JPH0321015B2 - - Google Patents
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- JPH0321015B2 JPH0321015B2 JP15808782A JP15808782A JPH0321015B2 JP H0321015 B2 JPH0321015 B2 JP H0321015B2 JP 15808782 A JP15808782 A JP 15808782A JP 15808782 A JP15808782 A JP 15808782A JP H0321015 B2 JPH0321015 B2 JP H0321015B2
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Description
本発明は、ポリフロロアルキル基を必須含有基
とし、これと尿素結合、チオ尿素結合、またはカ
ルボンアミド基のいずれか一つの基を分子中に有
することによつて特徴づけられる優れた界面活性
特性を有する、新規な直鎖状含フツ素アニオン界
面活性剤およびその製造方法に関する。 これまでに、カルボンアミド基を含有したアニ
オン性含フツ素界面活性剤は、米国特許第
4161602号明細書および特開昭54−84524号公報に
開示されているが、その場合のカルボンアミド基
は、非イオン性親水基の導入の為の連結基であ
り、本発明における前記の一般式〔〕で示され
る直鎖状含フツ素アニオン化合物とはその点で明
確に区別される。 従来、含フツ素アニオン界面活性剤は、発泡
性、泡安定性、湿潤性等、種々の界面活性特性が
優れていることから、泡抹消火剤、超泡安定剤、
湿潤剤、浸透剤等種々の用途に使用されている。
しかしながら、これまでの含フツ素アニオン界面
活性剤は、硬水中あるいは酸性水溶液中において
不溶化し、充分な界面活性特性を発揮し得ないた
めに、その使用条件は限られている。 本発明者は、これらの観点から鋭意研究を行つ
た結果、分子中に尿素結合、チオ尿素結合、そし
てカルボニルアミド基のいずれか一つを含有す
る、一般式〔〕で表わされる直鎖状含フツ素ア
ニオン化合物が、海水のように無機塩を多量に含
む硬水、および幅広いPH範囲で水に溶解し、かつ
優れた界面活性特性を発揮することを発見し、本
発明を完成するに至つた。なお硬水中および広い
PH範囲にわたつて安定した水溶液を形成するもの
として、両性界面活性剤が注目を集めているが、
尿素結合、チオ尿素結合、そしてカルボンアミド
基のpka値は−2〜1の範囲であり、これらは塩
基性を持たない点において、本発明の一般式
〔〕で示される化合物は、かかる両性界面活性
剤とは明確に区別されるものである。 即ち、本発明の新規化合物は一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1は(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数であ
る。)、(−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは
2
〜6の整数である。)、
とし、これと尿素結合、チオ尿素結合、またはカ
ルボンアミド基のいずれか一つの基を分子中に有
することによつて特徴づけられる優れた界面活性
特性を有する、新規な直鎖状含フツ素アニオン界
面活性剤およびその製造方法に関する。 これまでに、カルボンアミド基を含有したアニ
オン性含フツ素界面活性剤は、米国特許第
4161602号明細書および特開昭54−84524号公報に
開示されているが、その場合のカルボンアミド基
は、非イオン性親水基の導入の為の連結基であ
り、本発明における前記の一般式〔〕で示され
る直鎖状含フツ素アニオン化合物とはその点で明
確に区別される。 従来、含フツ素アニオン界面活性剤は、発泡
性、泡安定性、湿潤性等、種々の界面活性特性が
優れていることから、泡抹消火剤、超泡安定剤、
湿潤剤、浸透剤等種々の用途に使用されている。
しかしながら、これまでの含フツ素アニオン界面
活性剤は、硬水中あるいは酸性水溶液中において
不溶化し、充分な界面活性特性を発揮し得ないた
めに、その使用条件は限られている。 本発明者は、これらの観点から鋭意研究を行つ
た結果、分子中に尿素結合、チオ尿素結合、そし
てカルボニルアミド基のいずれか一つを含有す
る、一般式〔〕で表わされる直鎖状含フツ素ア
ニオン化合物が、海水のように無機塩を多量に含
む硬水、および幅広いPH範囲で水に溶解し、かつ
優れた界面活性特性を発揮することを発見し、本
発明を完成するに至つた。なお硬水中および広い
PH範囲にわたつて安定した水溶液を形成するもの
として、両性界面活性剤が注目を集めているが、
尿素結合、チオ尿素結合、そしてカルボンアミド
基のpka値は−2〜1の範囲であり、これらは塩
基性を持たない点において、本発明の一般式
〔〕で示される化合物は、かかる両性界面活性
剤とは明確に区別されるものである。 即ち、本発明の新規化合物は一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1は(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数であ
る。)、(−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは
2
〜6の整数である。)、
【式】も
しくは(−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(但
し、
p,qは2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Yは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
とき、Yは酸素原子に限られる。)であり、 Q2は
し、
p,qは2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Yは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
とき、Yは酸素原子に限られる。)であり、 Q2は
【式】(但し、s,t,
u,vは0〜6の整数である。)または
【式】であり、
Aは陰イオン性原子団で、−COO
,−SO3
,−
OSO3 または
OSO3 または
【式】であり、
Mは水素原子、または有機もしくは無機のカチオ
ンである。〕 で表わされる直鎖状含フツ素アニオン化合物であ
る。 一般式〔〕において、Rfは炭素数1〜20、
好ましくは4〜15のポリフロロアルキル基、ポリ
フロロアルケニル基、ポリフロロシクロヘキシル
基、ポリフロロシクロヘキシルアルキル基、ポリ
フロロシクロヘキシルアルケニル基であるが、そ
の様なものの内好ましい基の例としては、パーフ
ロロアルキル基もしくはパーフロロアルケニル基
であり、直鎖状、分岐状、環状(例えばシクロヘ
キシル基のような基)またはそれらを組合わせた
もののいずれでも良いが直鎖状のものが好まし
い。更に主鎖中に酸素原子の介入したもの、例え
ば(CF3)2CFOCF2CF2−などでも良い。 Zは2価の連結基であるが、好ましくは
ンである。〕 で表わされる直鎖状含フツ素アニオン化合物であ
る。 一般式〔〕において、Rfは炭素数1〜20、
好ましくは4〜15のポリフロロアルキル基、ポリ
フロロアルケニル基、ポリフロロシクロヘキシル
基、ポリフロロシクロヘキシルアルキル基、ポリ
フロロシクロヘキシルアルケニル基であるが、そ
の様なものの内好ましい基の例としては、パーフ
ロロアルキル基もしくはパーフロロアルケニル基
であり、直鎖状、分岐状、環状(例えばシクロヘ
キシル基のような基)またはそれらを組合わせた
もののいずれでも良いが直鎖状のものが好まし
い。更に主鎖中に酸素原子の介入したもの、例え
ば(CF3)2CFOCF2CF2−などでも良い。 Zは2価の連結基であるが、好ましくは
【式】〔但し、Z1は2価の連結基で−SO2
−,−CO−,(−CH2CH2−)iSO2−,(−CH2CH2−)i
CO−(但し、iは1〜10の整数である。)、
CO−(但し、iは1〜10の整数である。)、
【式】
【式】
【式】−CH2CH2−,(−
OCH2CH2−)、または−CH2CH2SCH2CH2CO−
等であり、R1は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基、 (−CH2−)bOR2または(−CH2CH2O−)dR2(但し、b
は1〜4の整数であり、dは1〜20の整数であ
り、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキ
ル基である。)である〕または
等であり、R1は水素原子、炭素数1〜12のアル
キル基、 (−CH2−)bOR2または(−CH2CH2O−)dR2(但し、b
は1〜4の整数であり、dは1〜20の整数であ
り、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキ
ル基である。)である〕または
【式】であるが、
【式】が
好ましい。
aは0または1であり、Yは酸素原子またはイ
オウ原子(但し、aが0のとき、Yは酸素原子に
限られる。)である。 Q2は
オウ原子(但し、aが0のとき、Yは酸素原子に
限られる。)である。 Q2は
【式】(但し、s,
t,u,vは0〜6の整数である。)または
【式】であるが、好ましくは(−
CH2−)sCH2(−CH2−)v(但し、s,vが0〜3の
整数である。)である。 Aは、陰イオン性原子団で−COO ,−SO3 ,−
OSO3 、または
整数である。)である。 Aは、陰イオン性原子団で−COO ,−SO3 ,−
OSO3 、または
【式】である。
Mは水素原子、または有機もしくは無機のカチオ
ンであり、Li ,Na ,K ,1/2Ca2 ,1/2
Mg2 ,〔N(H)l(R′)m〕 (但し、R′は炭
素数1〜4のアルキル基またはヒドロキシエチル
基、lおよびmは0〜4の整数でl+m=4を満
たすものを表わす)が好ましい。 本発明に係る直鎖状含フツ素アニオン界面活性
剤の基本構造は、ポリフロロアルキル基と、尿素
結合、チオ尿素結合、カルボンアミド基のいずれ
か1つの基を含む基と、アニオン性基の3者が直
鎖状に連結していることを特徴とするものであ
り、数ある2価の連結基の中で、上記の連結基に
よつて本発明が限定されるものでないことは勿論
である。 本発明の直鎖状含フツ素アニオン化合物として
次の如きものが具体例として挙げられる。 本発明に係る直鎖状含フツ素アニオン化合物
は、種々の合成法により製造され、その主たる製
造方法としては次に示す方法等が挙げられる。 即ち、第1の製造方法は、一般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,a,Q2は前記と
同意義であり、Xは塩素原子、臭素原子、または
ヨウ素原子である。〕 で表わされる含フツ素化合物を、亜硫酸アルカリ
金属塩例えば亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム
等と反応させる製造方法である。 第2の製造方法は、一般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,aは前記と同意
義であり、Q3は(−CH2−)j(但し、jは1〜10の
整数である。)である。〕で表わされる含フツ素化
合物を、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリ
ウムと反応させる製造方法である。 第1、第2の製造方法において、反応溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルドール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセ
トニトリル等の水に可溶性の有機溶剤と、水との
混合系が適当である。反応温度および反応時間と
しては、0〜150℃、3〜25時間が適当である。
必要であれば、生成物を再結晶し、精製すること
ができる。 更に、製造するのに必要な一般式〔〕の化合
物並びに一般式〔〕の化合物は、好ましくは一
般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,Rは前記と同意義であ
る。〕で表わされる含フツ素アミンに、一般式 Y=C=N−Q2−X 〔〕 Y=C=N−Q3−CH=CH2 〔〕 または 〔式中、Q2,X,Y,Q3は前記と同意義であり、
Xは同一でも異なつていても良い。〕で表わされ
る化合物を塩基触媒下で反応させることにより、
収率良く合成することができる。 前記一般式〔〕の含フツ素アミンと一般式
〔〕もしくは〔〕の化合物との反応の場合に
は、例えばテトラヒドロフランあるいはベンゼン
のような非プロトン溶媒中で、好ましくは0〜60
℃の温度範囲で1〜5時間撹拌すればよい。ま
た、一般式〔〕の含フツ素アミンと一般式
〔〕もしくは〔〕との反応の場合には、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の3級アミンを塩基触
媒として、例えばエチルエーテル、イソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン等の不活性な非プ
ロトン溶媒中で、通常−86〜50℃の温度範囲で1
〜20時間撹拌することが好ましい。 更に、第3の製造方法としては、前記一般式
〔〕で表わされる含フツ素アミンを、ピリジン
等の塩基触媒の存在下もしくは無触媒下で、無水
コハク酸と反応させる製製造方法である。 この方法において、反応温度は0〜120℃、反
応時間1〜20時間が適当である。 第4の方法は、前記一般式〔〕で表わされる
化合物を加水分解することにより、一般式 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,a,Q2は前記と
同意義である。〕で表わされる含フツ素化合物を
合成せしめ、次いでこれをクロルスルホン酸、濃
硫酸、発煙硫酸またはSO3の如きサルフエート化
剤の等モル以上と反応させる製造方法である。 本製造法において反応を、アセトニトリル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルムな
どの不活性溶媒中で実施することができる。また
ピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン
等のアミンの共存下もしくはこれらアミンを溶媒
として反応を行なうと、高収率で目的物を得るこ
とができる。反応温度は−20〜150℃、好ましく
は0〜100℃であり、反応時間は通常5〜20時間
を要する。 次の表−1は、本発明に係る直鎖状含フツ素ア
ニオン化合物の主なものの発泡性および表面張力
特性をまとめたものである。
ンであり、Li ,Na ,K ,1/2Ca2 ,1/2
Mg2 ,〔N(H)l(R′)m〕 (但し、R′は炭
素数1〜4のアルキル基またはヒドロキシエチル
基、lおよびmは0〜4の整数でl+m=4を満
たすものを表わす)が好ましい。 本発明に係る直鎖状含フツ素アニオン界面活性
剤の基本構造は、ポリフロロアルキル基と、尿素
結合、チオ尿素結合、カルボンアミド基のいずれ
か1つの基を含む基と、アニオン性基の3者が直
鎖状に連結していることを特徴とするものであ
り、数ある2価の連結基の中で、上記の連結基に
よつて本発明が限定されるものでないことは勿論
である。 本発明の直鎖状含フツ素アニオン化合物として
次の如きものが具体例として挙げられる。 本発明に係る直鎖状含フツ素アニオン化合物
は、種々の合成法により製造され、その主たる製
造方法としては次に示す方法等が挙げられる。 即ち、第1の製造方法は、一般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,a,Q2は前記と
同意義であり、Xは塩素原子、臭素原子、または
ヨウ素原子である。〕 で表わされる含フツ素化合物を、亜硫酸アルカリ
金属塩例えば亜硫酸カリウム、亜硫酸ナトリウム
等と反応させる製造方法である。 第2の製造方法は、一般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,aは前記と同意
義であり、Q3は(−CH2−)j(但し、jは1〜10の
整数である。)である。〕で表わされる含フツ素化
合物を、亜硫酸水素ナトリウム、亜硫酸水素カリ
ウムと反応させる製造方法である。 第1、第2の製造方法において、反応溶媒とし
ては、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルドール、ジメ
チルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、アセ
トニトリル等の水に可溶性の有機溶剤と、水との
混合系が適当である。反応温度および反応時間と
しては、0〜150℃、3〜25時間が適当である。
必要であれば、生成物を再結晶し、精製すること
ができる。 更に、製造するのに必要な一般式〔〕の化合
物並びに一般式〔〕の化合物は、好ましくは一
般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,Rは前記と同意義であ
る。〕で表わされる含フツ素アミンに、一般式 Y=C=N−Q2−X 〔〕 Y=C=N−Q3−CH=CH2 〔〕 または 〔式中、Q2,X,Y,Q3は前記と同意義であり、
Xは同一でも異なつていても良い。〕で表わされ
る化合物を塩基触媒下で反応させることにより、
収率良く合成することができる。 前記一般式〔〕の含フツ素アミンと一般式
〔〕もしくは〔〕の化合物との反応の場合に
は、例えばテトラヒドロフランあるいはベンゼン
のような非プロトン溶媒中で、好ましくは0〜60
℃の温度範囲で1〜5時間撹拌すればよい。ま
た、一般式〔〕の含フツ素アミンと一般式
〔〕もしくは〔〕との反応の場合には、ピリ
ジン、トリエチルアミン等の3級アミンを塩基触
媒として、例えばエチルエーテル、イソプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン等の不活性な非プ
ロトン溶媒中で、通常−86〜50℃の温度範囲で1
〜20時間撹拌することが好ましい。 更に、第3の製造方法としては、前記一般式
〔〕で表わされる含フツ素アミンを、ピリジン
等の塩基触媒の存在下もしくは無触媒下で、無水
コハク酸と反応させる製製造方法である。 この方法において、反応温度は0〜120℃、反
応時間1〜20時間が適当である。 第4の方法は、前記一般式〔〕で表わされる
化合物を加水分解することにより、一般式 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,a,Q2は前記と
同意義である。〕で表わされる含フツ素化合物を
合成せしめ、次いでこれをクロルスルホン酸、濃
硫酸、発煙硫酸またはSO3の如きサルフエート化
剤の等モル以上と反応させる製造方法である。 本製造法において反応を、アセトニトリル、ジ
オキサン、テトラヒドロフラン、クロロホルムな
どの不活性溶媒中で実施することができる。また
ピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン
等のアミンの共存下もしくはこれらアミンを溶媒
として反応を行なうと、高収率で目的物を得るこ
とができる。反応温度は−20〜150℃、好ましく
は0〜100℃であり、反応時間は通常5〜20時間
を要する。 次の表−1は、本発明に係る直鎖状含フツ素ア
ニオン化合物の主なものの発泡性および表面張力
特性をまとめたものである。
【表】
【表】
【表】
次の表−2に示すように、本発明に係る直鎖状
含フツ素アニオン化合物は、PH3という強酸性下
においても蒸留水に完全に溶解し、酸性、中性、
アルカリ性のいずれのPH領域でも界面活性特性を
減じないという優れたものである。このような、
本発明の化合物のPH変化に対する安定性は実用上
極めて有用な界面活性剤を提供するものである。
含フツ素アニオン化合物は、PH3という強酸性下
においても蒸留水に完全に溶解し、酸性、中性、
アルカリ性のいずれのPH領域でも界面活性特性を
減じないという優れたものである。このような、
本発明の化合物のPH変化に対する安定性は実用上
極めて有用な界面活性剤を提供するものである。
【表】
後の泡高を測定した。
さらに、表−3に示すように、本発明の化合物
は、公知のアニオン活性剤と異なり、カルシウム
イオン存在下での安定性に優れている。
さらに、表−3に示すように、本発明の化合物
は、公知のアニオン活性剤と異なり、カルシウム
イオン存在下での安定性に優れている。
【表】
【表】
|
CH2CHCH2SO3Na
|
OH
比較例 C6F13SO2NCH3 20
|
CH2COONa
CH2CHCH2SO3Na
|
OH
比較例 C6F13SO2NCH3 20
|
CH2COONa
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシル基アルケニル
基であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1は(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数であ
る。)、 (−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは2〜6の
整数である。)【式】もしくは (−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(但し、p
,q
は2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Yは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
とき、Yは酸素原子に限られる。)であり、 Q2は【式】(但し、s,t, u,vは0〜6の整数である。)または
【式】であり、 Aは陰イオン性原子団で、−COO ,−SO3 ,−
OSO3 ,または【式】であり、 Mは水素原子、または有機もしくは無機のカチオ
ンである。〕 で表わされる直鎖状含フツ素アニオン化合物。 2 Zが【式】〔但し、Z1は−SO2−,− CO−,(−CH2CH2−)iSO2−,(−CH2CH2−)iCO
−、(但し、iは1〜10の整数である。)、
【式】または 【式】であり、 R1は水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、 (−CH2−)bOR2、または(−CH2CH2O−)dR2(但し、
bは1〜4の整数であり、dは1〜20の整数であ
り、R2は水素原子または炭素数1〜6のアルキ
ル基である。)である。〕である特許請求の範囲第
1項記載の化合物。 3 一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数である。)、 (−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは2〜6の
整数である。)、 −CH2 CH | OHCH2−、 もしくは(−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(
但
し、p,qは2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Yは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
ときYは酸素原子に限られる。)であり、 Q2は【式】(但し、s,t, u,vは0〜6の整数である。)または
【式】であり、〕 Xは塩素原子、臭素原子、またはヨウ素原子であ
る。 で表わされる含フツ素化合物を、亜硫酸アルカリ
金属塩と反応させることを特徴とする一般式
〔′〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,Q2,aは前記と
同意義である。〕で表わされる直鎖状含フツ素ア
ニオン化合物の製造方法。 4 一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1は(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数であ
る。)、 (−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは2〜6の
整数である。)、【式】もしくは (−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(但し、p
,q
は2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Yは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
とき、Yは酸素原子に限られる。)であり、 Q3は(−CH2−)j(但し、jは1〜10の整数であ
る。)である。〕 で表わされる含フツ素化合物を、亜硫酸水素ナト
リウムもしくは亜硫酸水素カリウムと反応させる
ことを特徴とする一般式〔″〕 〔但し、Rf,Z,Q1,R,Y,Q3,a前記と同
意義である。〕で表わされる直鎖状含フツ素アニ
オン化合物の製造方法。 5 一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数である。)、 (−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは2〜6の
整数である。)、【式】もしくは (−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(但し、p
,q
は2あるいは3である。)であり、 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基であり、 aは0または1であり、 Xは酸素原子またはイオウ原子(但し、aが0の
とき、Yは酸素原子に限られる。)であり、 Q2は【式】(但し、s,t, u,vは0〜6の整数である。)または
【式】である。〕 で表わされる含フツ素化合物を、サルフエート化
剤としてクロルスルホン酸、濃硫酸、発煙硫酸又
はSO3のいずれか一種と反応させることを特徴と
する一般式〔〕 〔式中、Rf,Z,Q1,R,Y,Q2,aは前記と
同意義であり、Mは水素原子、または有機もしく
は無機のカチオンである。〕で表わされる直鎖状
含フツ素アニオン化合物の製造方法。 6 一般式〔〕 〔 式中、Rfは炭素数1〜20のポリフロロアル
キル基、ポリフロロアルケニル基、ポリフロロシ
クロヘキシル基、ポリフロロシクロヘキシルアル
キル基、ポリフロロシクロヘキシルアルケニル基
であり、 Zは2価の連結基であり、 Q1は(−CH2−)l(但し、lは1〜6の整数であ
る。)、 (−CH2−)nO(−CH2−)o(但し、m,nは2〜6の
整数である。)、【式】もしくは (−CH2−)pO(−CH2−)2O(−CH2−)q(但し、p
,q
は2あるいは3である。)であり、〕 Rは水素原子、炭素数1〜6のアルキル基または
ヒドロキシアルキル基である。 で表わされる含フツ素アミン化合物を、塩基性触
媒の存在下もしくは無触媒下で、無水コハク酸と
反応させることを特徴とする、一般式〔′′′′〕 〔式中、Rf,Z,Q1,Rは前記と同意義であ
る。〕 で表わされる直鎖状含フツ素アニオン化合物の製
造方法。 7 Zが【式】〔但し、Z1は−SO2−,− CO−,(−CH2CH2−)iSO2−,(−CH2CH2−)iCO−
(但し、iは1〜10の整数である。)、
【式】または 【式】であり、R1は水素原子、 炭素数1〜12のアルキル基、(−CH2−)bOR2、ま
たは(−CH2CH2O−)dR2(但し、bは1〜4の整数
であり、dは1〜20の整数であり、R2は水素原
子または炭素数1〜6のアルキル基である。)で
ある。〕である特許請求の範囲第3項、第4項、
第5項または第6項に記載の方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15808782A JPS5948449A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 直鎖状含フツ素アニオン化合物およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15808782A JPS5948449A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 直鎖状含フツ素アニオン化合物およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5948449A JPS5948449A (ja) | 1984-03-19 |
JPH0321015B2 true JPH0321015B2 (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=15664009
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15808782A Granted JPS5948449A (ja) | 1982-09-13 | 1982-09-13 | 直鎖状含フツ素アニオン化合物およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5948449A (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6878728B1 (en) | 1999-06-11 | 2005-04-12 | Vertex Pharmaceutical Incorporated | Inhibitors of aspartyl protease |
US20040122000A1 (en) | 1981-01-07 | 2004-06-24 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated. | Inhibitors of aspartyl protease |
JPH027225A (ja) * | 1988-06-25 | 1990-01-11 | Sony Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
US5783701A (en) * | 1992-09-08 | 1998-07-21 | Vertex Pharmaceuticals, Incorporated | Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease |
US5723490A (en) * | 1992-09-08 | 1998-03-03 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | THF-containing sulfonamide inhibitors of aspartyl protease |
IS2334B (is) | 1992-09-08 | 2008-02-15 | Vertex Pharmaceuticals Inc., (A Massachusetts Corporation) | Aspartyl próteasi hemjari af nýjum flokki súlfonamíða |
CN1146201A (zh) * | 1994-03-07 | 1997-03-26 | 沃泰克斯药物股份有限公司 | 用作天冬氨酰蛋白酶抑制剂的磺胺衍生物 |
US5691372A (en) * | 1995-04-19 | 1997-11-25 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Oxygenated-Heterocycle containing sulfonamide inhibitors of aspartyl protease |
US6004957A (en) * | 1995-06-07 | 1999-12-21 | Vertex Pharmaceuticals, Incorporated | Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease |
US6436989B1 (en) | 1997-12-24 | 2002-08-20 | Vertex Pharmaceuticals, Incorporated | Prodrugs of aspartyl protease inhibitors |
EP1086076B1 (en) | 1998-06-19 | 2004-12-22 | Vertex Pharmaceuticals Incorporated | Sulfonamide inhibitors of aspartyl protease |
-
1982
- 1982-09-13 JP JP15808782A patent/JPS5948449A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5948449A (ja) | 1984-03-19 |
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