JPH03215689A - 銅スルホール基板用洗浄組成物 - Google Patents

銅スルホール基板用洗浄組成物

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JPH03215689A
JPH03215689A JP710890A JP710890A JPH03215689A JP H03215689 A JPH03215689 A JP H03215689A JP 710890 A JP710890 A JP 710890A JP 710890 A JP710890 A JP 710890A JP H03215689 A JPH03215689 A JP H03215689A
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JP
Japan
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copper
cleaning composition
hole substrate
cleaning
surfactant
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JP710890A
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English (en)
Inventor
Fumiaki Ogura
小椋 文昭
Takao Enomoto
貴男 榎本
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NIPPON ALPHA METALS KK
Original Assignee
NIPPON ALPHA METALS KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 この発明は銅スルホール基板用洗浄組成物に関する。
く従来の技術及びその課題〉 電子機器組立で使用される銅スルホール基板は、銅導体
層保護のため変性口ジンを主成分とする保護膜(ブリフ
ラックス)が塗布されている。そして、基板組立後にフ
ロン、アルコール、トリクロルエチレン等の有機溶剤で
その保護膜の洗浄を行うが、半田付け工程で約250℃
に達する熱を受けるため、前記保護膜が白色となってし
ばしば洗浄後も残り、組立品質上好ましくなかった。こ
れは、溶剤の溶解力不足に起因するものであり、従来の
洗浄組成物では完全に除去することができなかった。
しかも、前記の如き有機溶剤は安全衛生上或いは安全管
理上好ましくなかった。特に、フロンやトリクロルエタ
ンは、地球のオゾン層破壊の原因物質といわれ、大量使
用が国際協約等にて規制されつつあるため、これからは
事実上使用することかてきない。
この発明はこのような従来の技術に着目してなされたも
のであり、洗浄効果が高く且つ非毒性で環境に悪影響を
及ぼさない銅スルホール基板用洗浄組成物を提供せんと
するものである。
く課題を解決するための手段〉 上記の目的を達成するため、この発明に係る銅スルホー
ル基板用洗浄組成物はテルペン化合物と、必要により4
0wt%以下の界面活性剤とを含む構成としたつ ここで、テルペン化合物としては、ピネンに限定される
ものではないが、α、β異性体の両者、γ−テルピネン
、δ−3一カレン、リモネンおよびジペンテン(光学活
性リモネンの異性体のラセミ混合物)を含み、中でもd
−リモネン、l−リモネン、ジペンテン等が好ましい。
これらテルペン化合物は、単独でも使用することかでき
、銅スルホール基板の汚れ(油脂)と複合体を形成し、
除去後に、過剰テルペンでフラッシュすることにより、
または紙あるいは布に付着することにより除去される。
しかしながら、テルペン類はほぼ完全に非水溶性のため
に、水で直接フラッシュされない。あるいはまた好まし
くは、テルペン化合物は1種またはそれ以上のテルペン
乳化界面活性剤と結合している。かかる界面活性剤を添
加すると、水ですすぐことによりテルペン類は水中油滴
工マルジョンを形成するため、銅スルホール基板からの
テルペン類の除去を促進する。
このテルベン化合物は、従来使用されていた有機溶媒と
は異なり、非毒性で環境に対し生分解性を有する。リモ
ネンは、快いレモン臭を有するレモン、オレンジ、カラ
ウエー、イノンドおよびベルガモットの油のような各種
エーテル性油中の天然産品である。
界面活性剤としては、非イオン系、アニオン系、カチオ
ン系、両性のいずれでも良い。特に、直鎖アルキルベン
センスルホネート類に限定されず、直鎖または枝分れ鎖
アルコールエトキシレート類およびエトキシスルフェー
ト類、ポリソルベートエステル類、エトキシレート化ア
ルキルフエノ−ル類およびアルキルおよびジアルキルス
クシネート化合物等の、テルペン類を乳化可能なものも
使用できる。化合物の後者の1例として、ナトリウムシ
オクチルスルホスクシネートがある。エトキシレート化
アルキルフェノール類は、各種アルキル側鎖および多数
のリンクされたエチレンオキシド単位を含む。この類の
有効な化合物は、約5〜20、好ましくは7または8の
エチレンオキシド基を含む。
更に、この洗浄組成物は加温する必要がなく、常温(1
5〜25°C)で使用することができる。
〈、実 施 例〉 本発明に係る以下の組成A−Fの如き洗浄組成物をつく
り、これを用いて銅スルホール基板の清浄実験を行った
実験方法としては、上記組成の洗浄組成物を浸漬タンク
内に溜め、その洗浄タンク内に銅スルホール基板を浸漬
したり、浸漬したままブラシで洗浄したり、或いはシャ
ワー洗浄した。そして純水で洗浄し、乾燥させた。
組成D (非イオン系千両性) 組成E (非イオン系) 組成F (非イオン系+陰イオン系) 銅スルホール基板 結果は上記のように、銅スルホール基板の表面にロジン
保護膜の白色残はだいたい残っていなかった。更に、ロ
ジン保護膜だけでなく、基板組立の際に使用した水溶性
フラックスも完全に除去されており、残留イオン物をア
ルファメタルズ社製オメガメータにより測定したところ
、米軍規格14 (μgNacl/sq in)以下の
値が得られた。
・〈発明の効果〉 この発明に係る銅スルホール基板用洗浄組成物は、以上
説明してきた如き内容のものであって、銅スルホール基
板に対して高い洗浄効果を示すものでありながら、非毒
性で環境に対し生分解性を有するので、安全衛生上或い
は安全管理上好適である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)テルペン化合物と、必要により40wt%以下の
    界面活性剤とを含む銅スルホール基板用洗浄組成物。
  2. (2)テルペン化合物が、d−リモネン、l−リモネン
    、ジペンテンから成る群から選ばれる請求項1記載の銅
    スルホール基板用洗浄組成物。
  3. (3)界面活性剤が、直鎖アルキルベンゼンスルホネー
    ト類、直鎖または枝分れ鎖アルコールエトキシレート類
    およびエトキシスルフェート類、ポリソルベートエステ
    ル類、アルキルおよびジアルキルスクシネート化合物類
    、および約5〜20のエチレンオキシド基を有するエト
    キシレート化アルキルフェノール類から成る群から選ば
    れるテルペン乳化界面活性剤である請求項1又は2記載
    の銅スルホール基板用洗浄組成物。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060598A (en) * 1990-05-15 2000-05-09 Hyperion, Inc. Fluorescence immunoassays using fluorescent dyes free of aggregation and serum binding

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6060598A (en) * 1990-05-15 2000-05-09 Hyperion, Inc. Fluorescence immunoassays using fluorescent dyes free of aggregation and serum binding

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