明する。
第１図イ及びロは、本発明の要部を示す構成図
である。イは、ノズル１４とICP７が接触してい
ない状態を示す図であり、ロは、ノズル１４と
ICP７が接触した状態を示す図である。図におい
て、第２図と同一部分には同一符号を付し、こゝ
での説明を省略する。２１はシールドケース４の
シールド板２２（ワークコイル６の設置側と同電
位）に一端が固着された板状のばね２３に取付け
られる第１接触子、２４はノズル１４に固着さ
れ、ノズル１４とICP７を接触されたとき第１接
触子２１と接触する第２接触子である。第１接触
子２１、第２接触子２４及びばね２３は全て導電
性部材（例えば銅材）で構成されている。各接触
子２１及び２４は、いわゆる楔形構造をしてお
り、ノズル１４とICP７を接触させるとき、スラ
イドしながら広い面積で密着して電気的低インピ
ーダンス結合手段を構成している。
である。イは、ノズル１４とICP７が接触してい
ない状態を示す図であり、ロは、ノズル１４と
ICP７が接触した状態を示す図である。図におい
て、第２図と同一部分には同一符号を付し、こゝ
での説明を省略する。２１はシールドケース４の
シールド板２２（ワークコイル６の設置側と同電
位）に一端が固着された板状のばね２３に取付け
られる第１接触子、２４はノズル１４に固着さ
れ、ノズル１４とICP７を接触されたとき第１接
触子２１と接触する第２接触子である。第１接触
子２１、第２接触子２４及びばね２３は全て導電
性部材（例えば銅材）で構成されている。各接触
子２１及び２４は、いわゆる楔形構造をしてお
り、ノズル１４とICP７を接触させるとき、スラ
イドしながら広い面積で密着して電気的低インピ
ーダンス結合手段を構成している。
このようなICPをイオン源とした質量分析装置
において、分析に入るとき、第１図イに示す矢印
Ａ方向から、真空排気装置２（質量分析装置）を
ICP発生装置１に近づけて、ノズル１４とICP７
を接触状態にもつてゆく。このとき、第２接触子
２４は、先端を第１接触子２１とシールド板２２
の間に接触させ、かつスライドさせながら、第１
接触子２１及びシールド板２２との接触を強めて
ゆく。そして、ノズル１４とICP７が第２図ロに
示す接触状態にあつては、第２接触子２４は第１
接触子２１及びシールド板２２と広い面積で密着
し低インピーダンス結合となる。このため、ノズ
ル１４に伝わるICP発生用高周波電力の一部は、
第２接触子２４→シールド板２２（第１接触子２
１、ばね２３）の最短距離で高周波電源９の接地
側２５に流れる。従つて、真空排気装置２を構成
する第２室１７、第３室３（第２図参照）の方に
ほとんど高周波電力が流れずノイズそのものが非
常に小さくなる。
において、分析に入るとき、第１図イに示す矢印
Ａ方向から、真空排気装置２（質量分析装置）を
ICP発生装置１に近づけて、ノズル１４とICP７
を接触状態にもつてゆく。このとき、第２接触子
２４は、先端を第１接触子２１とシールド板２２
の間に接触させ、かつスライドさせながら、第１
接触子２１及びシールド板２２との接触を強めて
ゆく。そして、ノズル１４とICP７が第２図ロに
示す接触状態にあつては、第２接触子２４は第１
接触子２１及びシールド板２２と広い面積で密着
し低インピーダンス結合となる。このため、ノズ
ル１４に伝わるICP発生用高周波電力の一部は、
第２接触子２４→シールド板２２（第１接触子２
１、ばね２３）の最短距離で高周波電源９の接地
側２５に流れる。従つて、真空排気装置２を構成
する第２室１７、第３室３（第２図参照）の方に
ほとんど高周波電力が流れずノイズそのものが非
常に小さくなる。
尚、本発明は、ワークコイルの接地側２５とノ
ズル１４を低インピーダンス結合する手段を、上
記実施例の楔形接触子に限定するものではなく、
他の形状、例えば、円筒形接触子や直方体形接触
子で構成するようにしてもよい。
ズル１４を低インピーダンス結合する手段を、上
記実施例の楔形接触子に限定するものではなく、
他の形状、例えば、円筒形接触子や直方体形接触
子で構成するようにしてもよい。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、ICPを
発生するワークコイルの接地側とノズルを低イン
ピーダンス結合するようにしたため、ノイズが小
さくなり、質量分析装置や高周波電源への影響を
低減することができる。
発生するワークコイルの接地側とノズルを低イン
ピーダンス結合するようにしたため、ノイズが小
さくなり、質量分析装置や高周波電源への影響を
低減することができる。
第１図イ及びロは本発明の一実施例を示す構成
図、第２図は従来例を示す構成図である。 １……ICP発生装置、２……真空排気装置、３
……質量分析装置、４……シールドケース、５…
…プラズマトーチ、６……ワークコイル、７……
ICP、２１，２４……接触子、２２……シールド
板、２３……ばね。
図、第２図は従来例を示す構成図である。 １……ICP発生装置、２……真空排気装置、３
……質量分析装置、４……シールドケース、５…
…プラズマトーチ、６……ワークコイル、７……
ICP、２１，２４……接触子、２２……シールド
板、２３……ばね。
Claims (1)
- １ 誘導結合プラズマで励起する原子等を導電性
部材から成るノズルを介して分析部に導入する誘
導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置に
おいて、前記誘導結合プラズマを発生するワーク
コイルの接地側と前記ノズルを低インピーダンス
結合する手段を具備することを特徴とする誘導結
合プラズマをイオン源とした質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59178869A JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59178869A JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6155848A JPS6155848A (ja) | 1986-03-20 |
| JPH0322015B2 true JPH0322015B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=16056107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59178869A Granted JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6155848A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6489256A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Yokogawa Electric Corp | High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer |
| GB8901975D0 (en) * | 1989-01-30 | 1989-03-22 | Vg Instr Group | Plasma mass spectrometer |
| JP2591822B2 (ja) * | 1989-05-26 | 1997-03-19 | 日本電子株式会社 | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| CN105355534B (zh) * | 2015-11-23 | 2017-01-25 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的方法及装置 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP59178869A patent/JPS6155848A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6155848A (ja) | 1986-03-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| EXPY | Cancellation because of completion of term |