JPH03190848A - ベンズアルデヒドの製造法 - Google Patents
ベンズアルデヒドの製造法Info
- Publication number
- JPH03190848A JPH03190848A JP2318140A JP31814090A JPH03190848A JP H03190848 A JPH03190848 A JP H03190848A JP 2318140 A JP2318140 A JP 2318140A JP 31814090 A JP31814090 A JP 31814090A JP H03190848 A JPH03190848 A JP H03190848A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- branched
- amino
- substituted
- chain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 16
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 8
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- UWRZIZXBOLBCON-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenamine Chemical class NC=CC1=CC=CC=C1 UWRZIZXBOLBCON-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 32
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 27
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 15
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 13
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 claims abstract description 12
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 claims abstract description 8
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 40
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 20
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 16
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 claims description 11
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 claims description 10
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 10
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 claims description 9
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 claims description 9
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 9
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 claims description 8
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 8
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 claims description 7
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 7
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 7
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 6
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 5
- OJWYYSVOSNWCCE-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl hypofluorite Chemical compound COCCOF OJWYYSVOSNWCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000003172 aldehyde group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 claims description 3
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 abstract description 11
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 10
- 239000005749 Copper compound Substances 0.000 abstract description 4
- 150000001880 copper compounds Chemical class 0.000 abstract description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 abstract description 2
- 125000004209 (C1-C8) alkyl group Chemical group 0.000 abstract 2
- 125000006705 (C5-C7) cycloalkyl group Chemical group 0.000 abstract 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 abstract 1
- 239000010865 sewage Substances 0.000 abstract 1
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- -1 dimethylformamide acetal Chemical class 0.000 description 27
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 25
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical compound C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 10
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 10
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical compound C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 2-nitrotoluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O PLAZTCDQAHEYBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 5
- 239000012442 inert solvent Substances 0.000 description 5
- CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=O CMWKITSNTDAEDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021591 Copper(I) chloride Inorganic materials 0.000 description 4
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M copper(I) chloride Chemical compound [Cu]Cl OXBLHERUFWYNTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 4
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 4
- 230000026030 halogenation Effects 0.000 description 4
- 238000005658 halogenation reaction Methods 0.000 description 4
- WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N hypochlorite Chemical compound Cl[O-] WQYVRQLZKVEZGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 4
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 4
- 150000003613 toluenes Chemical class 0.000 description 4
- 238000010626 work up procedure Methods 0.000 description 4
- CIFVUFPXKQMYJP-UHFFFAOYSA-N 2-(2-nitrophenyl)ethenamine Chemical compound NC=CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O CIFVUFPXKQMYJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical compound C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WPGQNNNGFHRGPT-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethyl-2-(2-nitrophenyl)ethenamine Chemical compound CN(C)C=CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O WPGQNNNGFHRGPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 1,3-thiazolidine Chemical compound C1CSCN1 OGYGFUAIIOPWQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NGFVITQWMVMQGZ-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-1-n,1-n,1-n',1-n'-tetramethylethane-1,1-diamine Chemical compound COCC(N(C)C)N(C)C NGFVITQWMVMQGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PIAOLBVUVDXHHL-UHFFFAOYSA-N 2-nitroethenylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C=CC1=CC=CC=C1 PIAOLBVUVDXHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 2-pyrroline Chemical compound C1CC=CN1 RSEBUVRVKCANEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N Dihydropyran Chemical compound C1COC=CC1 BUDQDWGNQVEFAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N Imidazolidine Chemical compound C1CNCN1 WRYCSMQKUKOKBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N N-methylcaprolactam Chemical compound CN1CCCCCC1=O ZWXPDGCFMMFNRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYNCHZVNFNFDNH-UHFFFAOYSA-N Oxazolidine Chemical compound C1COCN1 WYNCHZVNFNFDNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N Pentane Chemical compound CCCCC OFBQJSOFQDEBGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical compound C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000000160 oxazolidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 2
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N pyrazoline Chemical compound C1CN=NC1 DNXIASIHZYFFRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N pyrroline Natural products C1CC=NC1 ZVJHJDDKYZXRJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical class 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003462 sulfoxides Chemical class 0.000 description 2
- 238000004809 thin layer chromatography Methods 0.000 description 2
- BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N thiomorpholine Chemical compound C1CSCCN1 BRNULMACUQOKMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dihydropyridine Chemical class C1C=CNC=C1 YNGDWRXWKFWCJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VKVLTUQLNXVANB-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=C VKVLTUQLNXVANB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 2-(3,4-dimethoxyphenyl)-5-hydroxy-7-methoxychromen-4-one Chemical compound C=1C(OC)=CC(O)=C(C(C=2)=O)C=1OC=2C1=CC=C(OC)C(OC)=C1 HIXDQWDOVZUNNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 2-Oxazoline Chemical compound C1CN=CO1 IMSODMZESSGVBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NQWNMOKEBMCNPO-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(dimethylamino)ethenyl]benzonitrile Chemical compound CN(C)C=CC1=CC=CC=C1C#N NQWNMOKEBMCNPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QVTPWONEVZJCCS-UHFFFAOYSA-N 2-formylbenzonitrile Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1C#N QVTPWONEVZJCCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGCWRLDEYHZQCW-UHFFFAOYSA-N 2-nitrophenylpyruvic acid Chemical class OC(=O)C(=O)CC1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O CGCWRLDEYHZQCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran Chemical compound C1OC=CC=C1 MGADZUXDNSDTHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 2h-oxazine Chemical compound N1OC=CC=C1 BCHZICNRHXRCHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 2h-thiazine Chemical compound N1SC=CC=C1 AGIJRRREJXSQJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAOPWBREYGCGBJ-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(2-nitrophenyl)ethenyl]morpholine Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1C=CN1CCOCC1 RAOPWBREYGCGBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MDIIOVRYTOGGBO-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-imidazole-2-carbaldehyde Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CN=C(C=O)N1 MDIIOVRYTOGGBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229910021589 Copper(I) bromide Inorganic materials 0.000 description 1
- VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N Cu+ Chemical class [Cu+] VMQMZMRVKUZKQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N Dimethoxyethane Chemical compound COCCOC XTHFKEDIFFGKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical compound C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005708 Sodium hypochlorite Substances 0.000 description 1
- DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N Tetrahydropyran Chemical compound C1CCOCC1 DHXVGJBLRPWPCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N Thiane Chemical compound C1CCSCC1 YPWFISCTZQNZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical compound C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBCJIPOGFJYBJE-UHFFFAOYSA-N acetonitrile;hydrate Chemical compound O.CC#N PBCJIPOGFJYBJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 238000005902 aminomethylation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003935 benzaldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001555 benzenes Chemical class 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000004369 butenyl group Chemical group C(=CCC)* 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- ITZXULOAYIAYNU-UHFFFAOYSA-N cerium(4+) Chemical compound [Ce+4] ITZXULOAYIAYNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004699 copper complex Chemical class 0.000 description 1
- 239000012045 crude solution Substances 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002081 enamines Chemical class 0.000 description 1
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000006232 ethoxy propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005448 ethoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000004992 fission Effects 0.000 description 1
- ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N formamide Substances NC=O ZHNUHDYFZUAESO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003948 formamides Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 1
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006038 hexenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N n,n'-dimethylethane-1,2-diamine Chemical compound CNCCNC KVKFRMCSXWQSNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N n,n-diethylacetamide Chemical compound CCN(CC)C(C)=O AJFDBNQQDYLMJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N nitromethylbenzene Chemical compound [O-][N+](=O)CC1=CC=CC=C1 VLZLOWPYUQHHCG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004365 octenyl group Chemical group C(=CCCCCCC)* 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 238000006864 oxidative decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002255 pentenyl group Chemical group C(=CCCC)* 0.000 description 1
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 1
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 1
- 125000004344 phenylpropyl group Chemical group 0.000 description 1
- PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N pinacolone Chemical compound CC(=O)C(C)(C)C PJGSXYOJTGTZAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012286 potassium permanganate Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 125000004368 propenyl group Chemical group C(=CC)* 0.000 description 1
- FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N propionitrile Chemical compound CCC#N FVSKHRXBFJPNKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N pyridazine Chemical compound C1=CC=NN=C1 PBMFSQRYOILNGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012429 reaction media Substances 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N sodium hypochlorite Chemical compound [Na+].Cl[O-] SUKJFIGYRHOWBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000011877 solvent mixture Substances 0.000 description 1
- 125000005504 styryl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N tetrahydrothiophene Chemical compound C1CCSC1 RAOIDOHSFRTOEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N thiazoline Chemical compound C1CN=CS1 CBDKQYKMCICBOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005891 transamination reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C255/00—Carboxylic acid nitriles
- C07C255/49—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton
- C07C255/56—Carboxylic acid nitriles having cyano groups bound to carbon atoms of six-membered aromatic rings of a carbon skeleton containing cyano groups and doubly-bound oxygen atoms bound to the carbon skeleton
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C201/00—Preparation of esters of nitric or nitrous acid or of compounds containing nitro or nitroso groups bound to a carbon skeleton
- C07C201/06—Preparation of nitro compounds
- C07C201/12—Preparation of nitro compounds by reactions not involving the formation of nitro groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C253/00—Preparation of carboxylic acid nitriles
- C07C253/30—Preparation of carboxylic acid nitriles by reactions not involving the formation of cyano groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、オルト−又はバラ−位の少なくとも1カ所に
電子吸引性置換基を持つベンズアルデヒドの製造法に関
する。
電子吸引性置換基を持つベンズアルデヒドの製造法に関
する。
このようなベンズアルデヒドは、医薬品の製造において
重要てあり、例えば1.4−ジヒドロピリジン誘導体は
、0−ニトロベンズアルデヒドから製造される( D
E −OS 1.670.827)。
重要てあり、例えば1.4−ジヒドロピリジン誘導体は
、0−ニトロベンズアルデヒドから製造される( D
E −OS 1.670.827)。
通常の古典的アルデヒド合成力によっては電子吸引性置
換基を持つアルデヒドの合成はできないので、現在まで
に、特別な方法に関する多大な数の特許文献がある。ク
レームされた方法のいくつかは、0−ニトロトルエンを
もとにし、第1段階で側鎖をハロゲン化し、続いて加水
分解(DEO82,842,360)又は酸化(DE−
O82,708,115)、(D E −OS 2.9
48.058)をする方法に関連している。しかし、側
鎖のハロゲン化の間に常に核ハロゲン化生成物も生成さ
れ、医薬品質の0ニトロベンズアルデヒドを得るには、
複雑な精製過程が必要である。
換基を持つアルデヒドの合成はできないので、現在まで
に、特別な方法に関する多大な数の特許文献がある。ク
レームされた方法のいくつかは、0−ニトロトルエンを
もとにし、第1段階で側鎖をハロゲン化し、続いて加水
分解(DEO82,842,360)又は酸化(DE−
O82,708,115)、(D E −OS 2.9
48.058)をする方法に関連している。しかし、側
鎖のハロゲン化の間に常に核ハロゲン化生成物も生成さ
れ、医薬品質の0ニトロベンズアルデヒドを得るには、
複雑な精製過程が必要である。
クロム(Vl)を用いた0−ニトロトルエンの直接酸化
は、排水汚染の点で問題である。セリウム(IV)ベル
クロレート(EP 205,173)又はコバルト(I
I I)サルフェートなど、他の酸化剤を使用する方
法は、反応混合液の高度の希釈が必要であること及び、
低い転化率しか得られない点で、経済的な方法とは言い
難い。
は、排水汚染の点で問題である。セリウム(IV)ベル
クロレート(EP 205,173)又はコバルト(I
I I)サルフェートなど、他の酸化剤を使用する方
法は、反応混合液の高度の希釈が必要であること及び、
低い転化率しか得られない点で、経済的な方法とは言い
難い。
種々の触媒の存在下で酸素を用いた0−二トロスチレン
の酸化でさえ、低転化率しか得られないが(DE−〇8
2,805,402) 、−20℃でいくぶん複雑なオ
ゾンの利用をすると、より良い収率が得られる(DE−
O82,829,346)。しかし、0ニトロスチレン
の製造は困難であり、さらに望ましくないハロゲン化工
程を含む。
の酸化でさえ、低転化率しか得られないが(DE−〇8
2,805,402) 、−20℃でいくぶん複雑なオ
ゾンの利用をすると、より良い収率が得られる(DE−
O82,829,346)。しかし、0ニトロスチレン
の製造は困難であり、さらに望ましくないハロゲン化工
程を含む。
従って、高価でないO−ニトロトルエンから出発してC
−C結合により製造できる化合物の酸化的分解のための
、他の方法が開発されてきた。過マンガン酸カリを用い
た2−ニトロピルビン酸の酸化(DE−O82,415
,061)又は次亜塩素酸塩を用いて2−ニトロピルビ
ン酸を酸化した後加水分解(DE−O82,415,0
62)をする方法は、収率がわずかに27又は36%で
ある。過酸化水素と2−ニトロフェニルピルビン酸誘導
体の反応(E P −92,267)は、0−ニトロト
ルエンから出発して39−約50%の0−ニトロベンズ
アルデヒドを与える。
−C結合により製造できる化合物の酸化的分解のための
、他の方法が開発されてきた。過マンガン酸カリを用い
た2−ニトロピルビン酸の酸化(DE−O82,415
,061)又は次亜塩素酸塩を用いて2−ニトロピルビ
ン酸を酸化した後加水分解(DE−O82,415,0
62)をする方法は、収率がわずかに27又は36%で
ある。過酸化水素と2−ニトロフェニルピルビン酸誘導
体の反応(E P −92,267)は、0−ニトロト
ルエンから出発して39−約50%の0−ニトロベンズ
アルデヒドを与える。
次亜塩素酸ナトリウム又は濃度30%の過酸化水素を用
いたβ−ジメチルアミノ−2−ニドロスチレンの酸化も
すでに記載されている(JP60−25957(198
5))。この目的のため、最初に2−二トロトルエンを
出発物質とし、オルト−アミドジメチルホルムアミド
ジメチルアセクールと反応させ、β−ジメチルアミノ−
2−二トロスチレンを得ている。上述のアルデヒドへの
酸化はアセトニトリル−水の混合液中で行うので、ジメ
チルホルムアミド及び未反応の0−ニトロトルエンを蒸
留で除去しなければならず、これはニトロスチレンが不
安定なため危険が伴う。濃度30%の過酸化水素を用い
た場合、高価なジメチルホルムアミドアセタールに対し
て、収率は55%又は425%である。次亜塩素酸塩を
用い、続いて加水分解を行う場合は、理論値の68%又
は53%が得られる。追試により濃度70%の過酸化水
素を用いると収率は理論値の80%まで増加することが
わかった;しかし高濃度の過酸化水素の使用は問題であ
る。
いたβ−ジメチルアミノ−2−ニドロスチレンの酸化も
すでに記載されている(JP60−25957(198
5))。この目的のため、最初に2−二トロトルエンを
出発物質とし、オルト−アミドジメチルホルムアミド
ジメチルアセクールと反応させ、β−ジメチルアミノ−
2−二トロスチレンを得ている。上述のアルデヒドへの
酸化はアセトニトリル−水の混合液中で行うので、ジメ
チルホルムアミド及び未反応の0−ニトロトルエンを蒸
留で除去しなければならず、これはニトロスチレンが不
安定なため危険が伴う。濃度30%の過酸化水素を用い
た場合、高価なジメチルホルムアミドアセタールに対し
て、収率は55%又は425%である。次亜塩素酸塩を
用い、続いて加水分解を行う場合は、理論値の68%又
は53%が得られる。追試により濃度70%の過酸化水
素を用いると収率は理論値の80%まで増加することが
わかった;しかし高濃度の過酸化水素の使用は問題であ
る。
原理的に、酸素を用いたエナミンの酸化も公知である(
Tetrah、 Letters 1968.3271
及び19683267;US 3,661,942)
、Lかしこの方法によるアルデヒドの製造は、非選択的
であると記述されている。例えば2−β−アミノ−ビニ
ル−5−ニトロ−イミダゾールの存在下の02による複
素環エナミンの酸化により、5−ニトロ−イミダゾール
−2−カルボアルデヒドを得るのは不可能であると記述
されている(Ann、 1975,1.465)。
Tetrah、 Letters 1968.3271
及び19683267;US 3,661,942)
、Lかしこの方法によるアルデヒドの製造は、非選択的
であると記述されている。例えば2−β−アミノ−ビニ
ル−5−ニトロ−イミダゾールの存在下の02による複
素環エナミンの酸化により、5−ニトロ−イミダゾール
−2−カルボアルデヒドを得るのは不可能であると記述
されている(Ann、 1975,1.465)。
ここで、下記にさらに記述する置換β−アミノ−スチレ
ンは、Cu化合物の存在下で反応を行うと、酸素を用い
て直接酸化することができ、他の方法で得るには困難の
伴う、オルト−又はバラ−位の少な(とも1個所に電子
吸引性置換基を持つベンズアルデヒドを与えることを見
いだした。
ンは、Cu化合物の存在下で反応を行うと、酸素を用い
て直接酸化することができ、他の方法で得るには困難の
伴う、オルト−又はバラ−位の少な(とも1個所に電子
吸引性置換基を持つベンズアルデヒドを与えることを見
いだした。
式
[式中、
R1,R2及びR3は、互いに独立して、ニトロ、=7
シアノ、C0OR’、5Q2−OR6又は5O2R6で
あり、 R4は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルキル
、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルコキシ、フェニル
、ベンジル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フッ素
、塩素、臭素又はN (R6,R7)であり、 R5は、水素又はアルデヒド基 −CHoであり、ここ
で Rc′及びR7は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状
C,−C4−アルキル、ベンジル又はフェニルであり、 さらにここで挙げた環状置換基も1個又は2個のメチル
、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素
により置換されていても良く、m、 n及び0は互い
に独立して、0又は1の値であるが、m+n+0の合計
は1又は2でなければならない] で表される、オルト
−又はバラ−位の少なくとも1カ所に電子吸引性置換基
を持つベンズアルデヒドの製造法を発見し、この方法は
[式中 R’、R2,R3,R’、m、n及び0は上述の意味を
有し、 R8及びR9は互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状C,
−C8−アルキル、C3−C,−シクロアルキル、直鎖
又は分枝鎖状C2C8−アルケニル、直鎖又は分枝鎖状
C2−C8−アルコキシアルキル、直鎖又は分枝鎖状C
3C8−アルコキシアルケニル、c6c12−アリール
、c、 Cl0−アラルキル又はN、O及びSから成
る群の1個又は2個の複素原子を含む5−8員の飽和又
は不飽和複素環であり さらにここで、 R8及びR9は、それが置換しているN原子と共に5−
8員の飽和又は不飽和、非芳香族性N〜q ]〇− 複素環を形成していても良く、これにはさらにN、 O
又はSから成る群より選んだ複素原子がふくまれていて
も良(、 R8は、さらに水素で良(、 R9は、さらに [式中、pは2.3又は4の値であり、RIGは、水素
又は基 であるコで表される基でも良いコで表される置換β−ア
ミノ−スチレン、又はR8及び/又はR9の意味の異な
るこのようなβ−アミノ−スチレンのいくつかの混合物
を、非プロトン性、極性溶媒の溶液中、Cu化合物の存
在下で、0−120°C1好ましくは20−100℃、
特に好ましくは30−80℃にて酸素と反応させること
を特徴とじている。
あり、 R4は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルキル
、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルコキシ、フェニル
、ベンジル、シクロペンチル、シクロヘキシル、フッ素
、塩素、臭素又はN (R6,R7)であり、 R5は、水素又はアルデヒド基 −CHoであり、ここ
で Rc′及びR7は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状
C,−C4−アルキル、ベンジル又はフェニルであり、 さらにここで挙げた環状置換基も1個又は2個のメチル
、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素
により置換されていても良く、m、 n及び0は互い
に独立して、0又は1の値であるが、m+n+0の合計
は1又は2でなければならない] で表される、オルト
−又はバラ−位の少なくとも1カ所に電子吸引性置換基
を持つベンズアルデヒドの製造法を発見し、この方法は
[式中 R’、R2,R3,R’、m、n及び0は上述の意味を
有し、 R8及びR9は互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状C,
−C8−アルキル、C3−C,−シクロアルキル、直鎖
又は分枝鎖状C2C8−アルケニル、直鎖又は分枝鎖状
C2−C8−アルコキシアルキル、直鎖又は分枝鎖状C
3C8−アルコキシアルケニル、c6c12−アリール
、c、 Cl0−アラルキル又はN、O及びSから成
る群の1個又は2個の複素原子を含む5−8員の飽和又
は不飽和複素環であり さらにここで、 R8及びR9は、それが置換しているN原子と共に5−
8員の飽和又は不飽和、非芳香族性N〜q ]〇− 複素環を形成していても良く、これにはさらにN、 O
又はSから成る群より選んだ複素原子がふくまれていて
も良(、 R8は、さらに水素で良(、 R9は、さらに [式中、pは2.3又は4の値であり、RIGは、水素
又は基 であるコで表される基でも良いコで表される置換β−ア
ミノ−スチレン、又はR8及び/又はR9の意味の異な
るこのようなβ−アミノ−スチレンのいくつかの混合物
を、非プロトン性、極性溶媒の溶液中、Cu化合物の存
在下で、0−120°C1好ましくは20−100℃、
特に好ましくは30−80℃にて酸素と反応させること
を特徴とじている。
直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルキルは、例えばメチ
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert、−ブチル、又は異性体ペンチル、ヘキ
シル、又はオクチルラジカルである。好ましいアルキル
は炭素数1−4であり;メチル、及びエチルが特に好ま
しい。
ル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブ
チル、tert、−ブチル、又は異性体ペンチル、ヘキ
シル、又はオクチルラジカルである。好ましいアルキル
は炭素数1−4であり;メチル、及びエチルが特に好ま
しい。
直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルコキシは、例えばメ
トキシ、エトキン、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、tert、−ブトキシ、又は異性
体ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、及びオクチルオキ
シラジカルである。好ましいアルコキシは炭素数1−4
であり、メトキシ及びエトキシが特に好ましい。
トキシ、エトキン、プロポキシ、イソプロポキシ、ブト
キシ、イソブトキシ、tert、−ブトキシ、又は異性
体ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、及びオクチルオキ
シラジカルである。好ましいアルコキシは炭素数1−4
であり、メトキシ及びエトキシが特に好ましい。
直鎖又は分枝鎖状C2−C,−アルケニルは、例えばビ
ニル、プロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘ
キセニル又はオクテニル及びこれらの分枝鎖異性体であ
り、炭素数2−4のアルケニルラジカルが好ましい。
ニル、プロペニル、アリル、ブテニル、ペンテニル、ヘ
キセニル又はオクテニル及びこれらの分枝鎖異性体であ
り、炭素数2−4のアルケニルラジカルが好ましい。
直鎖又は分枝鎖状C2−C8−アルコキシアルキ1
ルは、例えばメトキシメチル、メトキシエチル、エトキ
シメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキ
シブチル、又はエトキシヘキシルであり、炭素数2−4
のものが好ましい。
シメチル、エトキシエチル、エトキシプロピル、エトキ
シブチル、又はエトキシヘキシルであり、炭素数2−4
のものが好ましい。
直鎖又は分枝鎖状C3−C8−アルコキシアルケニルは
例えば、メトキシビニル、エトキシビニル、メトキシプ
ロペニル、メトキシブテニル及び同業者には公知のより
高級な同族体であり、メトキシビニル及びエトキシビニ
ルが好ましい。
例えば、メトキシビニル、エトキシビニル、メトキシプ
ロペニル、メトキシブテニル及び同業者には公知のより
高級な同族体であり、メトキシビニル及びエトキシビニ
ルが好ましい。
C6−C、。−アリールは、例えば、フェニル、ナフチ
ル及びビフェニリルであり、フェニルが好ましい。
ル及びビフェニリルであり、フェニルが好ましい。
C7coo−アラルキルは、例えばベンジル、α−およ
びβ−フェニル−エチル、フェニル−プロピル及びフェ
ニル−ブチルであり、ベンジルが好ましい。
びβ−フェニル−エチル、フェニル−プロピル及びフェ
ニル−ブチルであり、ベンジルが好ましい。
N、 O及びSから成る群より選んだ1個又は2個の複
素原子を含む、5−8員の飽和あるいは不飽和複素環は
当業者に公知であり、それらが置換しているN原子に1
−.2−.3−又は4−位で2 結合していても良い。このような環の例は ピロール、
フラン、チオフェン、ピロリン、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロチオフェン、ピラゾール、イミダソール、
ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、オキサゾ
ール、チアゾール、オキサゾリン、オキサゾリジン、チ
アゾリン、チアゾリジン、ピリジン、ピラン、チオピラ
ン、ピペリジン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン
、ジヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、ピリダジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、オキサジン、
チアジン、モルホリン、チオモルホリン、などである。
素原子を含む、5−8員の飽和あるいは不飽和複素環は
当業者に公知であり、それらが置換しているN原子に1
−.2−.3−又は4−位で2 結合していても良い。このような環の例は ピロール、
フラン、チオフェン、ピロリン、テトラヒドロフラン、
テトラヒドロチオフェン、ピラゾール、イミダソール、
ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリジン、オキサゾ
ール、チアゾール、オキサゾリン、オキサゾリジン、チ
アゾリン、チアゾリジン、ピリジン、ピラン、チオピラ
ン、ピペリジン、ジヒドロピラン、テトラヒドロピラン
、ジヒドロピラン、テトラヒドロチオピラン、ピリダジ
ン、ピリミジン、ピラジン、ピペラジン、オキサジン、
チアジン、モルホリン、チオモルホリン、などである。
R8及びR9が、それらが置換しているN原子と共に5
−8員環を形成している場合、それは常にN−複素環で
あり、飽和でも不飽和でも良いが芳香族ではない。上に
挙げた中で本発明の目的に適したN−複素環は、当業者
の認めるところでありそれらは常にN原子を経てスチリ
ル基に結合している。この種の好ましい環は、ピロリン
、ピロリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリ
3 4 ン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、
ピペリジン、ピペラジン、モルホリン及びチオモルホリ
ンであり;これらの中で完全に飽和の理系が特に好まし
い。
−8員環を形成している場合、それは常にN−複素環で
あり、飽和でも不飽和でも良いが芳香族ではない。上に
挙げた中で本発明の目的に適したN−複素環は、当業者
の認めるところでありそれらは常にN原子を経てスチリ
ル基に結合している。この種の好ましい環は、ピロリン
、ピロリジン、ピラゾリン、ピラゾリジン、イミダゾリ
3 4 ン、イミダゾリジン、オキサゾリジン、チアゾリジン、
ピペリジン、ピペラジン、モルホリン及びチオモルホリ
ンであり;これらの中で完全に飽和の理系が特に好まし
い。
反応さぜる式(T I)の置換β−アミノ−スチレンの
中には、第2の置換β−アミノ−ビニル基(RIo)を
持つものもあり、従って本発明による反応の範囲内でジ
アルデヒドを与える。好ましい方法においては、置換基
R”は水素である。
中には、第2の置換β−アミノ−ビニル基(RIo)を
持つものもあり、従って本発明による反応の範囲内でジ
アルデヒドを与える。好ましい方法においては、置換基
R”は水素である。
反応させる式(T I)の置換β−アミノ−スチレンは
、特に1個又は2個の電子吸引性置換基を持つことを特
徴としており、それはオルト−、パラ−、オルト−パラ
−1又はオルト−オルト−位であって良く、これらが共
存するアルドヒトは他の方法で純粋に得ることは難しい
。上記の電子吸引性置換基R1,R2及びR3としてニ
トロ及びシアノが好ましく、特にニトロが好ましい。
、特に1個又は2個の電子吸引性置換基を持つことを特
徴としており、それはオルト−、パラ−、オルト−パラ
−1又はオルト−オルト−位であって良く、これらが共
存するアルドヒトは他の方法で純粋に得ることは難しい
。上記の電子吸引性置換基R1,R2及びR3としてニ
トロ及びシアノが好ましく、特にニトロが好ましい。
挙げられたすべての環状置換基(ベンゼン核、環状脂肪
原核及び複素環核)も又、1個又は2個のメチル、エチ
ル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素により
置換されていても良い。
原核及び複素環核)も又、1個又は2個のメチル、エチ
ル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素により
置換されていても良い。
本発明により使用する置換β−アミノ−スチレンの製造
は公知であり、例としてO−ニトロトルエンを出発物質
とし、ビス−(ジメチルアミノ)−エトキシメタンを用
いると以下の式で表すことができる さらに上式で表される置換β−アミノ−スチレンの製造
は、2級アミンの存在下で行うことができ、アミン交換
が起こり得るのは公知である。従ってピロリジンの存在
下で上式の例では、以下の混合物が形成され、分裂生成
物は式に含まれない5 6 本発明による置換β−アミノ−スチレンのCu触媒酸化
は、例えば以下のように表すことができる: はシアノであり、 R”は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C4−アルコキ
シ、フッ素、塩素又は臭素である]で表される置換β−
アミノ−スチレンを反応させるのが好ましい方法である
。
は公知であり、例としてO−ニトロトルエンを出発物質
とし、ビス−(ジメチルアミノ)−エトキシメタンを用
いると以下の式で表すことができる さらに上式で表される置換β−アミノ−スチレンの製造
は、2級アミンの存在下で行うことができ、アミン交換
が起こり得るのは公知である。従ってピロリジンの存在
下で上式の例では、以下の混合物が形成され、分裂生成
物は式に含まれない5 6 本発明による置換β−アミノ−スチレンのCu触媒酸化
は、例えば以下のように表すことができる: はシアノであり、 R”は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C4−アルコキ
シ、フッ素、塩素又は臭素である]で表される置換β−
アミノ−スチレンを反応させるのが好ましい方法である
。
式
[式中、
R8,R9,m、 n及び0は、上記の意味を有し、
R”、 R12及びR13は、互いに独立してニトロ又
[式中、 R”、 R+2. R13,R”、 m、 n及び0
は、上記の意味を有し、 R18及びR′9は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C,−C8−アルキル、フェニル、ペンシル、シクロヘ
キシル又はNあるいはOを複素原子として含む5−6員
の飽和複素環であり、ここでさらに R+8及びR”は、これらが置換しているN原子と共に
、さらにN及びOから成る群より選んだ7 8 複素原子を含む5−6員のN−複素環を形成していても
良い]で表される、 置換β−アミノ−スチレンを本発明の方法に従って反応
させるのが特に好ましい。
R”、 R12及びR13は、互いに独立してニトロ又
[式中、 R”、 R+2. R13,R”、 m、 n及び0
は、上記の意味を有し、 R18及びR′9は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C,−C8−アルキル、フェニル、ペンシル、シクロヘ
キシル又はNあるいはOを複素原子として含む5−6員
の飽和複素環であり、ここでさらに R+8及びR”は、これらが置換しているN原子と共に
、さらにN及びOから成る群より選んだ7 8 複素原子を含む5−6員のN−複素環を形成していても
良い]で表される、 置換β−アミノ−スチレンを本発明の方法に従って反応
させるのが特に好ましい。
式
置換β−アミノ−スチレンを本発明の方法に従って反応
させるのが中でも特に好ましい。
させるのが中でも特に好ましい。
式
[式中、
R”、 RI2. R13,R”、 m、 n及び0は
、上記の意味を有し、 R2g及びR29は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C,−C4−アルキル、ベンジル又はシクロヘキシルで
あり、 ここでさらに R2B及びR29は、それらが置換しているN原子と共
にピロリジン環、オキサゾリジン環、ピペリジン環、ピ
ペラジン環又はモルホリン環を形成していても良いコで
表される [式中、 R”、RI8及びR19は、上記の意味を有する]で表
される置換β−アミノ−スチレンを、本発明の方法に従
って反応させるのが中でも最も好ましい。
、上記の意味を有し、 R2g及びR29は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C,−C4−アルキル、ベンジル又はシクロヘキシルで
あり、 ここでさらに R2B及びR29は、それらが置換しているN原子と共
にピロリジン環、オキサゾリジン環、ピペリジン環、ピ
ペラジン環又はモルホリン環を形成していても良いコで
表される [式中、 R”、RI8及びR19は、上記の意味を有する]で表
される置換β−アミノ−スチレンを、本発明の方法に従
って反応させるのが中でも最も好ましい。
O−ニトロベンズアルデヒドを与える、R,+ 4が水
素である式(VT)の化合物の反応はとくに重要である
。
素である式(VT)の化合物の反応はとくに重要である
。
使用する反応媒体は、非プロトン性極性溶媒又はそのい
くつかの混合物である。そのような非プロトン性極性溶
媒として好ましいのは、置換酸アミド、ケトン、スルホ
キシド及びニトリルである。
くつかの混合物である。そのような非プロトン性極性溶
媒として好ましいのは、置換酸アミド、ケトン、スルホ
キシド及びニトリルである。
それらの例は、ジメチルホルムアミド、(DMF)、ジ
メチルアセトアミド、ジエチルホルムアミド、9 0 ジエチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルtert−ブチ
ルケトン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル、N−メチルピロリドン(NMP) 、
N−メチルカプロラクタム(NMC)、及びN、N−ジ
メチル−イミダゾリジノン(DMI)である。置換酸ア
ミドの使用が特に好ましく、中でもDMFが特に好まし
い。非プロトン性極性溶媒は、部分的に不活性溶媒で置
換することができる。そのような不活性溶媒としては例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、
ニトロトルエン、ジメトキシエタン及びメチル ter
t、−ブチル エーテルがある。
メチルアセトアミド、ジエチルホルムアミド、9 0 ジエチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルtert−ブチ
ルケトン、ジメチルスルホキシド、アセトニトリル、プ
ロピオニトリル、N−メチルピロリドン(NMP) 、
N−メチルカプロラクタム(NMC)、及びN、N−ジ
メチル−イミダゾリジノン(DMI)である。置換酸ア
ミドの使用が特に好ましく、中でもDMFが特に好まし
い。非プロトン性極性溶媒は、部分的に不活性溶媒で置
換することができる。そのような不活性溶媒としては例
えば、ベンゼン、トルエン、キシレン、石油エーテル、
ニトロトルエン、ジメトキシエタン及びメチル ter
t、−ブチル エーテルがある。
置換は全溶媒量に対して0−50重量%の量でおこなう
ことができる。
ことができる。
置換β−アミノ−スチレンを、先立って行う、上記にお
いて式で示したような基礎となる置換トルエンのアミノ
メチレン化からの粗生成物の形態で使用するのは、本発
明の方法の好ましい変法である。式で示すこの代表的な
例かられかるように、この場合、DMF型の置換ホルム
アミドが分裂生成物として形成され、これはこのまま本
発明で使用するべき非プロトン性極性溶媒として利用す
る。
いて式で示したような基礎となる置換トルエンのアミノ
メチレン化からの粗生成物の形態で使用するのは、本発
明の方法の好ましい変法である。式で示すこの代表的な
例かられかるように、この場合、DMF型の置換ホルム
アミドが分裂生成物として形成され、これはこのまま本
発明で使用するべき非プロトン性極性溶媒として利用す
る。
分裂生成物である1級アルカノール及び2級アミンは一
般に、先立って行われるアミノメチレン化の混合物から
蒸留により除去するが、本発明の方法は高い経費をかけ
て蒸留による除去を完結しなければならない程、少量の
アルコールやアミンに敏感ではない。
般に、先立って行われるアミノメチレン化の混合物から
蒸留により除去するが、本発明の方法は高い経費をかけ
て蒸留による除去を完結しなければならない程、少量の
アルコールやアミンに敏感ではない。
本発明の方法は、銅化合物の存在下で行い、無水の銅塩
、特にCu(I)塩、中でもCu(I)ハライドが好ま
しく、置換β−アミノ−スチレンに対して1−200モ
ル%、好ましくは5−40モル%、特に好ましくは10
−20モル%の存在下で行うのが好ましい。銅化合物は
、おそらく、酸素との反応の最初に作用し、多分溶媒と
反応して銅錯塩を形成すると思われるが、その性質は正
確にはわかっていない。
、特にCu(I)塩、中でもCu(I)ハライドが好ま
しく、置換β−アミノ−スチレンに対して1−200モ
ル%、好ましくは5−40モル%、特に好ましくは10
−20モル%の存在下で行うのが好ましい。銅化合物は
、おそらく、酸素との反応の最初に作用し、多分溶媒と
反応して銅錯塩を形成すると思われるが、その性質は正
確にはわかっていない。
本発明の方法は、O−1,20°Cの温度、好ましくは
20−100℃、特に好ましくは30−801 2 ℃の温度で行う。使用できる酸素は、純粋な酸素、酸素
を強化した空気又は大気そのものである。排ガスを最小
にするため、純粋な酸素又は酸素を強化した空気の使用
が好ましい。
20−100℃、特に好ましくは30−801 2 ℃の温度で行う。使用できる酸素は、純粋な酸素、酸素
を強化した空気又は大気そのものである。排ガスを最小
にするため、純粋な酸素又は酸素を強化した空気の使用
が好ましい。
本発明の方法を、先立って行う基礎となるトルエンのア
ミノメチレン化と組み合わせなければならない場合には
、例えばオルト−及びバラ−位の少なくとも1個所に電
子吸引基をもつトルエン、例えば0−ニトロトルエンを
基礎として、前述の非プロトン性極性溶媒又は不活性溶
媒の一つの中で、2−4倍モル過剰のオルト−アミドと
反応させる方法を採用する。そのようなオルト−アミド
は、例えば、tert、−ブチル又はエチル誘導体など
のビス−(ジメチルアミノ)アルコキシ メタン、又は
DMF アセタールなどの酸アミドアセタールである
。最後に挙げた酸アミドアセタールを使用する場合、2
級アミン、例えば上式で示したピロリジンを添加するこ
とにより、反応時間を短縮することができる。形成され
るアルコール及びアミンの大半は、蒸留により除去でき
る。このようにして、基礎となる置換トルエンから出発
して、95%以上の収率が得られる。
ミノメチレン化と組み合わせなければならない場合には
、例えばオルト−及びバラ−位の少なくとも1個所に電
子吸引基をもつトルエン、例えば0−ニトロトルエンを
基礎として、前述の非プロトン性極性溶媒又は不活性溶
媒の一つの中で、2−4倍モル過剰のオルト−アミドと
反応させる方法を採用する。そのようなオルト−アミド
は、例えば、tert、−ブチル又はエチル誘導体など
のビス−(ジメチルアミノ)アルコキシ メタン、又は
DMF アセタールなどの酸アミドアセタールである
。最後に挙げた酸アミドアセタールを使用する場合、2
級アミン、例えば上式で示したピロリジンを添加するこ
とにより、反応時間を短縮することができる。形成され
るアルコール及びアミンの大半は、蒸留により除去でき
る。このようにして、基礎となる置換トルエンから出発
して、95%以上の収率が得られる。
本発明の方法を行うためには、単離した置換β−アミノ
−スチレン又は今述べた、先立って行うアミノメチル化
による粗生成物を使用する。このためにすべての反応成
分(溶媒、Cu化合物及び置換β−アミノ−スチレン)
を最初に導入するか、又は溶媒及びCu化合物のみを最
初に導入し、β−アミノ−スチレンを溶液中に滴下する
。反応混合物は、酸素又は酸素を含む気体を用いてフリ
ットあるいは他の分配装置を通して供給し、温度は上述
の範囲に保つ。
−スチレン又は今述べた、先立って行うアミノメチル化
による粗生成物を使用する。このためにすべての反応成
分(溶媒、Cu化合物及び置換β−アミノ−スチレン)
を最初に導入するか、又は溶媒及びCu化合物のみを最
初に導入し、β−アミノ−スチレンを溶液中に滴下する
。反応混合物は、酸素又は酸素を含む気体を用いてフリ
ットあるいは他の分配装置を通して供給し、温度は上述
の範囲に保つ。
述べた両変法共(置換β−アミノ−スチレンを最初に完
全に導入する、又は反応の途中で導入する)、例えば1
.01−50バールの圧力下で行うことができ、第2法
の場合置換β−アミノ−スチレンはポンプで注入する。
全に導入する、又は反応の途中で導入する)、例えば1
.01−50バールの圧力下で行うことができ、第2法
の場合置換β−アミノ−スチレンはポンプで注入する。
非プロトン性極性溶媒又は上述の溶媒混合液は、反応中
10gの置換β−アミノ−スチレンに対して10100
−l0000.好ましくは100−123 000ml、特に好ましくは10 500m1の溶媒が
存在するように、不活性溶媒を用いて配分する。
10gの置換β−アミノ−スチレンに対して10100
−l0000.好ましくは100−123 000ml、特に好ましくは10 500m1の溶媒が
存在するように、不活性溶媒を用いて配分する。
従って上述の第二の変法において、置換β−アミノ−ス
チレンを量り込む場合、置換β−アミノ−スチレンを反
応の最初に完全に導入する第一の変法の場合より、その
反応速度において少ない溶媒でおこなうことができる。
チレンを量り込む場合、置換β−アミノ−スチレンを反
応の最初に完全に導入する第一の変法の場合より、その
反応速度において少ない溶媒でおこなうことができる。
第二の変法の特別な場合、最初はCu(I)ハライドの
1部だけ加え、予定の量の残りを反応の途中で量り込む
。
1部だけ加え、予定の量の残りを反応の途中で量り込む
。
反応の終了は置換β−アミノ−スチレンの赤色の消滅で
明らかとなるが、その終了後溶媒(混合液)は例えば真
空蒸留により除去し、残留物を3−8N 塩酸水溶液
に加える。ベンズアルデヒド(I)は、淡色固体として
沈澱し、一般に乾燥後すてに95%以上の純度を持つ。
明らかとなるが、その終了後溶媒(混合液)は例えば真
空蒸留により除去し、残留物を3−8N 塩酸水溶液
に加える。ベンズアルデヒド(I)は、淡色固体として
沈澱し、一般に乾燥後すてに95%以上の純度を持つ。
濾液中に1−5%のベンズアルドヒト(I)が存在し、
メチレンクロリドのような適した溶媒を用いて抽出でき
る。
メチレンクロリドのような適した溶媒を用いて抽出でき
る。
収率は、置換β−アミノ−スチレンに対して最高90%
、基礎となるl・ルエンに対して最高88%であり、例
えば0−二l・ロベンズアルドヒドの4 場合、置換β−アミノ−スチレンに対して8〇−91%
、基礎となるトルエンに対して85−89%である。後
処理の前に例えばペンタンを用いて反応混合液を希釈す
ることができ、それによって触媒活性銅化合物の1部を
析出させ、再利用する事ができる。
、基礎となるl・ルエンに対して最高88%であり、例
えば0−二l・ロベンズアルドヒドの4 場合、置換β−アミノ−スチレンに対して8〇−91%
、基礎となるトルエンに対して85−89%である。後
処理の前に例えばペンタンを用いて反応混合液を希釈す
ることができ、それによって触媒活性銅化合物の1部を
析出させ、再利用する事ができる。
形成されたベンズアルデヒドがさらに酸化されると、そ
れぞれの安息香酸を与えることを考えると、本発明にお
ける上述の高純度を伴う高収率は驚くべきことである。
れぞれの安息香酸を与えることを考えると、本発明にお
ける上述の高純度を伴う高収率は驚くべきことである。
衷五男
実施例1
5部mlのDMF中の20.6gのO−ニトロトルエン
及び24gのビス−(ジメチルアミノ)エトキシ メタ
ンを最初に蒸留装置に導入し、混合液を120℃に6時
間加熱してβ−アミノ−2−ニトロスチレンを形成した
。その後短時間真空にしてエタノールを除去した。
及び24gのビス−(ジメチルアミノ)エトキシ メタ
ンを最初に蒸留装置に導入し、混合液を120℃に6時
間加熱してβ−アミノ−2−ニトロスチレンを形成した
。その後短時間真空にしてエタノールを除去した。
150m1のDMF中の2gのCuC1を第2のフラス
コに最初に導入し、65℃にて酸素でエチル5 6 −ションした。15分後、β−アミノ−2−ニトロスチ
レンの粗溶液を3時間30分で滴下した。
コに最初に導入し、65℃にて酸素でエチル5 6 −ションした。15分後、β−アミノ−2−ニトロスチ
レンの粗溶液を3時間30分で滴下した。
滴下の終了後、薄層クロマトグラフィーにより出発物質
はもはや検出されなくなり、混合液を回転蒸発器で濃縮
した。その後それを100m1の5NMCIに導入し、
0−二l・ロベンズアルデヒドがベージュ色の物質とし
て沈澱した。さらに濾液から、メチレンクロリドを用い
た抽出により生成物が単離された。 0−ニトロトルエ
ンから出発して、収率は全体で866%であった。沈澱
した0−ニトロトルエンの純度は乾燥後962%であっ
た。
はもはや検出されなくなり、混合液を回転蒸発器で濃縮
した。その後それを100m1の5NMCIに導入し、
0−二l・ロベンズアルデヒドがベージュ色の物質とし
て沈澱した。さらに濾液から、メチレンクロリドを用い
た抽出により生成物が単離された。 0−ニトロトルエ
ンから出発して、収率は全体で866%であった。沈澱
した0−ニトロトルエンの純度は乾燥後962%であっ
た。
実施例2
実施例1に対応して、アミノメチレン化において0.1
5モルのピロリジンを加えた。DMF中の86.7%の
β−ピロリジノ−及び13.3%のβ−ジメチルアミノ
−2−二トロスチレンの混合物が得られ、実施例1と同
様にして酸化した。
5モルのピロリジンを加えた。DMF中の86.7%の
β−ピロリジノ−及び13.3%のβ−ジメチルアミノ
−2−二トロスチレンの混合物が得られ、実施例1と同
様にして酸化した。
0−二トロトルエンから出発して、収率は85゜1%で
あった。
あった。
実施例3
実施例1と同様にして製造した、β−ジメチルアミノ−
2−二トロスチレンの粗生成物を250m1のDMFで
希釈し、3gのCuC1を加えた。混合物を50℃にて
45分間酸素でエアレーションし、その後溶媒を除去し
た。通常の後処理の後、使用した0−ニトロ−トルエン
に対して888%の0−ニトロベンズアルデヒドを単離
することができた。沈澱生成物中の第2成分の割合は、
わずか0.8%であった。
2−二トロスチレンの粗生成物を250m1のDMFで
希釈し、3gのCuC1を加えた。混合物を50℃にて
45分間酸素でエアレーションし、その後溶媒を除去し
た。通常の後処理の後、使用した0−ニトロ−トルエン
に対して888%の0−ニトロベンズアルデヒドを単離
することができた。沈澱生成物中の第2成分の割合は、
わずか0.8%であった。
実施例4
50ミリモルのβ−モルホリノ−2−二トロスチレン及
び1gのCuC1を最初に120+n]のDMSOに導
入し、60°Cにて90分間酸素でエアレーションした
。濃縮及び通常の後処理の後、0゜41モルのO−ニト
ロベンズアルデヒドを単離した。
び1gのCuC1を最初に120+n]のDMSOに導
入し、60°Cにて90分間酸素でエアレーションした
。濃縮及び通常の後処理の後、0゜41モルのO−ニト
ロベンズアルデヒドを単離した。
実施例5
20gのβ−ジメチルアミノ−2−二トロスチレン、1
gのCuC1及び300m1のDMFを、泡7 8 撹拌器を備えた300m1のオートクレーブに最初に導
入した。オートクレーブを50℃に加熱し、空気で10
バールに加圧し、酸素により20バールの圧力を保持し
た。2時間後実験を止め、後処理の後87.2%の0−
ニトロベンズアルデヒドを得た。
gのCuC1及び300m1のDMFを、泡7 8 撹拌器を備えた300m1のオートクレーブに最初に導
入した。オートクレーブを50℃に加熱し、空気で10
バールに加圧し、酸素により20バールの圧力を保持し
た。2時間後実験を止め、後処理の後87.2%の0−
ニトロベンズアルデヒドを得た。
実施例6
実施例1と同様にして、アミノメチレン化の間に0.1
モルのN、 N’−ジメチル−エチレンジアミンを加え
た。得たスチレン混合物を250m1のDMFにより希
釈して4gのCuC1を加えた後、75℃にて90分間
酸素でエアレーションした。
モルのN、 N’−ジメチル−エチレンジアミンを加え
た。得たスチレン混合物を250m1のDMFにより希
釈して4gのCuC1を加えた後、75℃にて90分間
酸素でエアレーションした。
内部標準を用いたガスクロマトグラフィーによると、6
6.3%の0−ニトロベンズアルデヒドが形成されてい
た。
6.3%の0−ニトロベンズアルデヒドが形成されてい
た。
実施例7
2.6gのβ−ペンシルアミノ−2−ニトロスチレンを
20m1のDMFに溶解し、CuBr O,3gを加え
た後、50℃にて酸素でエアレーションした。2時間後
、薄層クロマトグラフィーにより、出発物質が反応して
0−ニトロベンズアルデヒドが存在することが検出され
た。
20m1のDMFに溶解し、CuBr O,3gを加え
た後、50℃にて酸素でエアレーションした。2時間後
、薄層クロマトグラフィーにより、出発物質が反応して
0−ニトロベンズアルデヒドが存在することが検出され
た。
実施例8
8.6gのβ−ジメチルアミノ−2−シアノスチレンを
100m1のDMFに溶解した。0.25gのCuC1
を加え、混合物を35−40℃にて4時間酸素でエアレ
ーションした。通常の水による後処理の後、O−シアノ
ベンズアルデヒドを生成物として得た。
100m1のDMFに溶解した。0.25gのCuC1
を加え、混合物を35−40℃にて4時間酸素でエアレ
ーションした。通常の水による後処理の後、O−シアノ
ベンズアルデヒドを生成物として得た。
本発明の主たる特徴及び態様は以下のとおりである。
1式
[式中、
R1,R2及びR3は、互いに独立して、ニトロ、シア
ノ、COOR6,5o2−OR’又は5O2R6てあり
、 9 0 R4は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルキル
、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルコキシ、フェニル
、ベンジル、シクロペンチル、シクロへキシル、フッ素
、塩素、臭素又はN (R6,R7)であり、 R5は、水素又はアルデヒド基 −CHoであり、ここ
で R6及びR7は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状C
,−C4−アルキル、ベンジル又はフェニルであり、 さらにここで挙げた環状置換基も1個又は2個のメチル
、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素
により置換されていても良く、m、 n及び0は互い
に独立して、0又は1の値であるが、m +n 十〇の
合計は1又は2でなければならない] で表される、オ
ルト−又はバラ−位の少なくとも1カ所に電子吸引性置
換基を持つベンズアルデヒドの製造法であって、 式 [式中 R’、R2,R3,R’、m、n及び0は、上述の意味
を有し、 R8及びR9は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎮状C
,−C8−アルキル、C5−C7−シクロアルキル、直
鎖又は分枝鎖状C2−C,−アルケニル、直鎖又は分枝
鎖状C2−C8−アルコキシアルキル、直鎖又は分枝鎖
状C3−C,−アルコキシアルケニル、c6 Cl2−
アリール、C7Cl0−アラルキル又はN、 O及びS
から成る群の1個又は2個の複素原子を含む5−8員の
飽和又は不飽和複素環であり さらにここで、 R8及びR9は、それが置換しているN原子と共に5−
8員の飽和又は不飽和、非芳香族性N複素環を形成して
いても良く、これにはさら1 2 にN、 O又はSから成る群より選んだ複素原子がふく
まれていても良く、 R8は、さらに水素で良く、 R9は、さらに 方法。
ノ、COOR6,5o2−OR’又は5O2R6てあり
、 9 0 R4は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルキル
、直鎖又は分枝鎖状C,−C8−アルコキシ、フェニル
、ベンジル、シクロペンチル、シクロへキシル、フッ素
、塩素、臭素又はN (R6,R7)であり、 R5は、水素又はアルデヒド基 −CHoであり、ここ
で R6及びR7は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状C
,−C4−アルキル、ベンジル又はフェニルであり、 さらにここで挙げた環状置換基も1個又は2個のメチル
、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素
により置換されていても良く、m、 n及び0は互い
に独立して、0又は1の値であるが、m +n 十〇の
合計は1又は2でなければならない] で表される、オ
ルト−又はバラ−位の少なくとも1カ所に電子吸引性置
換基を持つベンズアルデヒドの製造法であって、 式 [式中 R’、R2,R3,R’、m、n及び0は、上述の意味
を有し、 R8及びR9は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎮状C
,−C8−アルキル、C5−C7−シクロアルキル、直
鎖又は分枝鎖状C2−C,−アルケニル、直鎖又は分枝
鎖状C2−C8−アルコキシアルキル、直鎖又は分枝鎖
状C3−C,−アルコキシアルケニル、c6 Cl2−
アリール、C7Cl0−アラルキル又はN、 O及びS
から成る群の1個又は2個の複素原子を含む5−8員の
飽和又は不飽和複素環であり さらにここで、 R8及びR9は、それが置換しているN原子と共に5−
8員の飽和又は不飽和、非芳香族性N複素環を形成して
いても良く、これにはさら1 2 にN、 O又はSから成る群より選んだ複素原子がふく
まれていても良く、 R8は、さらに水素で良く、 R9は、さらに 方法。
2、第1項に記載の方法で、 式
(2)
[式中、pは2.3又は4の値であり、RIGは、水素
又は基 である]で表される基でも゛良い]で表される置換β−
アミノ−スチレン、又はR8及び/又はR9の意味の異
なるこのようなβ−アミノ−スチレンのいくつかの混合
物を、非プロトン性、極性溶媒の溶液中、Cu化合物の
存在下で、0−120℃、好ましくは20−100℃、
特に好ましくは3〇−80℃にて酸素と反応させること
を特徴とする[式中、 R8,R’、m、n及び0は、上記の意味を有し、R1
1,R+2及びRI3は、互いに独立してニトロ又はシ
アノであり、 R14は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C4−アルコ
キシ、フッ素、塩素又は臭素である]で表される置換β
−アミノ−スチレンを反応させことを特徴とする方法。
又は基 である]で表される基でも゛良い]で表される置換β−
アミノ−スチレン、又はR8及び/又はR9の意味の異
なるこのようなβ−アミノ−スチレンのいくつかの混合
物を、非プロトン性、極性溶媒の溶液中、Cu化合物の
存在下で、0−120℃、好ましくは20−100℃、
特に好ましくは3〇−80℃にて酸素と反応させること
を特徴とする[式中、 R8,R’、m、n及び0は、上記の意味を有し、R1
1,R+2及びRI3は、互いに独立してニトロ又はシ
アノであり、 R14は、水素、直鎖又は分枝鎖状C,−C4−アルコ
キシ、フッ素、塩素又は臭素である]で表される置換β
−アミノ−スチレンを反応させことを特徴とする方法。
3 第2項に記載の方法で、 式
R11,RI2.R】3.R”、m、n及びOは、上記
の意味を有し、 R18及びR19は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C+ Cs−アルキル、フェニル、ペンシル、シクロ
ヘキシル又はNあるいはOを複素原子として含む5−6
員の飽和複素環であり、ここでさらに R”及びR111は、これらが置換しているN原子と共
に、さらにN及びOから成る群より選んだ複素原子を含
む5−6員のN−複素環を形成していても良い]で表さ
れる、 置換β−アミノ−スチレン反応させることを特徴とする
方法。
の意味を有し、 R18及びR19は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C+ Cs−アルキル、フェニル、ペンシル、シクロ
ヘキシル又はNあるいはOを複素原子として含む5−6
員の飽和複素環であり、ここでさらに R”及びR111は、これらが置換しているN原子と共
に、さらにN及びOから成る群より選んだ複素原子を含
む5−6員のN−複素環を形成していても良い]で表さ
れる、 置換β−アミノ−スチレン反応させることを特徴とする
方法。
4、第3項に記載の方法で、 式
の意味を有し、
R28及びR29は、互いに独立して直鎖又は分枝鎖状
C1−C4−アルキル、ベンジル又はシクロヘキシルで
あり、 ここでさらに R28及びR29は、それらが置換しているN原子と共
にピロリジン環、オキサゾリジン環、ピペリジン環、ピ
ペラジン環又はモルホリン環を形成していても良い]で
表される、 置換β−アミノ−スチレンを反応させることを特徴とす
る方法。
C1−C4−アルキル、ベンジル又はシクロヘキシルで
あり、 ここでさらに R28及びR29は、それらが置換しているN原子と共
にピロリジン環、オキサゾリジン環、ピペリジン環、ピ
ペラジン環又はモルホリン環を形成していても良い]で
表される、 置換β−アミノ−スチレンを反応させることを特徴とす
る方法。
5、第3項に記載の方法で、式
[式中、
R” RI2 R+3.R”、m、n及び0は、上記
[式中、 R”、R”及びR19は、第3項に記載の範囲を持つ]
で表される置換β−アミノ−2−ニトロ−スチレンを反
応させることを特徴とする方法。
[式中、 R”、R”及びR19は、第3項に記載の範囲を持つ]
で表される置換β−アミノ−2−ニトロ−スチレンを反
応させることを特徴とする方法。
6、第1項に記載の方法で、置換β−アミノ−5
6
スチレンを基礎となる置換トルエンのアミノメチレン化
からの粗生成物の形態で使用することを特徴とする方法
。
からの粗生成物の形態で使用することを特徴とする方法
。
7、第1項に記載の方法で、非プロトン性極性溶媒とし
て、置換酸アミド、ケトン又はスルホキシド、好ましく
は置換酸アミド、特に好ましくはジメチルホルムアミド
を使用し、これを溶媒全量に対して5−50重量%まで
の不活性溶媒で置換しても良いことを特徴とする方法。
て、置換酸アミド、ケトン又はスルホキシド、好ましく
は置換酸アミド、特に好ましくはジメチルホルムアミド
を使用し、これを溶媒全量に対して5−50重量%まで
の不活性溶媒で置換しても良いことを特徴とする方法。
8、第7項に記載の方法で、非プロトン性極性溶媒とし
て、先立って行うアミノメチレン化からの溶媒をこの場
合に得られる粗反応混合物の形態で使用することを特徴
とする方法。
て、先立って行うアミノメチレン化からの溶媒をこの場
合に得られる粗反応混合物の形態で使用することを特徴
とする方法。
9、第1項に記載の方法で、無水銅塩、好ましくはCu
(I)塩、特に好ましくはCu (I )ハライドをC
o化合物として使用することを特徴とする方法。
(I)塩、特に好ましくはCu (I )ハライドをC
o化合物として使用することを特徴とする方法。
10 第1項に記載の方法で、Cu化合物を置換β−ア
ミノ−スチレンに対して1−200モル%、好ましくは
5−40モル%、特に好ましくは10−20モル%の量
で使用することを特徴とする方法。
ミノ−スチレンに対して1−200モル%、好ましくは
5−40モル%、特に好ましくは10−20モル%の量
で使用することを特徴とする方法。
7
8
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 R^1、R^2及びR^3は、互いに独立して、ニトロ
、シアノ、COOR^6、SO_2−OR^6又はSO
_2−R^6であり、 R^4は、水素、直鎖又は分枝鎖状C_1−C_8−ア
ルキル、直鎖又は分枝鎖状C_1−C_8−アルコキシ
、フェニル、ベンジル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル、フッ素、塩素、臭素又は −N(R^6、R^7)であり、 R^5は、水素又はアルデヒド基−CHOであり、R^
6及びR^7は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖状C
_1−C_4−アルキル、ベンジル又はフェニルであり
、 さらにここで挙げた環状置換基も1個又は2個のメチル
、エチル、メトキシ、エトキシ、フッ素、塩素又は臭素
により置換されていても良く、m、n及びoは互いに独
立して、0又は1の値であるが、m+n+oの合計は1
又は2でなければならない]で表される、オルト−又は
パラ−位の少なくとも1ヵ所に電子吸引性置換基を持つ
ベンズアルデヒドの製造法であって、 式 ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、 R^1、R^2、R^3、R^4、m、n及びoは、上
述の意味を有し、 R^8及びR^9は、互いに独立して、直鎖又は分枝鎖
状C_1−C_8−アルキル、C_5−C_7−シクロ
アルキル、直鎖又は分枝鎖状C_2−C_8−アルケニ
ル、直鎖又は分枝鎖状C_2−C_8−アルコキシアル
キル、直鎖又は分枝鎖状C_3−C_8−アルコキシア
ルケニル、C_6−C_1_2−アリール、C_7−C
_1_0−アラルキル又はN、O及びSから成る群の1
個又は2個の複素原子を含む5−8員の飽和又は不飽和
複素環であり さらにここで、 R^8及びR^9は、それが置換しているN原子と共に
5−8員の飽和又は不飽和、非芳香族性N−複素環を形
成していても良く、これにはさらにN、O又はSから成
る群より選んだ複素原子がふくまれていても良く、 R^8は、さらに水素で良く、 R^9は、さらに ▲数式、化学式、表等があります▼ [式中、pは2、3又は4の値であり、 R^1^0は、水素又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼ である]で表される基でも良い]で表される置換β−ア
ミノ−スチレン、又はR^8及び/又はR^9の意味の
異なるこのようなβ−アミノ−スチレンのいくつかの混
合物を、非プロトン性極性溶媒の溶液中、Cu化合物の
存在下で、0−120℃、好ましくは20−100℃、
特に好ましくは30−80℃にて酸素と反応させること
を特徴とする方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE3939759.9 | 1989-12-01 | ||
DE3939759A DE3939759A1 (de) | 1989-12-01 | 1989-12-01 | Verfahren zur herstellung von benzaldehyden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03190848A true JPH03190848A (ja) | 1991-08-20 |
Family
ID=6394591
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2318140A Pending JPH03190848A (ja) | 1989-12-01 | 1990-11-26 | ベンズアルデヒドの製造法 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5082976A (ja) |
EP (1) | EP0430001B1 (ja) |
JP (1) | JPH03190848A (ja) |
AT (1) | ATE98952T1 (ja) |
DE (2) | DE3939759A1 (ja) |
HU (1) | HU207982B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010500294A (ja) * | 2006-08-11 | 2010-01-07 | ジボダン エス エー | 2,2,3−トリメチルシクロペンタ−3−エンカルバルデヒド(カンフォライティックアルデヒド)の製造方法 |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4216590A1 (de) * | 1992-05-20 | 1993-11-25 | Basf Ag | Chlorethylsulfonylbenzaldehyde |
DE4408007A1 (de) * | 1994-03-10 | 1995-09-14 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von 2-Nitrobenzaldehyden |
US5600035A (en) * | 1994-07-13 | 1997-02-04 | Ppg Industries, Inc. | Positive photoactive compounds based on 2,6-dinitro benzyl groups and 2,5-dinitro benzyl groups |
US5449834A (en) * | 1994-07-13 | 1995-09-12 | Ppg Industries, Inc. | Method of synthesizing 2,6-dinitro benzyl compounds |
DE19502805C2 (de) * | 1995-01-30 | 2000-05-11 | Hoechst Ag | Verfahren zur Herstellung von Halogenbenzaldehyden |
CN104418753B (zh) * | 2013-08-21 | 2016-04-20 | 南京理工大学 | 绿色催化合成硝基苯甲醛的方法 |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3641157A (en) * | 1968-10-23 | 1972-02-08 | Lummus Co | Hydrocarbon oxidation |
US3989674A (en) * | 1969-03-26 | 1976-11-02 | Exxon Research And Engineering Company | Novel gold-copper catalysts for the partial oxidation of olefins |
US3661942A (en) * | 1969-09-08 | 1972-05-09 | Upjohn Co | Novel chemical process |
US3931225A (en) * | 1974-01-21 | 1976-01-06 | Hoffmann-La Roche Inc. | Process for preparing o-nitrobenzylketones |
FR2435455A1 (fr) * | 1978-09-05 | 1980-04-04 | Kuraray Co | Procede de preparation d'un compose carbonyle |
-
1989
- 1989-12-01 DE DE3939759A patent/DE3939759A1/de not_active Withdrawn
-
1990
- 1990-10-25 US US07/603,110 patent/US5082976A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-17 DE DE90121998T patent/DE59003965D1/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-17 AT AT90121998T patent/ATE98952T1/de not_active IP Right Cessation
- 1990-11-17 EP EP90121998A patent/EP0430001B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-26 JP JP2318140A patent/JPH03190848A/ja active Pending
- 1990-11-30 HU HU908020A patent/HU207982B/hu not_active IP Right Cessation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010500294A (ja) * | 2006-08-11 | 2010-01-07 | ジボダン エス エー | 2,2,3−トリメチルシクロペンタ−3−エンカルバルデヒド(カンフォライティックアルデヒド)の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0430001B1 (de) | 1993-12-22 |
HU207982B (en) | 1993-07-28 |
HU908020D0 (en) | 1991-06-28 |
US5082976A (en) | 1992-01-21 |
ATE98952T1 (de) | 1994-01-15 |
DE3939759A1 (de) | 1991-06-06 |
DE59003965D1 (de) | 1994-02-03 |
HUT58268A (en) | 1992-02-28 |
EP0430001A1 (de) | 1991-06-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0487408A1 (fr) | Dérivés d'oxazolopyridines leurs procédés de préparation et les compositions pharmaceutiques qui les contiennent | |
BRPI0607424B1 (pt) | Processo para preparar bifenilas substituídas | |
JP6771475B2 (ja) | 3−クロロ−2−ビニルフェニルスルホネート類の製造方法 | |
JPH03190848A (ja) | ベンズアルデヒドの製造法 | |
JPS6042337A (ja) | モノメチル−置換されたメチレン化合物類の製造方法 | |
IE44213B1 (en) | Thiazolidine derivatives and process for their manufacture | |
HU228517B1 (hu) | Eljárás izokarbamidok elõállítására | |
US4503276A (en) | Process for separating nitration isomers of substituted benzene compounds | |
Coe et al. | Preparation and reactions of 2, 3, 4, 6-tetrafluoropyridine and its derivatives | |
US3557093A (en) | 1-formyl-3-nitro-azacycloalkan-2-ones and process for their production | |
JP4280631B2 (ja) | ピリジンスルホンアミド誘導体、その生産方法、およびその使用 | |
GB1563634A (en) | Acyloxy-n,n' diacylmalonamides and method of preparing them | |
Buján et al. | Amines as leaving groups in nucleophilic aromatic substitution reactions. Part 5. 1 Substitution vs. N-oxide formation in the reaction of Nn-butyl-2, 6-dinitroaniline with hydroxide ions | |
JP2889838B2 (ja) | ハロゲン化エーテルの製造方法 | |
JPH0368569A (ja) | 置換エテン類の製造法 | |
JPS5832870A (ja) | 新規なシドノンイミン誘導体及びその製法 | |
JP2659587B2 (ja) | 4―アジリジニルピリミジン誘導体及びその製造法 | |
JP4251508B2 (ja) | 酸塩化物化合物の製造方法 | |
TAYLOR et al. | Some Further Reactions of α-Cyanobenzyl Benzenesulfonate1 | |
KR790001195B1 (ko) | 치환된 이미노디메틸렌-디-3급-알킬페논의 제조방법 | |
CZ292519B6 (cs) | Způsob výroby aromatických nitrilů | |
US3499928A (en) | Preparation of ynamines | |
KR100424205B1 (ko) | 방향족 요오드 화합물의 제조방법 | |
JPS6097920A (ja) | 置換1‐フエニルインダンの製造方法 | |
JP3159405B2 (ja) | チエニルエーテル誘導体の製造方法 |