JPH03202149A - 光照射装置 - Google Patents

光照射装置

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JPH03202149A
JPH03202149A JP1338320A JP33832089A JPH03202149A JP H03202149 A JPH03202149 A JP H03202149A JP 1338320 A JP1338320 A JP 1338320A JP 33832089 A JP33832089 A JP 33832089A JP H03202149 A JPH03202149 A JP H03202149A
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light
angle
lens
optical system
integrator
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JP1338320A
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Osamu Osawa
理 大澤
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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Ushio Denki KK
Ushio Inc
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的) (産業上の利用分野) 本発明は、ショートアーク型の放電灯からの光を楕円集
光鏡で集光して利用する光照射装置に関する。
(従来の技術) 例えば超高圧水銀灯やキセノンショートアークランプ等
のショートアーク型の放電灯からの光を利用して、光硬
化型樹脂の硬化やフォトマスクを介した露光などの光処
理か行われている。
これらの光処理のうち、均一な光処理か必要な場合には
、楕円集光鏡とインテグレータを具備した光照射装置か
よく用いられる。
第2図は、従来の楕円集光鏡とインテグレータと具備し
た光照射装置の概略説明図である。■はショートアーク
型の放電灯、2は楕円集光鏡、4はインテグレータレン
ズを示す。
第2図に示すように、放電灯1は、アークの位置か楕円
集光鏡2の第一焦点の位置f、になるように配置され、
インテグレータレンズ4は楕円集光鏡2の第二焦点f2
の位置に配置される。
インテグレータレンズ4は、例えば十数本から数十水の
ロッドレンズから構成され、インテグレータレンズ4に
入射した光は各ロッドレンズに分割されて出射され、照
射面Sで重ね合わされる。
インテグレータレンズ4に入射する光が不均一であり各
ロッドレンズ間で入射する光の強さか異なるが、照射面
Sで重ね合わされることにより照射面Sの各点での照度
か均一になる。
(発明か解決しようとする技術的課題)上記のインテグ
レータレンズによる照度の均一化において、照度の均一
度は、インテグレータからの光の出射角の大きさに依存
する。
第3図は、照射面での照度の均一度とインテグレータの
出射角との関係の説明図である。θ3はロッドレンズ4
0bからの光の出射角、1.、 1b+  Icはそれ
ぞれロッドレンズ40a、40b40cによる照射面で
の照度分布、■は重ね合わせた全体の照度分布を示す。
第3図に示すように、インテグレータによる照度分布に
は、照度が高い部分と低い部分があり、この照度が高い
部分と低い部分の照度の差D(均一度)は、出射角θ3
が大きく光が大きく拡がる場合には、大きくなってしま
う傾向にある。従って、照度の均一度か悪くなる。尚、
第3図では、各ロッドレンズ40a、’  40b、4
0cからの光を不図示のアウトプットレンズによって照
射面Sでずれないようにして重ね合わせているため、各
ロッドレンズ40a、40b、40cからの出射角が異
なるように見えるか、実際には各ロッドレンズ40a、
40b、40cからの光の出射角はみな同じθ3の大き
さである。
出射角θ3を小さくするには、ロッドレンズの入出射面
の曲率及びロッドレンズの長さを変更する方法か考えら
れるが、入射角θ、より出射角θ3か小さいと、ロッド
レンズの側面で光かけられることにより光の利用効率か
悪くなってしまう。
また、入射角θ2を出射角θ3に合わせて小さくし、そ
れにあわせて集光鏡を変更する方法かあるか、光学系全
体を大きく設計変更しなければならなくなってしまう欠
点かある。
この発明は、かかる課題に着目してなされたもので、集
光鏡の集光角が大きい場合でも、リレー光学系によって
インテグレータレンズへの入射角を小さく変換すること
によって、大きな設計変更も要せず、また光の利用効率
を低下させることもなくインテグレータレンズからの光
の出射角を小さくすることを可能にし、より照度分布の
均一度が高くできる光照射装置の提供を目的とする。
〔発明の構成〕
(課題を解決するための手段) 上記目的を遠戚するため、本発明の光照射装置は、ショ
ートアーク型の放電灯と、楕円集光鏡の第二焦点をイン
テグレータレンズに投影するリレー光学系とを具備し、
インテグレータレンズへの光の入射角は、リレー光学系
によって、第二焦点への光の集光角よりも小さくなって
いることを特徴とする。
(作用) 上記構成にかかる本発明の光照射装置においては、リレ
ー光学系が楕円集光鏡の第二焦点の像をインテグレータ
レンズに投影するので、結果的に第二焦点にインテグレ
ータを置いた状態と同じになる。即ち、ショートアーク
型の放電灯からの光は、第二焦点に集光した後、リレー
光学系を経てインテグレータレンズに再度集光し、イン
テグレータレンズにより分割された後、照射面で重ね合
わされる。
また、リレー光学系が、第二焦点に集光する際の集光角
より小さい角度でインテグレータレンズに光か入射する
ようにするので、インテグレータレンズからの光の出射
角か、第二焦点での集光角より小さくなる。尚、リレー
光学系によるインテグレータへの光の入射角はリレー光
学系の設計により自由に設定できるので1、リレー光学
系とインテグレータレンズにより楕円集光鏡の集光角に
関係なく、インテグレータからの出射角を所望の角度と
することができる。
(実施例) 以下、本発明の詳細な説明する。
第1図は、本発明の実施例の光照射装置の概略説明図で
ある。■は例えば超高圧水銀灯のようなショートアーク
型の放電灯、2は楕円集光鏡、3はリレー光学系、4は
インテグレータレンズ、Sは照射面を示す。
第1図において、ショートアーク型の放電灯lは、その
アークの中心が楕円集光鏡2の第一焦点flの位置にな
るように配置される。従って、放電灯1のアークからの
光は、第二焦点f2の位置に効率良く集光する。一方、
本実施例のリレー光学系を構成する両凸レンズ3は、イ
ンテグレータレンズ4に楕円集光鏡2の第二焦点f2を
投影する位置になるよう配置されている。従って、第二
焦点f2に集光した光はリレー光学系3によって投影さ
れインテグレータレンズ4の出射面41に再び集光する
リレー光学系3としては、ここては両凸レンズ−枚から
なるものを例としてあげばているが、これに限られるも
のではなく、正のレンズを複数枚使用するものでも良い
。要は、第二焦点f2をインテグレータレンズ4に投影
するためのリレー光学系であればどんなものでも良い。
また、第1図に示すように、リレー光学系3として用い
た両凸レンズは、インテグレータレンズ4への入射角θ
2を第二焦点f2への楕円集光鏡2の集光角度θ1より
小さくするように設計されている。出射角θ3はインテ
グレータへの入射角θ2とほとんと同しである(θ2#
θ3)ので、出射角θ3は集光角θ1より小さくなる(
θ、〉θ、)。これにより、前述の通り、より均一度の
高い照度分布を得ることかできる。
尚、第1図の示すように、リレー光学系3を設けてイン
テグレータレンズ4の位置を変えることにより、入射側
の光路長L1はL1′に長くなってしまうが、楕円集光
鏡2を集光角の小さいものに設計した場合と比較すると
、はとんど同じかより短い距離とすることができる。さ
らに、楕円集光鏡2の集光角にかかわらず、リレー光学
系として用いた両凸レンズ3の焦点距離を適宜選定すれ
ば、インテグレータレンズへの入射角θ2を所望の角度
にできる。また、−枚又は複数枚のレンズの配置、焦点
距離により第二焦点f2からインテグレータレンズ4ま
での距離に自由度ができるので、設計上光学配置に自由
度が増すことから、全体の光路長りの調整や光路中にフ
ィルターやシャッター等の組み込みもできる。
本実施例のインテグレータレンズ4は、特開昭63−1
25801号の開示されているのと同様に円柱状のロッ
ドレンズよりなるものを使用しているが、これに限られ
ず角柱状のロッドレンズからなるものや二枚レンズ方式
のインテグレータレンズでも良い。尚、インテグレータ
レンズはプライアイレンズと呼ばれることもある。
〔発明の効果〕
以上説明した通り、本発明の光照射装置は、リレー光学
系か楕円集光鏡の第二焦点をインテグレータレンズに投
影するとともに、インテグレータレンズへの光の入射角
は、リレー光学系によって第二焦点への光の集光角より
も小さくなっているのて、第二焦点ての集光角よりイン
テグレータレンズへの入射角を小さくすることができる
。これによりインテグレータレンズからの光の出射角が
小さくてき、より均一度の高い照度分布を得ることが可
能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の光照射装置の概略説明図、第
2図は従来の楕円集光鏡とインテグレータと具備した光
照射装置の概略説明図、第3図は照射面での照度の均一
度とインテグレータの出射角の関係の説明図である。 図中、 θ1 θ2 θ。 を示す。 ショートアーク型の放電灯 楕円集光鏡 リレー光学系 インテグレータレンズ 照射面 ・集光角 ・ −入射角 −−−−・・・・出射角 手続補正書 平成2年Z月 tf日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. ショートアーク型の放電灯と、放電灯からの光を集光す
    る楕円集光鏡と、インテグレータレンズと、楕円集光鏡
    の第二焦点をインテグレータレンズに投影するリレー光
    学系とを具備し、インテグレータレンズへの光の入射角
    は、リレー光学系によって、第二焦点への光の集光角よ
    りも小さくなっていることを特徴とする光照射装置。
JP1338320A 1989-12-28 1989-12-28 光照射装置 Expired - Lifetime JP2748343B2 (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160085158A1 (en) * 2014-09-22 2016-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical device, exposure apparatus, and method of manufacturing article

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5681813A (en) * 1979-12-08 1981-07-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask lighting optical system
JPS58160914A (ja) * 1982-03-18 1983-09-24 Nippon Kogaku Kk <Nikon> ミラ−集光型照明光学系

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5681813A (en) * 1979-12-08 1981-07-04 Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> Mask lighting optical system
JPS58160914A (ja) * 1982-03-18 1983-09-24 Nippon Kogaku Kk <Nikon> ミラ−集光型照明光学系

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20160085158A1 (en) * 2014-09-22 2016-03-24 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical device, exposure apparatus, and method of manufacturing article
CN105446085A (zh) * 2014-09-22 2016-03-30 佳能株式会社 照明光学设备、曝光装置和制造物品的方法
US9733571B2 (en) * 2014-09-22 2017-08-15 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical device, exposure apparatus, and method of manufacturing article
CN105446085B (zh) * 2014-09-22 2018-05-08 佳能株式会社 照明光学设备、曝光装置和制造物品的方法

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