JPH03199951A - 表面分析装置 - Google Patents
表面分析装置Info
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- JPH03199951A JPH03199951A JP1341674A JP34167489A JPH03199951A JP H03199951 A JPH03199951 A JP H03199951A JP 1341674 A JP1341674 A JP 1341674A JP 34167489 A JP34167489 A JP 34167489A JP H03199951 A JPH03199951 A JP H03199951A
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- 238000013480 data collection Methods 0.000 claims description 8
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- 238000002083 X-ray spectrum Methods 0.000 description 2
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- 238000004451 qualitative analysis Methods 0.000 description 1
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- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は分析データ収集装置、特に電子線マイクロアナ
ライザ(EPMA)等の表面分析装置に用いる分析デー
タ収集装置に関する。
ライザ(EPMA)等の表面分析装置に用いる分析デー
タ収集装置に関する。
[従来技術]
電子線マイクロアナライザは直径数十オングストローム
に絞った電子ビームで試料上を走査しつつ、ビームが通
過するとき、各試料点から生じる種々の情報を電気的に
検出し、走査に同期させて、ブラウン管上に画像として
取り出すとともに、定性、定量分析ができるようにした
ものである。
に絞った電子ビームで試料上を走査しつつ、ビームが通
過するとき、各試料点から生じる種々の情報を電気的に
検出し、走査に同期させて、ブラウン管上に画像として
取り出すとともに、定性、定量分析ができるようにした
ものである。
電子ビームで照射された試料部からは、各種のシグナル
が生じ、そのいずれを取り出して結像に用いるかにより
、二次電子像、反射電子像、吸収電子像、起電力像、ル
ミネッセンス像、X線像、オージェ電子像などが観測で
きる。
が生じ、そのいずれを取り出して結像に用いるかにより
、二次電子像、反射電子像、吸収電子像、起電力像、ル
ミネッセンス像、X線像、オージェ電子像などが観測で
きる。
この電子線マイクロアナライザを用いて分析データを収
集する場合、微小領域を分析するときは、電子ビームを
掃引することにより線データ、面データを収集し、数m
mの広範囲を分析するときには、試料ステージを移動さ
せることにより分析データを収集している。従来の試料
ステージスキャンによるデータ収集装置を第4図により
説明すると、第4図において、駆動用パルス発生回路1
の出力パルスがパルスモータ駆動回路2に入力され、モ
ータ3が駆動されて試料ステージが移動される。一方、
これと同時に電子ビームが試料に照射され、試料からの
X線がX線検出器4により検出されて検出信号がX線デ
ータ計数回路5に入力される。そして、パルスモータ駆
動用パルスによりX線データ計数回路5の検出データが
CPU6に入力され、表示装置7にマツプ表示されると
ともに画像メモリに記憶される。このとき、X線データ
計数回路5はCPU6により検出データが取り込まれる
と同時に、自動的にリセットされる。
集する場合、微小領域を分析するときは、電子ビームを
掃引することにより線データ、面データを収集し、数m
mの広範囲を分析するときには、試料ステージを移動さ
せることにより分析データを収集している。従来の試料
ステージスキャンによるデータ収集装置を第4図により
説明すると、第4図において、駆動用パルス発生回路1
の出力パルスがパルスモータ駆動回路2に入力され、モ
ータ3が駆動されて試料ステージが移動される。一方、
これと同時に電子ビームが試料に照射され、試料からの
X線がX線検出器4により検出されて検出信号がX線デ
ータ計数回路5に入力される。そして、パルスモータ駆
動用パルスによりX線データ計数回路5の検出データが
CPU6に入力され、表示装置7にマツプ表示されると
ともに画像メモリに記憶される。このとき、X線データ
計数回路5はCPU6により検出データが取り込まれる
と同時に、自動的にリセットされる。
[発明が解決しようとする課題]
上記のような分析装置において、パルスモータの高速駆
動時には、加減速領域が必要であり、その範囲では、モ
ータ駆動パルスのパルス間隔が一定でないため、上記の
ような分析データ収集装置では、データを収集すること
できなかった。
動時には、加減速領域が必要であり、その範囲では、モ
ータ駆動パルスのパルス間隔が一定でないため、上記の
ような分析データ収集装置では、データを収集すること
できなかった。
また、パルスモータの駆動用パルスの時間間隔が正確で
ない場合や、手動エンコーダからのパルスによってパル
スモータを駆動する場合のようにパルスの間隔が一定で
ない場合には、正確なデータを収集することができなか
った。
ない場合や、手動エンコーダからのパルスによってパル
スモータを駆動する場合のようにパルスの間隔が一定で
ない場合には、正確なデータを収集することができなか
った。
本発明は上記のような従来技術の欠点を解消するために
創案されたものであり、パルスモータ駆動用パルスの時
間間隔が一定でない場合にも、正確に分析データを収集
することができる分析データ収集装置を提供することを
目的とする。
創案されたものであり、パルスモータ駆動用パルスの時
間間隔が一定でない場合にも、正確に分析データを収集
することができる分析データ収集装置を提供することを
目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的を達成するために、本発明における分析データ
収集装置は、パルスモータ駆動用パルス発生手段と、こ
のパルス発生手段の出力パルスのパルス間隔を測定する
手段と、試料からの検出信号を計数する手段と、上記パ
ルス間隔測定手段と上記検出信号計数手段の出力が入力
される演算処理回路とを有する。
収集装置は、パルスモータ駆動用パルス発生手段と、こ
のパルス発生手段の出力パルスのパルス間隔を測定する
手段と、試料からの検出信号を計数する手段と、上記パ
ルス間隔測定手段と上記検出信号計数手段の出力が入力
される演算処理回路とを有する。
[作用]
上記のように構成された分析データ収集装置では、パル
スモータ駆動用パルスの発生される毎にパルス間隔測定
手段の測定出力と、検出信号計数手段の出力とが演算処
理回路に入力され、検出信号計数出力がパルス間隔によ
り補正されて分析データとして出力される。
スモータ駆動用パルスの発生される毎にパルス間隔測定
手段の測定出力と、検出信号計数手段の出力とが演算処
理回路に入力され、検出信号計数出力がパルス間隔によ
り補正されて分析データとして出力される。
[実施例]
実施例について第1図の本発明の分析データ収集装置の
ブロック図、第2図のパルスモータ駆動パルスの波形図
により説明する。第1図において、モータ3は電子線マ
イクロアナライザの試料用ステージに接続され、X線検
出器4は試料からのX線信号を検出する。一方、駆動用
パルス発生回路1からのパルスはパルスモータ駆動回路
2に入力されるとともに、パルス間隔測定回路8とX線
データ計数回路5にも入力される。
ブロック図、第2図のパルスモータ駆動パルスの波形図
により説明する。第1図において、モータ3は電子線マ
イクロアナライザの試料用ステージに接続され、X線検
出器4は試料からのX線信号を検出する。一方、駆動用
パルス発生回路1からのパルスはパルスモータ駆動回路
2に入力されるとともに、パルス間隔測定回路8とX線
データ計数回路5にも入力される。
この分析データ収集装置の動作を第2図のパルスモータ
駆動パルスの波形図とともに説明する。
駆動パルスの波形図とともに説明する。
駆動用パルス発生回路1からのパルスをパルスモータ駆
動回路2に入力することによりモータ3を駆動し、試料
ステージを移動しながら細く収束した電子ビームを試料
表面に照射する。そして、試料表面より得られたX線信
号はX線検出器4により検出され、X線データ計数回路
5に入力される一方、パルス発生回路1の出力はパルス
間隔測(5) 定回路8とX線データ計数回路5にも入力され、パルス
発生回路1からのパルス毎にパルス間隔測定回路8から
の測定値とX線データ計数回路5の出力がCPU6に取
り込まれる。そして、CPU6によりX線データ計数回
路5のカウント数Niとパルス間隔測定回路8の出力T
iとから、基準パルス間隔T。により補正された検出出
力N ff1N”To ”Ni/Ttにより演算され、
表示装置7に画像表示されるとともに、画像メモリに記
憶される。
動回路2に入力することによりモータ3を駆動し、試料
ステージを移動しながら細く収束した電子ビームを試料
表面に照射する。そして、試料表面より得られたX線信
号はX線検出器4により検出され、X線データ計数回路
5に入力される一方、パルス発生回路1の出力はパルス
間隔測(5) 定回路8とX線データ計数回路5にも入力され、パルス
発生回路1からのパルス毎にパルス間隔測定回路8から
の測定値とX線データ計数回路5の出力がCPU6に取
り込まれる。そして、CPU6によりX線データ計数回
路5のカウント数Niとパルス間隔測定回路8の出力T
iとから、基準パルス間隔T。により補正された検出出
力N ff1N”To ”Ni/Ttにより演算され、
表示装置7に画像表示されるとともに、画像メモリに記
憶される。
第3図は本発明の他の実施例であり、モータ3が分光結
晶12に接続されている。この実施例の動作を説明する
と、電子ビームを試料11に照射することにより試料1
1からX線が発生し、このX線は分光結晶12に入射す
る。この分光結晶12により特定の波長のX線だけが選
別されてX線検出器4に到達し、検出器4の出方が計数
回路により計数される。そして、モータ3によって分光
結晶12を回転駆動することにより、検出されるX線の
波長が掃引され、X線スペクトルを検出す(6) ることかできる。このとき、第1図の実施例と同様にモ
ータ3の駆動パルスのパルス間隔を測定し、このパルス
間隔によってX線計数回路の計数データを補正すること
により、パルス間隔の変動があっても正確にX線スペク
トルを求めることができる。
晶12に接続されている。この実施例の動作を説明する
と、電子ビームを試料11に照射することにより試料1
1からX線が発生し、このX線は分光結晶12に入射す
る。この分光結晶12により特定の波長のX線だけが選
別されてX線検出器4に到達し、検出器4の出方が計数
回路により計数される。そして、モータ3によって分光
結晶12を回転駆動することにより、検出されるX線の
波長が掃引され、X線スペクトルを検出す(6) ることかできる。このとき、第1図の実施例と同様にモ
ータ3の駆動パルスのパルス間隔を測定し、このパルス
間隔によってX線計数回路の計数データを補正すること
により、パルス間隔の変動があっても正確にX線スペク
トルを求めることができる。
なお、上記第1の実施例ではX線検出データを収集する
場合について説明したが、二次電子像、反射電子像、ル
ミネッセンス像、オージェ電子像などのデータ収集にも
、本発明の分析データ収集装置を適用することができ、
更に、電子ビームを用いた表面分析装置に限ることなく
イオンビームを用いた表面分析装置等にも適用すること
ができる。
場合について説明したが、二次電子像、反射電子像、ル
ミネッセンス像、オージェ電子像などのデータ収集にも
、本発明の分析データ収集装置を適用することができ、
更に、電子ビームを用いた表面分析装置に限ることなく
イオンビームを用いた表面分析装置等にも適用すること
ができる。
[発明の効果コ
以上説明したように、本発明によれば、モータ駆動用パ
ルスのパルス間隔が一定でなくとも分析データを正確に
収集することができ、また、モータの加減速時にもデー
タを収集することができるので、広範囲のデータを収集
することができる。
ルスのパルス間隔が一定でなくとも分析データを正確に
収集することができ、また、モータの加減速時にもデー
タを収集することができるので、広範囲のデータを収集
することができる。
更に、分析装置の利用者がピークサーチ等をマニュアル
で行っているときも、容易に分析データを得ることがで
きる。
で行っているときも、容易に分析データを得ることがで
きる。
第1図は本発明の分析データ収集装置を示すブロック図
、第2図はパルスモータ駆動用パルスの波形図、第3図
は本発明の分析データ収集装置の他の実施例を示すブロ
ック図、第4図は従来の分析データ収集装置を示すブロ
ック図である。
、第2図はパルスモータ駆動用パルスの波形図、第3図
は本発明の分析データ収集装置の他の実施例を示すブロ
ック図、第4図は従来の分析データ収集装置を示すブロ
ック図である。
Claims (1)
- (1)パルスモータ駆動用パルス発生手段と、このパル
ス発生手段の出力パルスのパルス間隔を測定する手段と
、試料からの検出信号を計数する手段と、上記パルス間
隔測定手段と上記検出信号計数手段の出力が入力される
演算処理回路とを有し、検出信号計数出力をパルス間隔
で補正することを特徴とする分析データ収集装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1341674A JP2876672B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 表面分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1341674A JP2876672B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 表面分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03199951A true JPH03199951A (ja) | 1991-08-30 |
JP2876672B2 JP2876672B2 (ja) | 1999-03-31 |
Family
ID=18347912
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1341674A Expired - Lifetime JP2876672B2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 表面分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2876672B2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP1341674A patent/JP2876672B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2876672B2 (ja) | 1999-03-31 |
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