JPS6155848A - 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 - Google Patents
誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置Info
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- JPS6155848A JPS6155848A JP59178869A JP17886984A JPS6155848A JP S6155848 A JPS6155848 A JP S6155848A JP 59178869 A JP59178869 A JP 59178869A JP 17886984 A JP17886984 A JP 17886984A JP S6155848 A JPS6155848 A JP S6155848A
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J49/00—Particle spectrometers or separator tubes
- H01J49/02—Details
- H01J49/10—Ion sources; Ion guns
- H01J49/12—Ion sources; Ion guns using an arc discharge, e.g. of the duoplasmatron type
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- Electron Tubes For Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、誘導結合プラズマ（以下、ＩＣＰと言う）で
励起する原子等を導電性部材から成るノズルを介して分
析部に導入する装置に関し、特にＩＣＰにノズルを接触
したとき発生するノイズを低減したＩＣＰをイオン源と
した質ｍ分析装置に関する。
励起する原子等を導電性部材から成るノズルを介して分
析部に導入する装置に関し、特にＩＣＰにノズルを接触
したとき発生するノイズを低減したＩＣＰをイオン源と
した質ｍ分析装置に関する。
［従来の技術１
従来のＩＣＰをイオン源とした質量分析装置として、例
えば、第２図に示すものがある。図において、１はＩＣ
Ｐ発生装賃、２は真空排気装置、３は質量分析装置であ
る。［ＣＰ発生装置１は、シールドケース４に収納され
たプラズマトーチ５（トーチの先端にワークコイル６が
巻回され、その近傍でＩＣＰ７が発生する）と、ワーク
コイル６に高周波電圧を印加する高周波電圧源８〈接地
、側２５がケース４に接続されている）と１、キャリア
ガス（アルゴンガス）によりサンプル９を霧状にしてプ
ラズマトーチ５に供給するネプライザ１０と、流量計１
１を介してプラズマトーチ５及びネプライザ１０にアル
ゴンガスを供給するガス供給装置１２とで構成される。
えば、第２図に示すものがある。図において、１はＩＣ
Ｐ発生装賃、２は真空排気装置、３は質量分析装置であ
る。［ＣＰ発生装置１は、シールドケース４に収納され
たプラズマトーチ５（トーチの先端にワークコイル６が
巻回され、その近傍でＩＣＰ７が発生する）と、ワーク
コイル６に高周波電圧を印加する高周波電圧源８〈接地
、側２５がケース４に接続されている）と１、キャリア
ガス（アルゴンガス）によりサンプル９を霧状にしてプ
ラズマトーチ５に供給するネプライザ１０と、流量計１
１を介してプラズマトーチ５及びネプライザ１０にアル
ゴンガスを供給するガス供給装置１２とで構成される。
真空排気装置２は、導電性部材から成り、かつ６苗が絶
縁部材で電気的に絶縁されている３室、即ち、油回転ポ
ンプ１３によって排気され、ノズル１４をＩＣＰ７に接
触させる第１至１５と、大形拡散ポンプ１６によって排
気される第２室１７と、買ｍ分析装置３を８Ｑ ！Ｆｆ
する空であって、拡散ポンプ１８で排気されると共に
、接地電位１つに保持される第３苗２０から成る差ジノ
排気容器の構成となっている。
縁部材で電気的に絶縁されている３室、即ち、油回転ポ
ンプ１３によって排気され、ノズル１４をＩＣＰ７に接
触させる第１至１５と、大形拡散ポンプ１６によって排
気される第２室１７と、買ｍ分析装置３を８Ｑ ！Ｆｆ
する空であって、拡散ポンプ１８で排気されると共に
、接地電位１つに保持される第３苗２０から成る差ジノ
排気容器の構成となっている。
このようなＩＣＰをイオン源とした質量分析装置におい
て、ＩＣＰ発生装置１のプラズマトーチ５は、ワークコ
イル６に高周波電圧源８がら２７゜１２ＭＨｚ又は４０
．６８Ｍ！−１ｚ でｏ 〜２ＫＷの高周波電力の供給
を受けると共に、ガス供給装置１２からアルゴンガスの
供給を受けて、ＩＣＰ７を発生する。そして、プラズマ
トーチ５は、その１ｃＰ７の中にネプライザ１０がらの
霧状のナンブル９（アルゴンガスがキレリア）を通過さ
せ励起して送出づる。
て、ＩＣＰ発生装置１のプラズマトーチ５は、ワークコ
イル６に高周波電圧源８がら２７゜１２ＭＨｚ又は４０
．６８Ｍ！−１ｚ でｏ 〜２ＫＷの高周波電力の供給
を受けると共に、ガス供給装置１２からアルゴンガスの
供給を受けて、ＩＣＰ７を発生する。そして、プラズマ
トーチ５は、その１ｃＰ７の中にネプライザ１０がらの
霧状のナンブル９（アルゴンガスがキレリア）を通過さ
せ励起して送出づる。
又、真空排気装置２は、各ポンプを駆動して冬至を所定
の真空、例えば、第１室１５がＩＴｏｒｒ、第２苗１７
が１０″４Ｔｏｒｒ、第３室１９が１０４Ｔｏｒｒの真
空を実現している。これらの動作により励起された原子
等がノズル１４を介して導入される。質の分析装置３は
、この原子等の分析を行う。
の真空、例えば、第１室１５がＩＴｏｒｒ、第２苗１７
が１０″４Ｔｏｒｒ、第３室１９が１０４Ｔｏｒｒの真
空を実現している。これらの動作により励起された原子
等がノズル１４を介して導入される。質の分析装置３は
、この原子等の分析を行う。
［発明が解決しようとする問題点１
しかし、従来のＩＣＰをイオン１涼としたＨｍ分析装置
は、ＩＣＰ７にノズル１４を接触させると、ＩＣＰ用の
高周波電力が真空排気装置１７を通じ接地側２０に流れ
、ノズル１４をはじめとする真空排気装置２を構成する
容器がアンテナとして動作するため、質ｍ分析部げ３や
周囲の池の線温に対して非常に大きなノイズになるとい
う問題があった。又、高周波電源８の出力部（Δ−トヂ
ューニング、パワーコントロール等をＭｎえている）に
おいても不安定動作を招くという問題があった。
は、ＩＣＰ７にノズル１４を接触させると、ＩＣＰ用の
高周波電力が真空排気装置１７を通じ接地側２０に流れ
、ノズル１４をはじめとする真空排気装置２を構成する
容器がアンテナとして動作するため、質ｍ分析部げ３や
周囲の池の線温に対して非常に大きなノイズになるとい
う問題があった。又、高周波電源８の出力部（Δ−トヂ
ューニング、パワーコントロール等をＭｎえている）に
おいても不安定動作を招くという問題があった。
本発明は、このような点に鑑みてなされたもので、その
目的は、ノズルをＩＣＰに接触させたときに発生するノ
イズを小さくし、質■分析装置や高周波電源への影響を
低減したＩＣＰをイオン源とした賀ｍ分析装置を提供す
ることにある。
目的は、ノズルをＩＣＰに接触させたときに発生するノ
イズを小さくし、質■分析装置や高周波電源への影響を
低減したＩＣＰをイオン源とした賀ｍ分析装置を提供す
ることにある。
［問題を解決するだめの手段］
上記問題を解決する本発明は、誘導結合プラズマで励起
する原子等を導電性部材から成るノズルを介して分析部
に導入する誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析
装置において、前記誘導結合プラズマを発生するワーク
コイルの接地側と前記ノズルを低インピーダンス結合す
る手段を具備することを特徴とするものである。
する原子等を導電性部材から成るノズルを介して分析部
に導入する誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析
装置において、前記誘導結合プラズマを発生するワーク
コイルの接地側と前記ノズルを低インピーダンス結合す
る手段を具備することを特徴とするものである。
［実施例］
以下、図面を参照し本発明の実価例を詳細に説明する。
第１図（イ）及び（ロ）は、本発明の要部を示す４１１
．Ｓ成図である。（イ）は、ノズル１４とｒｃｐ７が接
触していない状態を示づ図であり、（ロ）は、ノズル１
４とＩ 、ＣＰ ７が接触した状態を示ず図である。図
において、第２図と同一部分には同一符号を付し、こ）
での説明を省略する。２１はシールドケース４のシール
ド板２２（ワークコイル６の接地側と同電位）に一端が
固着された板状のばね２３に成句けられる第１接触子、
２４はノズル１４に固着され、ノズル１４とＩＣＰ７を
接触されたとき第１接触子２１と接触する第２接触子で
ある。第１接触子２１．第２接触子２４及びばね２３は
全て導電性部材（例えば銅材）で構成されている。各接
触子２１及び２４は、いわゆる楔形構造をしており、ノ
ズル１４とＩＣＰ７を接触させるとき、スライドしなが
ら広い面積で密着して電気的低インピーダンス結合手段
を構成している。
．Ｓ成図である。（イ）は、ノズル１４とｒｃｐ７が接
触していない状態を示づ図であり、（ロ）は、ノズル１
４とＩ 、ＣＰ ７が接触した状態を示ず図である。図
において、第２図と同一部分には同一符号を付し、こ）
での説明を省略する。２１はシールドケース４のシール
ド板２２（ワークコイル６の接地側と同電位）に一端が
固着された板状のばね２３に成句けられる第１接触子、
２４はノズル１４に固着され、ノズル１４とＩＣＰ７を
接触されたとき第１接触子２１と接触する第２接触子で
ある。第１接触子２１．第２接触子２４及びばね２３は
全て導電性部材（例えば銅材）で構成されている。各接
触子２１及び２４は、いわゆる楔形構造をしており、ノ
ズル１４とＩＣＰ７を接触させるとき、スライドしなが
ら広い面積で密着して電気的低インピーダンス結合手段
を構成している。
このようなＩＣＰをイオン源とした質■分析装置におい
て、分析に入るとき、第１図（イ）に示す矢印へ方向か
ら、真空排気装置２（質量分析装置）をｒＣＰ発生装置
１に近づ【プて、ノズル１４とＩＣＰ７を接触状態にも
ってゆく。このとぎ、第２接触子２４は、先端を第１接
触子２１とシールド板２２の間に接触させ、かつスライ
ドさせながら、第１接触子２１及びシールド板２２との
接触を強めてゆく。そして、ノズル１４とＩＣＰ７が第
２図（ロ）に示す接触状−態にあっては、第２接触子２
４は第１接触子２１及びシールド板２２と広い面積で密
着し低インピーダンス結合となる。
て、分析に入るとき、第１図（イ）に示す矢印へ方向か
ら、真空排気装置２（質量分析装置）をｒＣＰ発生装置
１に近づ【プて、ノズル１４とＩＣＰ７を接触状態にも
ってゆく。このとぎ、第２接触子２４は、先端を第１接
触子２１とシールド板２２の間に接触させ、かつスライ
ドさせながら、第１接触子２１及びシールド板２２との
接触を強めてゆく。そして、ノズル１４とＩＣＰ７が第
２図（ロ）に示す接触状−態にあっては、第２接触子２
４は第１接触子２１及びシールド板２２と広い面積で密
着し低インピーダンス結合となる。
このため、ノズル１４に伝わるＩＣＰＲ生用高周波電力
の一部は、第２接触子２４→シールド板２２（第１接触
子２１．ばね２３）の最短距離で高周波電源９の接地側
２５に流れる。従って、真空排気装置２を（ｊ４成づる
第２室１７．第３室３（第２図参照）の方にはと／νど
高周波電力が流れずノイズそのものが非常に小さくなる
。
の一部は、第２接触子２４→シールド板２２（第１接触
子２１．ばね２３）の最短距離で高周波電源９の接地側
２５に流れる。従って、真空排気装置２を（ｊ４成づる
第２室１７．第３室３（第２図参照）の方にはと／νど
高周波電力が流れずノイズそのものが非常に小さくなる
。
尚、本発明は、ワークコイルの接地側２５とノズル１４
を低インピーダンス結合する手段を、上記実施例の櫟形
接触子に限定するものではなく、池の形状、例えば、円
筒形接触子や直方体形接触子で描成するようにしてもよ
い。
を低インピーダンス結合する手段を、上記実施例の櫟形
接触子に限定するものではなく、池の形状、例えば、円
筒形接触子や直方体形接触子で描成するようにしてもよ
い。
［発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、ＩＣＰを発生ず
るワークコイルの接地側とノズルを低インピーダンス結
合するようにしたため、ノイズが小さくなり、質量分析
装置や高周波電源への影響を低減することができる。
るワークコイルの接地側とノズルを低インピーダンス結
合するようにしたため、ノイズが小さくなり、質量分析
装置や高周波電源への影響を低減することができる。
第１図（イ）及び（ロ）は本発明の一実施例を示す構成
図、第２図は従来例を示す構成図である。
図、第２図は従来例を示す構成図である。
Claims (1)
- 誘導結合プラズマで励起する原子等を導電性部材から成
るノズルを介して分析部に導入する誘導結合プラズマを
イオン源とした質量分析装置において、前記誘導結合プ
ラズマを発生するワークコイルの接地側と前記ノズルを
低インピーダンス結合する手段を具備することを特徴と
する誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59178869A JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59178869A JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6155848A true JPS6155848A (ja) | 1986-03-20 |
| JPH0322015B2 JPH0322015B2 (ja) | 1991-03-26 |
Family
ID=16056107
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59178869A Granted JPS6155848A (ja) | 1984-08-28 | 1984-08-28 | 誘導結合プラズマをイオン源とした質量分析装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6155848A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6489256A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Yokogawa Electric Corp | High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer |
| JPH02312154A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Jeol Ltd | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| JPH05500286A (ja) * | 1989-01-30 | 1993-01-21 | フィソンズ・パブリック・リミテッド・カンパニー | プラズマ質量分析計 |
| CN105355534A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-02-24 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的方法及装置 |
-
1984
- 1984-08-28 JP JP59178869A patent/JPS6155848A/ja active Granted
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6489256A (en) * | 1987-09-30 | 1989-04-03 | Yokogawa Electric Corp | High-frequency inductive coupling plasma mass spectrometer |
| JPH05500286A (ja) * | 1989-01-30 | 1993-01-21 | フィソンズ・パブリック・リミテッド・カンパニー | プラズマ質量分析計 |
| JPH02312154A (ja) * | 1989-05-26 | 1990-12-27 | Jeol Ltd | 高周波誘導結合プラズマ質量分析装置 |
| CN105355534A (zh) * | 2015-11-23 | 2016-02-24 | 中国科学院地质与地球物理研究所 | 一种实现电感耦合等离子体离子源工作在惰性气体环境的方法及装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0322015B2 (ja) | 1991-03-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |