JPH03212497A

JPH03212497A - 洗浄組成物

Info

Publication number: JPH03212497A
Application number: JP710590A
Authority: JP
Inventors: Fumiaki Ogura; 小椋　文昭; Takao Enomoto; 貴男榎本
Original assignee: NIPPON ALPHA METALS KK
Current assignee: NIPPON ALPHA METALS KK
Priority date: 1990-01-18
Filing date: 1990-01-18
Publication date: 1991-09-18

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】〈産業上の利用分野〉この発明は、プリント基板および電子部品の半田付はア
センブリーにおいて発生するフラックス残渣及びソルダ
リングオイル等の非水溶性残漬物及び水溶性残渣を洗浄
するための洗浄組成物に関するものである。

〈従来の技術及びその課題〉プリント基板及び電子部品の製造加工においては種々の
薬品が使用される。例えば、銅メツキ薬品、金メツキ薬
品、ニッケルメッキ薬品、半田メツキ薬品、ソルダーコ
ート・ヒユージングフラックス、プリフラックス、ポス
トフラックス、プレス用オイル、シリコンオイル、メツ
キレジスト、接着剤、マーカー、ラミネート樹脂等の薬
品本体及びその残渣は、水溶性あるいは非水溶性の混合
物である事が多い。

そして、このような薬品及びその残渣を洗浄するために
、従来はアルコール、フロン、トリクロルエタン等の有
機溶剤を使用してきたが、フロンやトリクロルエタンだ
けでは水溶性残渣の除去が十分でなく、またアルコール
だけでは非水溶性残渣（樹脂等）の除去が十分でなかっ
た。

また、これら有機溶剤は安全衛生上或は安全管理上好ま
しいものではなかった。例えば、アルコールは引火点が
１０〜２０℃と低く取扱上の困難さがあった。加えて、
フロンやトリクロルエタンは、オゾン層破壊の原因物質
といわれ、大量使用は国際協約等にて規制され事実上そ
の存在意義を失ってしまった。

非毒性で環境に悪影響を与えない洗浄組成物も提案され
つつあるが（特許公表昭和６３−５０１９０８号公報参
照）、表面張力が３０〜３５ｄｙｎと高いために、半導
体ウェハやフラットパック（ＱＦＰ）等の洗浄、ならび
にプリント基板における５０〜１００μｍの微細な間隙
の洗浄に好適でない場合があった。

この発明はこのような従来の技術に着目してなされたも
のであり、プリント基板や電子部品の製造に於て発生す
る水溶性あるいは非水溶性物質を高精度で洗浄すること
ができる洗浄組成物を提供せんとするものである。

く課題を解決するための手段〉この発明に係る洗浄組成物は、上記の目的を達成するた
めに、１〜９９ｗｔ％のテルペン化合物と、０．５〜２
０ｗｔ％のアニオン系、カチオン系、両性のいずれかで
ある界面活性剤と、ｏ、　ｏ　ｏ　ｔ〜５ｗｔ％のフッ
素系界面活性剤と、０〜７０ｗｔ％の水と、から成るも
のである。

ここで、テルペン化合物としては、ピネンに限定される
ものではないが、α、β異性体の両者、γ−テルピネン
、δ−３−カレン、リモネンおよびジペンテン（光学活
性リモネンの異性体のラセミ混合物）を含み、中でもｄ
−リモネン、ｌ−リモネン、ジペンテン等が好ましい。

これらテルペン化合物は、プリント基板等の表面の汚れ
（油脂）と複合体を形成し、除去される。

しかしながら、テルペン類はほぼ完全に非水溶性のため
に界面活性剤と結合される。かかる界面活性剤を添加す
ると、水ですすぐことによりテルペン類は水中油滴エマ
ルジョンを形成するため、テルペン類の除去を促進する
。このテルペン化合物は、従来使用されていた有機溶媒
とは異なり、非毒性で環境に対し生分解性を有する。リ
モネンは、快いレモン臭を有するレモン、オレンジ、カ
ラウェー、イノンドおよびベルガモツトの油のような各
種エーテル性油中の天然産品である。

非イオン系、アニオン系、カチオン系、両性の界面活性
剤としては、特に直鎖アルキルベンセンスルホネート類
に限定されず、直鎖または枝分れ鎖アルコールエトキシ
レート類およびエトキシスルフェート類、ポリソルベー
トエステル類、エトキシレート化アルキルフェノール類
およびアルキルおよびジアルキルスクシネート化合物等
の、テルペン類を乳化可能なものも使用できる。化合物
の後者の１例として、ナトリウムジオクチルスルホスク
シネートがある。エトキシレート化アルキルフェノール
類は、各種アルキル側鎖および多数のリンクされたエチ
レンオキシド単位を含む。この類の有効な化合物は、約
５〜２０、好ましくは７または８のエチレンオキシド基
を含む。

フッ素系界面活性剤としても、非イオン系、アニオン系
、カチオン系、両性の全てのタイプのものを使用でき、
代表的には、■フルオロアルキルカルボン酸（０２〜Ｃ
２０）、■モノパーフルオロアルキルエチルリン酸エス
テル、■パーフルオロアルキルーＮ−エチルスルホニル
グリシン塩、■パーフルオロアルキルスルホン酸塩、■
パーフルオロオクタンスルホン酸ジェタノールアミド、
■パーフルオロオクタンスルホニルグルタミン酸ジナト
リウム、■Ｎ−プロピルーＮ−（２−ヒドロキシエチル
）パーフルオロオクタンスルホンアミド、■３−〔フル
オロアルキルオキシ〕−１−アルキルスルホン酸ナトリ
ウム、■３−〔Ｗ−フルオロアルカノイル−Ｎ−二チル
アミノ）−１−プロパンスルホン酸ナトリウム、＠）Ｎ
−Ｃ３−（パーフルオロオクタンスルホンアミド）プロ
ピル〕−Ｎ、　Ｎ−ジメチル−Ｎ−カルボキンメチレン
アンモニウムベタイン、■パーフルオロアルキルスルホ
ンアミドプロピルトリメチルアンモニウム塩、■リン酸
ビス（Ｎ−パーフルオロオクチルスルホニル−Ｎ−エチ
ルアミノエチル）、等が好適である。このフッ素系界面
活性剤を含んでいるために、洗浄組成物の表面張力が１
５ｄｙｎ程度まで低下し、微細な間隙等も確実に洗浄で
きる。この洗浄組成物は、水は含んでも含まなくても良
い。更に、この洗浄組成物は加温する必要がなく、常温
（１５〜２５°Ｃ）で使用することができる。

そして、使用方法としては、この発明に係る洗浄組成物
を浸漬タンク或は超音波タンクに入れ、そこに被洗浄物
を浸漬させたり、或いはシャワースプレー槽内に入れて
本発明の洗浄組成物を被洗浄物へ噴射しても良い。そし
て、この洗浄組成物にて被洗浄物表面の水溶性・非水溶
性物を溶解した後、水による洗浄を行う。

〈実　施　例〉下記表の組成組成Ｎｏ、　１〜１０の如き洗浄組成物を
つくり、この洗浄組成物を用いてプリント基板の清浄実
験を行った。尚、本発明に係る洗浄組成物としては、Ｎ
ｏ、　２〜１０のものであって、Ｎ０１１はフッ素系界
面活性剤を含んでいないので、比較例である。この洗浄
実験で用いられるプリント基板にはロジンフラックス及
び水溶性フラックス、または油脂や樹脂等の汚れが付着
している。

実験方法としては、まず上記組成の洗浄組成物を浸漬タ
ンク内に溜め、その洗浄タンク内にプリント基板を浸漬
した。そして、浸漬タンク内に２分間静置状態で浸漬し
た後、取り出して純水で洗浄し、乾燥させた。結果は、
以下の表に示す如く、２〜ＩＯの洗浄組成物にあっては
、表面張力が全て２０６ｙｎ以下の低い値に下がってい
た。

そして、洗浄後のプリント基板の表面を観察したことろ
全て良好（◎）であった。すなわち、前述した如き汚れ
を検出することができず、白色残渣等も確認することが
できなかった。このことは、油脂等の汚れが洗浄組成物
により完全に溶解され、しかるのち水にて完全に除去さ
れたことを示している。

更に、残留イオン物をアルファメタルズ社製オメガメー
タにより測定したところ、全て米軍規格１４　　（μｇ
Ｎａｃｌ／ｓｑ　ｉｎ）以下であった。このことは、ロ
ジンフラックスも水溶性フラックスも同時に除去された
ことを示している。

〈発明の効果〉この発明に係る洗浄組成物は、以上説明してきた如き内
容のものであって、表面張力が低いので微細な間隙内に
入り混んでいる汚れ等も確実に洗浄することができる。

従って、高精度な洗浄が要求される半導体ウェハやフラ
ットパック（Ｑ　Ｆ　Ｐ）等の洗浄に好適である。

また、この洗浄組成物は非水溶性残漬物及び水溶性残渣
の両方に高い洗浄効果を示すものでありながら、非毒性
で環境に対し生分解性を有するので、安全衛生上或いは
安全管理上好適である。

Claims

【特許請求の範囲】

　１〜９９ｗｔ％のテルペン化合物と、０．５〜２０ｗ
ｔ％の非イオン系、アニオン系、カチオン系、両性のい
ずれかである界面活性剤と、０．００１〜５ｗｔ％のフ
ッ素系界面活性剤と、０〜７０ｗｔ％の水と、から成る
洗浄組成物。