JPH0321431A - 凹部形成方法 - Google Patents

凹部形成方法

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Publication number
JPH0321431A
JPH0321431A JP1156194A JP15619489A JPH0321431A JP H0321431 A JPH0321431 A JP H0321431A JP 1156194 A JP1156194 A JP 1156194A JP 15619489 A JP15619489 A JP 15619489A JP H0321431 A JPH0321431 A JP H0321431A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
hole
recessed part
cover
recess
pressing
Prior art date
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Pending
Application number
JP1156194A
Other languages
English (en)
Inventor
Takeshi Sasaki
毅 佐々木
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Publication of JPH0321431A publication Critical patent/JPH0321431A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野〉 本発明は被加工部材に凹部を形成する凹部形成方法に関
する。
(従来の技術) 例えばハードディスク装置のカバーなどの機械部品では
、その機能上の必要性から他の部品との干渉を避けるた
めに、表面に浅い凹部を形成する場合がある。この凹部
を形成する加工方法としては、従来はフライス盤などを
用いた切削加工が一般的であった。
しカルながらこの加工方法によると、フライス盤などに
より被加工部材を1点ずつ切削加工しなければならず、
段取り時間及び加工時間が長くがかり、加エコストが高
くなって量産に適していないという問題があった。
(発明が解決しようとする課題) 上述したように従来の凹部形成方法によると、切削加工
による方法であるため段取り及び加工に時間がかかり、
コスト高となって量産に適しないという問題があった。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、簡単で安
価な凹部形成方法を提供することを目的とする。
[発明の構戒] (課題を解決するための手段) 上記目的を達成するために本発明は、被加工部材に貫通
孔を形成する第lの工程と、この貫通孔の周辺を押圧し
て凹部を形成するとともに、前記被加工部材の塑性流動
により前記貫通孔を閉塞する第2の工程とにより凹部を
形成するようにしたものである。また閉塞された貫通孔
の部分に気密または液密が要求される場合は、第3の工
程としてこの貫通孔の凹部と反対側の面に被覆部材を接
着するようにしたものである。
(作用) 上記の手段によると、被加工部材に第lの工程において
形威された貫通孔は、第2の工程においてプレス加工な
どで押圧され、貫通孔周辺の被加工部材は塑性流動によ
ってこの貫通孔内に移動し、貫通孔を埋めて閉塞する。
そして押圧部には凹部が形成される。このとき貫通孔が
閉塞されたあとの亀裂部に被覆部材を接着することによ
り一気密、液密に密封することができる。従って切削加
工が不要となり加工コストを低減できる。
(実施例) 以下、本発明の一実施例を図面を参照して説明する。
第1図乃至第3図に本発明の一実施例による加工方法を
示す。本実施例ではハードディスク装置のカバー1に凹
部を形成する場合を説明する。第lの工程においてカバ
ー1にプレス加工により貫通孔2を形成する。この貫通
孔2の直径は目的とする凹部の体積に相当するか、ある
いはやや小さい体積の貫通孔となるように選定する。第
1図はこの第1の工程が終了したときの状態を示してお
り、2点鎖線で示す部分が目的とする凹部3である。
次に第2の工程において、目的の凹部3の形状のパンチ
4により貫通孔2を中心としてプレス加工して、第2図
に示すようにカバー1の表面に所定の深さの凹部3を形
成する。このときカバー1の貫通孔2の周縁部は矢印A
で示す方向に塑性流動して、第3図に示すように貫通孔
2を閉塞する。
また賞通孔2が変形して閉塞された跡には亀裂5が残る
が、カバー1に気密性が要求される場合にはこの亀裂5
を被覆するように被覆部材であるシ一ト6を接着して密
封する。
なお、凹部3の形状が例えば第4図及び第5図に示すよ
うな長孔7である場合は、第1の工程において長孔7の
形状に合わせて2点鎖線で示すような貫通孔8を加工し
、長孔7の形状のパンチでプレス加工して凹部9を形成
すればよい。なお図中符号10は貫通孔8が閉塞された
後に残る亀裂である。
本実施例によれば、凹部3,9を形成する加工方法がす
べてプレス加工であり、切削加工が不要となるので加工
が簡単となりコストが低減される。
また亀裂5.10にシ一ト6を接着することにより、カ
バー1の気密性、液密性を得ることができる。
上記実施例ではハードディスク装置のカバーlに凹部3
,9を形成する場合について説明したが、他の被加工部
材に凹部を形成する場合にも適用することができる。
[発明の効果] 以上説明したように本発明によれば、被加工部材に凹部
を形成するとき、すべてプレス加工によって加工を行な
うようにしたので、加工を容易にしコストを低減するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
第工図乃至第3図は本発明に係る凹部形成方法の一実施
例による各工程を示す縦断面図、第4図は凹部形状の他
の例を示す平面図、第5図は第4図のX−X線断面図で
ある。 1・・・カバー(被加工部材) 2,8・・・貫通孔 3.9・・・凹部 6・・・シート(被覆部材)

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)被加工部材に貫通孔を形成する第1の工程と、こ
    の貫通孔の周辺を押圧して凹部を形成するとともに、前
    記被加工部材の塑性流動により前記貫通孔を閉塞する第
    2の工程とからなることを特徴とする凹部形成方法。
  2. (2)閉塞された貫通孔の凹部と反対側の面に被覆部材
    を接着する第3の工程を有することを特徴とする請求項
    1記載の凹部形成方法。
JP1156194A 1989-06-19 1989-06-19 凹部形成方法 Pending JPH0321431A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04258336A (ja) * 1991-02-06 1992-09-14 Kaijirushi Hamono Kaihatsu Center:Kk 鍛造による各種素材の加工方法
CN100400503C (zh) * 2006-09-21 2008-07-09 上海大学 5,5,5-三氟-4-(4-甲氧基苯基氨基)戊酸甲酯及其合成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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CN100400503C (zh) * 2006-09-21 2008-07-09 上海大学 5,5,5-三氟-4-(4-甲氧基苯基氨基)戊酸甲酯及其合成方法

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