JPH03200973A - 電子写真感光体 - Google Patents

電子写真感光体

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JPH03200973A
JPH03200973A JP34431289A JP34431289A JPH03200973A JP H03200973 A JPH03200973 A JP H03200973A JP 34431289 A JP34431289 A JP 34431289A JP 34431289 A JP34431289 A JP 34431289A JP H03200973 A JPH03200973 A JP H03200973A
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JP
Japan
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layer
support
substrate
thickness
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Application number
JP34431289A
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English (en)
Inventor
Yuka Nakamura
由香 中村
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Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [発明の目的] (産業上の利用分野) 本発明は、複写機、プリンター等に使用される感光体に
係り、特に電荷発生層と電荷輸送層とを有する機能分離
型感光体に関する。
(従来の技術) 電子写真用感光体は、支持体とその上に設けられた感光
層とからなる。この支持体の材料としては、A11銅、
ステンレス、真鍮及び導電性プラスチック等の導電性物
質または紙、ガラス及びプラスチック等の絶縁物に導電
層を設けたもの等を用いることができるが、現在実用化
されている感光体支持体の多くはアルミニウムまたはア
ルミニウム合金製である。
一般的に知られているアルミニウム製支持体の成形方法
には、次のような方法がある。まず第1の方法としては
ペレット状のアルミ素材を衝撃押し出しにより、一端が
閉塞された円筒状にし、さらにしごき加工により所定の
肉厚に仕上げ、その後不要な両端部を切除し、端面の処
理を施しながら所定の長さに切断し、最後に表面処理加
工する方法がある。第2の方法としては、円柱状の素材
(インゴット)を型で抜いて円筒状にした後、引き抜き
加工により薄肉化し、切断及び端面処理を行ない、素管
の内側をインロー加工(切削)し、表面処理を施す方法
がある。第3の方法としては、板状の素材から円盤状に
型を抜き、しぼり加工及びしごき加工を連続的に行なっ
た後、第1の方法と同様にして両端加工、切断、表面処
理を行なう方法がある。第4の方法としては、円柱状の
素材を押しだし加工により円筒状に成形し、その一端を
口つけ加工(へら絞り)した後、第1の方法と同様にし
てしごき加工、両端加工、切断、端面処理及び表面処理
を行なう方法がある。
各々の製造方法は、量産性、コスト及び精度等の点から
一長一短があるが、いずれの方法を用いても製造された
支持体の表面には多少の欠陥が発生する。この欠陥上に
、感光体層を形成すると、その欠陥部分に感光性物質が
集中したり、またはその部分だけ欠落したりするため、
得られた感光体表面にもとの欠陥よりも数倍大きな欠陥
として現れることが多い。そのため、このような感光体
を用いて得たコピー画像には黒点、黒線、ベタ部分の白
ヌケあるいはハーフトーン部分のムラなどの画像欠陥が
現れるという問題がある。
このような欠陥を発生せしめる要因は、これらの方法の
成形から切削及び洗浄に至る工程に潜んでいる。その要
因として例えば切削工程で晶出物や介在物の存在による
凹状、ひび割れ状等の欠陥の発生、素管洗浄行程での洗
浄溶剤による表面の変質等があげられる。また、広く用
いられる押出し方法であり、−組の型のうち外周側の型
が3ないし4片に分離されている型を用いるボートホー
ル押し出しにおいては、型の継ぎ目となる溶着部(ウェ
ルドライン)に沿って欠陥を生ずることも少なくない。
このような欠陥部のうち顕著なものは目視でも容易に確
認できるが、欠陥部の大半は幅にして数十μmの大きさ
であり、目視による確認は困難である。
このような欠陥に対して、支持体上に数十μmもの導電
性層を付与し、欠陥部を埋没せしめて平滑な表面を得る
方法が知られているが、−工程が増えると共に導電層の
形成による2次的な欠陥の発生も考えられ、またコスト
も上昇するという稲々の欠点がある。
(発明が解決しようとする課8) このように、支持体上の欠陥部が原因で、その上に形成
された感光体表面に欠陥部が生じ、これが黒点、黒線、
ベタ部の白ヌケ及びハーフトーン地のムラ等のコピー画
像の欠陥を生じせしめる要因となっている。
そこで本発明は、感光体表面の欠陥の発生が最小限に抑
えられ、鮮明でムラのない画像が得られ、かつ低コスト
の感光体を提供することを目的とする。
[発明の構成〕 (課題を解決するための手段) 本発明の電子写真用感光体は、支持体と、この支持体上
に形成され、電荷発生層及び電荷輸送層を含む感光層と
を具備する機能分離型感光体であって、該支持体の表面
に存在する欠陥の深さが、該支持体表面に接する層の厚
さの5倍以下であることを特徴とする。
感光層は、少なくとも電荷発生層及び電荷輸送層を有し
、電荷発生層上に電荷輸送層が形成されていても、また
その逆であってもよい。さらに、これらの二層と支持体
との間に下地層(ブロッキング層)を設けても良い。最
外層に保護層を設けても良い。
支持体の材質としては、アルミニウム、アルミニウム合
金等、通常の感光体に用いられるものを使用することが
できる。例えばアルミニウム合金は、その成分組成によ
りアルミの材料記号Aと4桁の番号によって表示、分類
されており、感光体として用いられるのはA1050.
A1070゜A3003、A6063等である。この4
桁の数字+7) 1000番台は99.0%以上の純ア
ルミニウムで、比較的軟質であるが、耐食性、成形性、
押出し性、表面加工性に優れている。また、容易に再生
利用が可能である。3000番台は、アルミニウムーマ
ンガン型合金で純アルミニウムに比べ強度が幾分高く、
押出し性、耐食性に優れている。6000番台は、アル
ミニウムーマグネシウム−シリコン型合金である。これ
は熱処理型合金であり、強度が高く、押出し性、耐食性
は良好である。このように合金の種類によってその性質
が異なるため、前述したようなドラム成形方法に応じて
材料を選定する必要がある。
本発明にかかる支持体を得るためには、支持体表面に接
する層の厚さの5倍を越える欠陥部を有する支持体を、
感光層を形成する工程の前にはじき出すと良い。欠陥部
は目視で判定することが困難なので、欠陥検査装置を用
いて検出することができる。
さらに、支持体材料の組成を調整することにより、欠陥
部の発生を抑制することもできる。例えばMg添加量を
最低限に抑えることにより強度と押出し性が改良された
アルミニウム合金、及ヒFe、Si及びMg添加量を控
えめに添加することにより晶出物及び介在物が抑制され
たアルミニウム合金等がすでに提案されており、本発明
にも好ましく用いられる。
さらにまた、成形方法を見直すことにより、欠陥の発生
を抑制することも可能である。例えばアルミニウム合金
による支持体形成の場合には、切削工程において切削代
を多めにとると良い。尚、支持体の表面に導電層を形成
することも可能である。
(作 用) 本発明の電子写真用感光体は、支持体表面に存在する欠
陥の深さが、支持体表面に接する層の厚さの5倍以下で
あるため、この支持体上に感光層を形成しても、感光層
表面にコピー画像に欠陥を生じせしめる程の欠陥は生じ
ない。なお、支持体表面に接する層としては、電荷発生
層、下引き層、導電層の場合がある。
(実施例) 以下に実施例を示し、本発明を具体的に説明する。
実施例1 アルミニウム合金からなるインゴットを用い、ボートホ
ール押出し、へら絞り、しごき加工によりアルミ素管を
成形する。得られた素管にダイヤモンドバイトを用いて
鏡面研磨加工を施すことにより直径60+a■の支持体
を得た。
得られた支持体表面の欠陥を東洋インキ株式会社製 欠
陥検査装置で検出し、欠陥検査データを得た。
第1図には、本発明の一実施例を示す感光体の一部の断
面図を示す。支持体1の表面に接する層として、第1図
に示すように、まず下引き層2を次のようにして形成し
た。アルコール溶性ナイロン10重量部、メタノール2
5重量部、イソプロパツール100重量部及び1,1.
2−トリクロルエタン100重量部を加熱溶解して得ら
れた塗工液を調製し、この塗工液を浸漬塗布法により支
持体表面に塗布した後、約80℃で30分間乾燥して膜
厚約0.5μmの下引き層2を得た。次に、無金属フタ
ロシアニン3重量部を、フェノキシ樹脂3重量部と1.
1.2−)ジクロルエタン194重量部とを加熱溶解し
て得られたビヒクル中に分散混合して塗工液を調製し、
この塗工液を浸漬塗布法により下引き層2上に塗布した
後、膜厚0.2〜0.4μmの電荷発生層3を形成した
さらに、ヒドラゾン型化合物25重量部、ポリカーボネ
ート25重量部及び1,1.2−トリクロルエタン15
0重量部を混合、溶解して塗工液を調製し、この塗工液
を浸漬塗布法により、電荷発生層3上に塗布し、膜厚0
.1μm電荷輸送層4を形成した。以上のようにして支
持体1上に下引き層2を介して感光層10を形成し、感
光体を得た。
得られた感光体のうち、外観上欠陥の見られないものを
A1、少数の欠陥が見られるものをB1、欠陥の特にひ
どいものをCI (比較例1)として分類した中から、
各々3本ずつ選択しくA11〜A1−3、B、−1〜B
、−3、C1−1〜Cl−3)、レーザビームプリンタ
に搭載してプリント画像をとったところ、AH、Blと
もに画像上には欠陥はみられなかった。また、cIには
外観上の欠陥に対応する画像欠陥(黒点)が発生した。
また、これらの感光体について、膜を形成する前の支持
体のうち、B1−1、C1−1について欠陥検査データ
を第3図〜第6図に示す。これらのデータの縦軸は支持
体の円周方向、横軸は長手方向の欠陥を示す。第3−は
支持体B1−1の欠陥を低レベルで検出したデータ、f
f14図は支持体B1−1の欠陥を高レベルで検出した
データ、第5図は支持体C+  (比較例1)−1の欠
陥を低レベルで検出したデータ、第6図は支持体C0(
比較例1)−1の欠陥を高レベルで検出したデータであ
る。低レベルにおける検出では、支持体表面から比較的
浅い位置の欠陥が検出でき、レベルを高くすると、より
深い位置の欠陥が検出できる。
複写画像を形成した後、形成された膜を3回に分けて一
層ずつ剥した。このとき、支持体上に水滴の後などが付
かないように、恋人りに膜を溶解した。得られた支持体
を再度欠陥検査装置にかけ、支持体上の欠陥データをと
った後、データ上に欠陥の見られた部分を電子顕微鏡に
より観察し、欠陥上の深さを求めた。その結果を第1表
に示す。
C,(比較例1)の欠陥の断面は2.7〜10数μmま
で及んだ。また、ドラムB1の欠陥は0.3〜2.2μ
mの範囲であった。
実施例2 実施例1と同様にして支持体を成形し、第2図に示すよ
うに、支持体5の表面に接する層として、実施例1と同
様にして膜厚約0.2μmの電荷発生層6を形成した。
さらに、この電荷発生層6上に実施例1と同様の塗工液
を用い、同様にして18〜19μmの電荷輸送層7を形
成することにより、支持体5上に感光層11を形成し、
感光体を得た。この感光体を実施例と同様にしてA2、
B2、C2の3種類に分類し、各々3本ずつを選んだ。
これらをレーザビームプリンタに搭載し、各々のプリン
ト画像をとったところ、A2、B2ともに画像上には欠
陥はみられなかった。また、C2(比較例2)には外観
上の欠陥に対応する画像欠陥(黒点)が発生した。また
、これらの感光体の欠陥部分を、電子顕微鏡を用いて観
察し、欠陥の深さを求めた。その結果を第1表に示す。
表に示すように欠陥の深さは、B2が0.1〜0.6u
mSC2(比較例2)が1.1〜5.3μmであった。
以上のように支持体表面に接する層の厚さよりも支持体
の欠陥部の深さが5倍より大きいと、その欠陥に起因し
て、その上に形成される感光体表面の欠陥が目視で判定
できるほど大きくなり、コピー画像に欠陥(黒点)を生
じることがわかる。
較例の支持体C,−1の欠陥を低レベルで検出したデー
タを示す図、第6図は、比較例の支持体C3の1の欠陥
を高レベルで検出したデータである。
1.5・・・支持体、3.6・・・電荷発生層、4゜7
・・・電荷輸送層、10.11・・・感光層[発明の効
果] 以上説明したように、本発明によれば、低コストで表面
に欠陥の少ない感光体を得ることができる。また、この
ような感光体を用いることにより、鮮明でムラのないコ
ピー画像を提供することができる。
【図面の簡単な説明】

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 支持体と、該支持体上に形成され、電荷発生層及び電荷
    輸送層を含む感光層とを具備する機能分離型感光体であ
    って、該支持体の表面に存在する欠陥の深さが、該支持
    体表面に接する層の厚さの5倍以下である電子写真感光
    体。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0670524A1 (en) * 1994-02-23 1995-09-06 Fuji Electric Co., Ltd. Electrophotographic photoconductors

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0670524A1 (en) * 1994-02-23 1995-09-06 Fuji Electric Co., Ltd. Electrophotographic photoconductors
EP0670524B2 (en) 1994-02-23 2009-04-01 Fuji Electric Co., Ltd. Electrophotographic photoconductors

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