JPH0521245Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0521245Y2 JPH0521245Y2 JP8788288U JP8788288U JPH0521245Y2 JP H0521245 Y2 JPH0521245 Y2 JP H0521245Y2 JP 8788288 U JP8788288 U JP 8788288U JP 8788288 U JP8788288 U JP 8788288U JP H0521245 Y2 JPH0521245 Y2 JP H0521245Y2
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- JP
- Japan
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- nozzle
- mass spectrometer
- high frequency
- ion source
- inductively coupled
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本考案は、高周波誘導結合プラズマ（ICP）イ
オン源と質量分析計とを結合した高周波誘導結合
プラズマ質量分析装置（ICP−MS）に関するも
のである。
オン源と質量分析計とを結合した高周波誘導結合
プラズマ質量分析装置（ICP−MS）に関するも
のである。
［従来の技術］
かかるICP−MSは第２図に示すような構造を
有している。
有している。
同図において、１はICPイオン源で、高周波誘
導コイル２を巻回した石英等の電気絶縁体製プラ
ズマトーチ３と試料液を噴霧するためのネブライ
ザ４とから構成されている。５は試料液６を収納
すると共にネブライザ４に導入管７を介して接続
された試料ボトルである。８はコーン状のノズル
９と第１及び第２のスキマー１０，１１とからな
るインターフエース、１２は質量分析装置で、内
部に質量分析計１３が設けてある。
導コイル２を巻回した石英等の電気絶縁体製プラ
ズマトーチ３と試料液を噴霧するためのネブライ
ザ４とから構成されている。５は試料液６を収納
すると共にネブライザ４に導入管７を介して接続
された試料ボトルである。８はコーン状のノズル
９と第１及び第２のスキマー１０，１１とからな
るインターフエース、１２は質量分析装置で、内
部に質量分析計１３が設けてある。
１４は前記質量分析装置１２内を高真空に保つ
ための油拡散ポンプ、１５，１６は前記ノズル９
と第１のスキマー１０及び第１、第２のスキマー
１０と１１との間に夫々形成される空間Ｓ１，Ｓ
２を排気するための油回転ポンプである。
ための油拡散ポンプ、１５，１６は前記ノズル９
と第１のスキマー１０及び第１、第２のスキマー
１０と１１との間に夫々形成される空間Ｓ１，Ｓ
２を排気するための油回転ポンプである。
１７はイオンを加速、集束して前記質量分析計
１３に導入させるための電極群である。
１３に導入させるための電極群である。
かかる構成において、プラズマトーチ３内には
図示外のガス供給源からアルゴンガスが供給さ
れ、また、ネブライザ４から試料液６が霧状とな
つて導入される。この状態において、高周波誘導
コイル２に電力を印加して高周波磁界を形成する
と、高周波誘導結合プラズマＰが発生するため、
このプラズマ内の試料イオンがノズル９、各スキ
マー１０，１１を通つてインターフエース８内に
進入する。このインターフエース内に進入したイ
オンは電極群１７により加速、集束されて質量分
析計１３に導入され質量分析される。
図示外のガス供給源からアルゴンガスが供給さ
れ、また、ネブライザ４から試料液６が霧状とな
つて導入される。この状態において、高周波誘導
コイル２に電力を印加して高周波磁界を形成する
と、高周波誘導結合プラズマＰが発生するため、
このプラズマ内の試料イオンがノズル９、各スキ
マー１０，１１を通つてインターフエース８内に
進入する。このインターフエース内に進入したイ
オンは電極群１７により加速、集束されて質量分
析計１３に導入され質量分析される。
［考案が解決しようとする課題］
ところで、このようなICP−MSにおいては高
周波コイル２からの高周波が周囲に漏洩し、それ
によつて周囲に悪影響を及ぼす恐れがある。それ
を防止するために、ICPイオン源１の周囲を例え
ばアルミニウムのような電気良導体で形成され、
かつ接地されたケース１８で覆うことが考えられ
る。
周波コイル２からの高周波が周囲に漏洩し、それ
によつて周囲に悪影響を及ぼす恐れがある。それ
を防止するために、ICPイオン源１の周囲を例え
ばアルミニウムのような電気良導体で形成され、
かつ接地されたケース１８で覆うことが考えられ
る。
ここで、質量分析計１３として四重極を使用し
た場合には、試料イオンに高いエネルギーを与え
る必要がないため、ノズル９や各スキマー１０，
１１等は略接地電位であり何等問題は生じない
が、高い分解能を得るために磁場型質量分析計を
使用する場合には、試料イオンに高いエネルギー
を与える必要がある。そのため、第２図で中符号
１９で示すように第２のスキマー１０と電極群１
７間に加速電極を設置し、この電極に例えば±
10KV程度の高電圧を印加すると共に、ノズル
９、第１及び第２のスキマー１０，１１にも同程
度の高電圧を印加しなければならない。その結
果、高電圧が印加されるノズル９と接地電位であ
るケース１８との間で放電が発生するため、非常
に危険である。
た場合には、試料イオンに高いエネルギーを与え
る必要がないため、ノズル９や各スキマー１０，
１１等は略接地電位であり何等問題は生じない
が、高い分解能を得るために磁場型質量分析計を
使用する場合には、試料イオンに高いエネルギー
を与える必要がある。そのため、第２図で中符号
１９で示すように第２のスキマー１０と電極群１
７間に加速電極を設置し、この電極に例えば±
10KV程度の高電圧を印加すると共に、ノズル
９、第１及び第２のスキマー１０，１１にも同程
度の高電圧を印加しなければならない。その結
果、高電圧が印加されるノズル９と接地電位であ
るケース１８との間で放電が発生するため、非常
に危険である。
そこで、本考案はかかる点に鑑みてなされたも
のであり、ノズルとケース間の放電を防止しなが
ら高周波の漏洩を防止することのできる装置を提
供することを目的とするものである。
のであり、ノズルとケース間の放電を防止しなが
ら高周波の漏洩を防止することのできる装置を提
供することを目的とするものである。
［課題を解決するための手段］
上記目的を達成するため、本考案は高周波誘導
結合プラズマイオン源を用いて試料をイオン化
し、生じたイオンをノズル及びスキマーからなる
インターフエースを介して質量分析計に導入する
ようにした装置において、前記高周波誘導結合プ
ラズマイオン源を電気良導体製ケースで包囲し、
かつこのケースの前記ノズルと対向する表面を電
気絶縁体で覆うようにしたことを特徴とするもの
である。
結合プラズマイオン源を用いて試料をイオン化
し、生じたイオンをノズル及びスキマーからなる
インターフエースを介して質量分析計に導入する
ようにした装置において、前記高周波誘導結合プ
ラズマイオン源を電気良導体製ケースで包囲し、
かつこのケースの前記ノズルと対向する表面を電
気絶縁体で覆うようにしたことを特徴とするもの
である。
以下、本考案の実施例を図面に基づいて詳説す
る。
る。
［実施例］
第１図は本考案の一実施例を示す要部拡大断面
図であり、第２図と同一符号のものは同一構成要
素を示す。
図であり、第２図と同一符号のものは同一構成要
素を示す。
即ち、本実施例においては、ICPイオン源１を
包囲するケース１８のノズル９と対向する表面を
例えばポリイミド、セラミツクあるいはテフロン
のような電気絶縁体２０で覆うように構成したこ
とを特徴とするものである。尚、２１は高周波コ
イル２を支持する支持枠で、石英ガラス等の電気
絶縁物質で形成されている。２２はノズル９、第
１のスキマー１０等を支持するための電気絶縁体
である。
包囲するケース１８のノズル９と対向する表面を
例えばポリイミド、セラミツクあるいはテフロン
のような電気絶縁体２０で覆うように構成したこ
とを特徴とするものである。尚、２１は高周波コ
イル２を支持する支持枠で、石英ガラス等の電気
絶縁物質で形成されている。２２はノズル９、第
１のスキマー１０等を支持するための電気絶縁体
である。
［効果］
以上詳述したような本考案によれば、ICPイオ
ン源を収納するケースのノズルと対向する表面は
電気絶縁体で包囲されているため、高周波の漏洩
を防止しながらケースと高電圧が印加されたノズ
ル間の放電を防止することができる。
ン源を収納するケースのノズルと対向する表面は
電気絶縁体で包囲されているため、高周波の漏洩
を防止しながらケースと高電圧が印加されたノズ
ル間の放電を防止することができる。
第１図は本考案の一実施例を示す要部拡大断面
図、第２図はICP−MSの構成を示す図である。 １……ICPイオン源、２……高周波コイル、３
……プラズマトーチ、４……ネブライザ、５……
試料ボトル、６……試料液、７……導入管、８…
…インターフエース、９……ノズル、１０，１１
……第１、第２のスキマー、１２……質量分析装
置、１４……油拡散ポンプ、１５，１６……油回
転ポンプ、１７……電極群、１８……ケース、１
９……加速電極、２０……電気絶縁体、２１……
支持枠。
図、第２図はICP−MSの構成を示す図である。 １……ICPイオン源、２……高周波コイル、３
……プラズマトーチ、４……ネブライザ、５……
試料ボトル、６……試料液、７……導入管、８…
…インターフエース、９……ノズル、１０，１１
……第１、第２のスキマー、１２……質量分析装
置、１４……油拡散ポンプ、１５，１６……油回
転ポンプ、１７……電極群、１８……ケース、１
９……加速電極、２０……電気絶縁体、２１……
支持枠。
Claims (1)
- 高周波誘導結合プラズマイオン源を用いて試料
をイオン化し、生じたイオンをノズル及びスキマ
ーからなるインターフエースを介して質量分析計
に導入するようにした装置において、前記高周波
誘導結合プラズマイオン源を電気良導体製ケース
で包囲し、かつこのケースの前記ノズルと対向す
る表面を電気絶縁体で覆うようにしたことを特徴
とする高周波誘導結合プラズマ質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8788288U JPH0521245Y2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8788288U JPH0521245Y2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH028853U JPH028853U (ja) | 1990-01-19 |
| JPH0521245Y2 true JPH0521245Y2 (ja) | 1993-05-31 |
Family
ID=31312472
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8788288U Expired - Lifetime JPH0521245Y2 (ja) | 1988-07-01 | 1988-07-01 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0521245Y2 (ja) |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH07246919A (ja) * | 1994-03-10 | 1995-09-26 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | バス床裏洗浄システム |
| JP2010197080A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Sii Nanotechnology Inc | 誘導結合プラズマ分析装置 |
-
1988
- 1988-07-01 JP JP8788288U patent/JPH0521245Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH028853U (ja) | 1990-01-19 |
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