JPH0317782A - 図形処理方法 - Google Patents
図形処理方法Info
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- JPH0317782A JPH0317782A JP1152904A JP15290489A JPH0317782A JP H0317782 A JPH0317782 A JP H0317782A JP 1152904 A JP1152904 A JP 1152904A JP 15290489 A JP15290489 A JP 15290489A JP H0317782 A JPH0317782 A JP H0317782A
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Landscapes
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Processing Or Creating Images (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
［概要〕
例えば半導体製造時に使用されるマスクの図形処理を行
う露光データ作戒処理装置における図形処理方法に関し
、 効率よく、かつ、高速に各種図形処理を行うことができ
る図形処理方次を提供することを目的とし、 図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移動さ
せ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の外形
線分を線分データとし、その線分データに基づいて図形
集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の図形
処理を行うようにしたワークリスト法による図形処理方
法において、前記図形集合に対して一方向に平行移動さ
せる走査線を基準の走査方向とし、その基準の走査方向
に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設定し
、その各走査方向において走査線をそれぞれ平行移動さ
せ、各走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交
点と交差する走査線の本数をそれぞれ求めた後、各走査
方向の内で最も走査線の本数が少ない走査方向を割り出
し、その割り出した走査方向が前記基準の走査方向でな
いとき、その割り出された走査方向と基準走査方向との
相対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して回転
させ、その回転した図形集合に対して基準の走査線を平
行移動させて図形処理するようにした。 又、図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移
動させ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の
外形線分を線分データとし、その線分データに基づいて
図形集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の
図形処理を行うようにしたワークリスト法による図形処
理方法において、前記図形集合に対して一方向に平行移
動させる走査線を基準の走査方向とし、その基準の走査
方向に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設
定し、その各走査方向において走査線をそれぞれ平行移
動させ、各走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるい
は交点と交差する走査線の本数及び線分データの数を求
め、次に各走査方向毎にその求めた走査線の本数及び線
分データの数から図形処理時間をそれぞれ算出した後、
各走査方向の内で最も図形処理時間が短い走査方向を割
り出し、その割り出した走査方向が基準の走査方向でな
いとき、その割り出された走査方向と基準走査方向との
相対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して回転
させ、その回転した図形集合に対して基準の走査線を平
行移動させて図形処理するようにした．
う露光データ作戒処理装置における図形処理方法に関し
、 効率よく、かつ、高速に各種図形処理を行うことができ
る図形処理方次を提供することを目的とし、 図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移動さ
せ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の外形
線分を線分データとし、その線分データに基づいて図形
集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の図形
処理を行うようにしたワークリスト法による図形処理方
法において、前記図形集合に対して一方向に平行移動さ
せる走査線を基準の走査方向とし、その基準の走査方向
に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設定し
、その各走査方向において走査線をそれぞれ平行移動さ
せ、各走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交
点と交差する走査線の本数をそれぞれ求めた後、各走査
方向の内で最も走査線の本数が少ない走査方向を割り出
し、その割り出した走査方向が前記基準の走査方向でな
いとき、その割り出された走査方向と基準走査方向との
相対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して回転
させ、その回転した図形集合に対して基準の走査線を平
行移動させて図形処理するようにした。 又、図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移
動させ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の
外形線分を線分データとし、その線分データに基づいて
図形集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の
図形処理を行うようにしたワークリスト法による図形処
理方法において、前記図形集合に対して一方向に平行移
動させる走査線を基準の走査方向とし、その基準の走査
方向に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設
定し、その各走査方向において走査線をそれぞれ平行移
動させ、各走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるい
は交点と交差する走査線の本数及び線分データの数を求
め、次に各走査方向毎にその求めた走査線の本数及び線
分データの数から図形処理時間をそれぞれ算出した後、
各走査方向の内で最も図形処理時間が短い走査方向を割
り出し、その割り出した走査方向が基準の走査方向でな
いとき、その割り出された走査方向と基準走査方向との
相対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して回転
させ、その回転した図形集合に対して基準の走査線を平
行移動させて図形処理するようにした．
本発明は、例えば半導体製造時に使用されるマスクの図
形処理を行う露光データ作或処理装置における図形処理
方法に関するものである。 近年の半導体装置の高密度化に伴い、例えば、露光デー
タ作成処理装置において半導体装置を形戒する図形集合
に対する図形論理演算処理、図形拡大縮小処理、図形分
割処理等の高速化が必要とされている． ［従来の技術］ 従来、例えばマスク等を製造する際のパターンジェネレ
ー夕、電子ビーム描画装置等の駆動データ（露光データ
）はマスク上に表現される図形（パターン）のデータ（
図形データ）に基づいて作戒される．ところが、マスク
上に表現される図形の数は無数に存在し図形データも膨
大な量となる．その結果、その膨大なデータを使用して
露光データ等を作戒することは非常に時間を要する．そ
こで、前処理として、この膨大な量の図形デー夕の表現
方法をスリット法やワークリスト法を利用してデータ量
を少なくし処理時間の短縮化、即ち図形論理演算処理、
図形拡大縮小処理、図形分割処理等の高速化を図ってい
る． 前記ワークリスト法は第３図に示すように、各図形２を
含む図形集合ｌに対してＹ方向に走る走査線３を左から
右（Ｘ方向）に移動させる．そして、その移動の過程で
各図形２の水平の線分２ａの端点２ｂと走査線３が交差
した時、その交差した端点２ｂのデータを線分２ａの線
分データとして記憶手段に順次記憶し、即ち図形２の線
分２ａの端点２ｂのＸ座標戒分に基づいて各図形２を整
列させることにより、データ量を少なくし処理時間の短
縮化を図っている． そして、このワークリスト法によるデータ形式に基づく
各種図形処理の処理時間Ｔは、走査線と交差する線分数
をｎ（Ｓｉ） 、走査線総数をＮＳとすると、一般に以
下の式■で表わされる．ＮＳ Ｔ≦ Σ０ （ ｎ（Ｓｉ） ｌｏｇ ｎ（Ｓｉ
）） ・・・ ■ｉ＝１ ［発明が解決しようとする課Ｈ］ しかしながら、第４図に示すように前記各図形２の上方
に複数の微小図形４が追加された図形集合１の場合（例
えば第５図に示すゲートアレイよりなる論理セル領域６
と多数の微小図形から形戒されるメモリ領域７からなる
半導体装置のマスクパターンのような場合）、従来通り
の方法で行えば、各端点上を交差する走査線３の数は各
微小図形４の水平の線分の端点での走査線３の本数分だ
け増加し、その総本数は急激に増加するとともに、線分
データ数も急増する．従って、式■から明らかなように
処理時間Ｔが増大することになり、以後の図形柚理演算
処理、図形拡大縮小処理、図形分割処理等の高速化を図
る上でネソクになっていた． 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
って、その目的は効率よく、かつ、高速に各種図形処理
を行うことができる図形処理方法を提供することにある
． ［課題を解決するための手段】 上記目的を達成するために、第１の発明は、多数の図形
から構成される図形集合に対して一方向に平行移動させ
る基準となる走査線の走査方向を設定し、この基準走査
方向に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設
定する．そして、その各走査方向において走査線をそれ
ぞれ平行移動させて、各走査方向毎に各図形の外形線分
の端点あるいは交点と交差する走査線の本数をそれぞれ
求める． 次に、各走査方向毎に求めた交差する走査線の本数の内
で最も本数が少ない走査方向を割り出す。 そして、その割り出した走査方向が前記基準となる走査
方向でない場合には、その割り出された走査方向と基準
走査方向との相対角度を求める。続いて、その求めた相
対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して反対方
向に回転させ、その回転した図形集合に対して基準の走
査線を前記一方向に平行移動させて以後の図形処理を実
行する。 同じく第２の発明は、多数の図形から構戒される図形集
合に対して一方向に平行移動させる基準となる走査線の
走査方向を設定し、この基準走査方向に対して向きの異
なる走査方向を少なくとも１つ設定する．そして、その
各走査方向において走査線をそれぞれ平行移動させ、各
走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交点と交
差する走査線の本数を求めるとともに、線分データの数
を求める． 次に、各走査方向毎にその求めた走査線の本数及び線分
データの数から図形処理時間をそれぞれ算出する．Ｖｔ
いて、各走査方向毎に求めた図形処理時間の内で最も図
形処理時間が短い走査方向を割り出す。そして、その割
り出した走査方向が前記基準となる走査方向でないとき
、その割り出された走査方向と基準走査方向との相対角
度を求める．続いて、その求めた相対角度だけ前記図形
集合を基準走査方向に対して反対方向に回転させ、その
回転した図形集合に対して基準の走査線を前記一方向に
平行移動させて以後の図形処理を実行する． ［作用】 従って、第１の発明において、図形集合の各図形に対し
て求められた外形線分の端点あるいは交点と交差する走
査線の本数が最も少ない場合には、その走査線を平行移
動させて求められる線分データは一般的に少ない．その
結果、この線分データを使用しての以後の図形処理の処
理時間は短くなる。 第２の発明において、処理時間は交差する走査線の数と
線分データ数の関数で表わされ、その交差する走査線と
線分データ数を考慮すれば最も短い処理時間となる・走
査線による線分データが求められる。その結果、交差す
る走査線の数が少なくても線分データ数が多く実際には
処理時間が長くなる走査線に基づく線分データを選択し
てしまったり、交差する走査線が多くても線分データが
少なく実際には処理時間が最も短くなる走査線に基づく
線分データを選択しなかったりすることはなくなる。 ［実施例］ 以下、本発明の図形処理方法を具体化したー実施例を図
面に従って説明する． 第１図は本発明を具体化した露光データ作戊処理装置が
実行する動作を説明するためのフローチャート、第２図
（ａ）〜（ｆ）は線分データの作威を説明するための概
念図である． 第１図に示す露光データ作戒処理装置１０は例えば第２
図（ａ）に示す半導体装置製造のための多数の図形１２
から構成される図形集合１１の図形データを入力し、同
図形データを線分データに表現方法を換えて同線分デー
タに基づいて図形処理して露光データを作戒する．まず
、露光データ作成処理装置１０は第２図（ｂ）に示すよ
うに図形集合１１に対してＹ方向に走る基準となる走査
線１３を左から右（Ｘ方向）に平行移動させる。 この移動の過程で各図形１２の水平（Ｘ方向）の線分１
２ａの端点１２ｂと交差する走査線１３の本数を求める
．この時、同時に各端点１２ｂに基づく線分データ及び
その総数を求める．次に、第２図（ｃ）に示すように図
形集合１１に対して前記基準の走査線１３と９０度右に
向いた向きの異なるＸ方向に走る基準となる走査線ｌ４
を上から下（Ｙ方向）に平行移動させる。そして、前記
と同様にこの移動の過程で各図形１２の垂直（Ｙ方向）
の線分１５ａの端点１５ｂと交差する走査線１４の本数
を求める。この時、同様に各端点１５ｂに基づく線分デ
ータ及びその総数を求める． 露光データ作戒処理装置１０はこの向き異なる２つの走
査線１３．１４にて求められたそれぞれの線分１２ａ．
１５ａの端点１２ｂ，１５ｂと交差する走査線１３．１
４の本数及び線分データ数を使用して評価関数、即ち、
前記式■に示す処理時間Ｔを算出する．そして、その処
理時間Ｔの大小を比較する．この場合、本数及び線分デ
ータ数が少ない走査線１４に基づく処理時間Ｔのほうが
短くなる．ｎ光データ作戒処理装置１０は走査線１４が
基準の走査線１３に対して９０度右に向いた走査線であ
ることから、前記図形集合１１の図形データを左に９０
度回転する座標変換した図形データ、即ち、第２図（ｄ
）に示す図形集合（以下、回転処理をした図形集合とい
う）１１にする。 そして、第２図（ｄ）に示す図形集合に対してＹ方向に
走る基準となる走査線１３を左から右（Ｘ方向）に平行
移動させる．この移動の過程で走査線ｌ３と交差する各
図形１２の水平（Ｘ方向）の線分１２ａ（線分１５ａに
相当）の端点１２ｂ（端点１５ｂに相当）のデータを線
分データとして記憶手段に順次記憶する． そして、この線分データに基づいて即ち第２図（ｅ）に
示す図形集合１１に対する図形論理演算、図形拡大縮小
又は図形分割等の公知の図形処理を実行する．上記図形
処理が完了すると、この図形処理の結果が回転処理した
図形集合１１に対する線分データに基づいて得たか否か
を判断する，この場合、回転処理した図形集合に基づい
て得たものであることから、その図形処理の処理結果を
第２図（ｆ）に示すように回転処理前の図形集合１１に
基づく処理結果に座標変換する．そして、この図形処理
した図形集合１１のデータを露光データに変換し、その
露光データを記録媒体に記録する。 なお、前記処理時間Ｔの大小を比較した時、基準となる
走査線ｌ３に基づく処理時間Ｔのほうが短い場合には、
図形集合１１を回転処理することなく、基準となる走査
線１３に基づいて得られる線分データを使用して以後の
各種の図形処理を行う．この場合、図形処理後の処理結
果については回転処理に基づく座標変換をすることなく
、直ちに露光データに変換することになる． このように、本実施例では予め向き異なる２つの走査線
１３．１４にてそれぞれの線分１２ａ．１５ａの端点１
２ｂ．１５ｂと交差する走査線１３．１４の本数及び線
分データ数を求め、これら本数及び線分データ数に基づ
いて走査線１３，１４毎に処理時間Ｔを算出する。そし
て、その処理時間Ｔの短い走査線に基づく図形集合を選
択し、基準の走査線１３に基づく処理時間が短い場合に
は従来の通りの線分データを作成し、一方、走査線１４
に基づく処理時間が短い場合には図形集合ｌ１を回転処
理し基準となる走査線に対して得られる線分データの数
及び端点および交点と交差する走査線の本数を減らし、
処理時間Ｔが短くなるように図形集合１１を回転処理す
るようにした．その結果、図形集合１１に対する各種図
形処理をする際、常に短い処理時間Ｔで処理することが
でき、効率良く、かつ、各種図形処理の高速化を図るこ
とができる． なお、前記実施例では処理時間Ｔの大小を比較して行っ
たが、これを交差する走査線の本数の大小のみを比較し
て少ないほうを選択するようにして実施してもよい．こ
れは、一般に本数の少ない場合に処理時間は短いと判断
して行うもので、前記実施例に比べて正確、確実度は落
ちるものの、処理が非常に簡単となる． 又、本発明は前記基準となる走査線１３に対する走査線
の向きは９０度に限定されるものではなく、種々の角度
に設定してもよい．例えば、水平軸（Ｘ方向）に対して
４５度の傾斜した線分の図形１２が多い図形集合１１の
場合には、基準となる走査線ｌ３に対する相対角度が４
５度の走査線が有効となる． さらに、本発明は前記基準となる走査線１３に対する向
きの異なる走査線の数は１つでなくてもよく、複数設定
し、その中から最も処理時間Ｔが短くなるものを選択す
るようにしてもよい．［発明の効果１ 以上詳述したように、本発明によれば効率よく、かつ、
高速に各種図形処理を行うことができる優れた効果があ
る。 第４図は同じく従来の図形処理方法を示す説明図、 第５図は論理セル領域とメモリ領域を配置した半導体装
置のマスクパターンを示す図である。 図において、 １１は図形集合、 １２は図形、 １２ａ．１５ａは線分、 １２ｂ，１５ｂは端点、 １３．１４は走査線である。
形処理を行う露光データ作或処理装置における図形処理
方法に関するものである。 近年の半導体装置の高密度化に伴い、例えば、露光デー
タ作成処理装置において半導体装置を形戒する図形集合
に対する図形論理演算処理、図形拡大縮小処理、図形分
割処理等の高速化が必要とされている． ［従来の技術］ 従来、例えばマスク等を製造する際のパターンジェネレ
ー夕、電子ビーム描画装置等の駆動データ（露光データ
）はマスク上に表現される図形（パターン）のデータ（
図形データ）に基づいて作戒される．ところが、マスク
上に表現される図形の数は無数に存在し図形データも膨
大な量となる．その結果、その膨大なデータを使用して
露光データ等を作戒することは非常に時間を要する．そ
こで、前処理として、この膨大な量の図形デー夕の表現
方法をスリット法やワークリスト法を利用してデータ量
を少なくし処理時間の短縮化、即ち図形論理演算処理、
図形拡大縮小処理、図形分割処理等の高速化を図ってい
る． 前記ワークリスト法は第３図に示すように、各図形２を
含む図形集合ｌに対してＹ方向に走る走査線３を左から
右（Ｘ方向）に移動させる．そして、その移動の過程で
各図形２の水平の線分２ａの端点２ｂと走査線３が交差
した時、その交差した端点２ｂのデータを線分２ａの線
分データとして記憶手段に順次記憶し、即ち図形２の線
分２ａの端点２ｂのＸ座標戒分に基づいて各図形２を整
列させることにより、データ量を少なくし処理時間の短
縮化を図っている． そして、このワークリスト法によるデータ形式に基づく
各種図形処理の処理時間Ｔは、走査線と交差する線分数
をｎ（Ｓｉ） 、走査線総数をＮＳとすると、一般に以
下の式■で表わされる．ＮＳ Ｔ≦ Σ０ （ ｎ（Ｓｉ） ｌｏｇ ｎ（Ｓｉ
）） ・・・ ■ｉ＝１ ［発明が解決しようとする課Ｈ］ しかしながら、第４図に示すように前記各図形２の上方
に複数の微小図形４が追加された図形集合１の場合（例
えば第５図に示すゲートアレイよりなる論理セル領域６
と多数の微小図形から形戒されるメモリ領域７からなる
半導体装置のマスクパターンのような場合）、従来通り
の方法で行えば、各端点上を交差する走査線３の数は各
微小図形４の水平の線分の端点での走査線３の本数分だ
け増加し、その総本数は急激に増加するとともに、線分
データ数も急増する．従って、式■から明らかなように
処理時間Ｔが増大することになり、以後の図形柚理演算
処理、図形拡大縮小処理、図形分割処理等の高速化を図
る上でネソクになっていた． 本発明は上記問題点を解決するためになされたものであ
って、その目的は効率よく、かつ、高速に各種図形処理
を行うことができる図形処理方法を提供することにある
． ［課題を解決するための手段】 上記目的を達成するために、第１の発明は、多数の図形
から構成される図形集合に対して一方向に平行移動させ
る基準となる走査線の走査方向を設定し、この基準走査
方向に対して向きの異なる走査方向を少なくとも１つ設
定する．そして、その各走査方向において走査線をそれ
ぞれ平行移動させて、各走査方向毎に各図形の外形線分
の端点あるいは交点と交差する走査線の本数をそれぞれ
求める． 次に、各走査方向毎に求めた交差する走査線の本数の内
で最も本数が少ない走査方向を割り出す。 そして、その割り出した走査方向が前記基準となる走査
方向でない場合には、その割り出された走査方向と基準
走査方向との相対角度を求める。続いて、その求めた相
対角度だけ前記図形集合を基準走査方向に対して反対方
向に回転させ、その回転した図形集合に対して基準の走
査線を前記一方向に平行移動させて以後の図形処理を実
行する。 同じく第２の発明は、多数の図形から構戒される図形集
合に対して一方向に平行移動させる基準となる走査線の
走査方向を設定し、この基準走査方向に対して向きの異
なる走査方向を少なくとも１つ設定する．そして、その
各走査方向において走査線をそれぞれ平行移動させ、各
走査方向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交点と交
差する走査線の本数を求めるとともに、線分データの数
を求める． 次に、各走査方向毎にその求めた走査線の本数及び線分
データの数から図形処理時間をそれぞれ算出する．Ｖｔ
いて、各走査方向毎に求めた図形処理時間の内で最も図
形処理時間が短い走査方向を割り出す。そして、その割
り出した走査方向が前記基準となる走査方向でないとき
、その割り出された走査方向と基準走査方向との相対角
度を求める．続いて、その求めた相対角度だけ前記図形
集合を基準走査方向に対して反対方向に回転させ、その
回転した図形集合に対して基準の走査線を前記一方向に
平行移動させて以後の図形処理を実行する． ［作用】 従って、第１の発明において、図形集合の各図形に対し
て求められた外形線分の端点あるいは交点と交差する走
査線の本数が最も少ない場合には、その走査線を平行移
動させて求められる線分データは一般的に少ない．その
結果、この線分データを使用しての以後の図形処理の処
理時間は短くなる。 第２の発明において、処理時間は交差する走査線の数と
線分データ数の関数で表わされ、その交差する走査線と
線分データ数を考慮すれば最も短い処理時間となる・走
査線による線分データが求められる。その結果、交差す
る走査線の数が少なくても線分データ数が多く実際には
処理時間が長くなる走査線に基づく線分データを選択し
てしまったり、交差する走査線が多くても線分データが
少なく実際には処理時間が最も短くなる走査線に基づく
線分データを選択しなかったりすることはなくなる。 ［実施例］ 以下、本発明の図形処理方法を具体化したー実施例を図
面に従って説明する． 第１図は本発明を具体化した露光データ作戊処理装置が
実行する動作を説明するためのフローチャート、第２図
（ａ）〜（ｆ）は線分データの作威を説明するための概
念図である． 第１図に示す露光データ作戒処理装置１０は例えば第２
図（ａ）に示す半導体装置製造のための多数の図形１２
から構成される図形集合１１の図形データを入力し、同
図形データを線分データに表現方法を換えて同線分デー
タに基づいて図形処理して露光データを作戒する．まず
、露光データ作成処理装置１０は第２図（ｂ）に示すよ
うに図形集合１１に対してＹ方向に走る基準となる走査
線１３を左から右（Ｘ方向）に平行移動させる。 この移動の過程で各図形１２の水平（Ｘ方向）の線分１
２ａの端点１２ｂと交差する走査線１３の本数を求める
．この時、同時に各端点１２ｂに基づく線分データ及び
その総数を求める．次に、第２図（ｃ）に示すように図
形集合１１に対して前記基準の走査線１３と９０度右に
向いた向きの異なるＸ方向に走る基準となる走査線ｌ４
を上から下（Ｙ方向）に平行移動させる。そして、前記
と同様にこの移動の過程で各図形１２の垂直（Ｙ方向）
の線分１５ａの端点１５ｂと交差する走査線１４の本数
を求める。この時、同様に各端点１５ｂに基づく線分デ
ータ及びその総数を求める． 露光データ作戒処理装置１０はこの向き異なる２つの走
査線１３．１４にて求められたそれぞれの線分１２ａ．
１５ａの端点１２ｂ，１５ｂと交差する走査線１３．１
４の本数及び線分データ数を使用して評価関数、即ち、
前記式■に示す処理時間Ｔを算出する．そして、その処
理時間Ｔの大小を比較する．この場合、本数及び線分デ
ータ数が少ない走査線１４に基づく処理時間Ｔのほうが
短くなる．ｎ光データ作戒処理装置１０は走査線１４が
基準の走査線１３に対して９０度右に向いた走査線であ
ることから、前記図形集合１１の図形データを左に９０
度回転する座標変換した図形データ、即ち、第２図（ｄ
）に示す図形集合（以下、回転処理をした図形集合とい
う）１１にする。 そして、第２図（ｄ）に示す図形集合に対してＹ方向に
走る基準となる走査線１３を左から右（Ｘ方向）に平行
移動させる．この移動の過程で走査線ｌ３と交差する各
図形１２の水平（Ｘ方向）の線分１２ａ（線分１５ａに
相当）の端点１２ｂ（端点１５ｂに相当）のデータを線
分データとして記憶手段に順次記憶する． そして、この線分データに基づいて即ち第２図（ｅ）に
示す図形集合１１に対する図形論理演算、図形拡大縮小
又は図形分割等の公知の図形処理を実行する．上記図形
処理が完了すると、この図形処理の結果が回転処理した
図形集合１１に対する線分データに基づいて得たか否か
を判断する，この場合、回転処理した図形集合に基づい
て得たものであることから、その図形処理の処理結果を
第２図（ｆ）に示すように回転処理前の図形集合１１に
基づく処理結果に座標変換する．そして、この図形処理
した図形集合１１のデータを露光データに変換し、その
露光データを記録媒体に記録する。 なお、前記処理時間Ｔの大小を比較した時、基準となる
走査線ｌ３に基づく処理時間Ｔのほうが短い場合には、
図形集合１１を回転処理することなく、基準となる走査
線１３に基づいて得られる線分データを使用して以後の
各種の図形処理を行う．この場合、図形処理後の処理結
果については回転処理に基づく座標変換をすることなく
、直ちに露光データに変換することになる． このように、本実施例では予め向き異なる２つの走査線
１３．１４にてそれぞれの線分１２ａ．１５ａの端点１
２ｂ．１５ｂと交差する走査線１３．１４の本数及び線
分データ数を求め、これら本数及び線分データ数に基づ
いて走査線１３，１４毎に処理時間Ｔを算出する。そし
て、その処理時間Ｔの短い走査線に基づく図形集合を選
択し、基準の走査線１３に基づく処理時間が短い場合に
は従来の通りの線分データを作成し、一方、走査線１４
に基づく処理時間が短い場合には図形集合ｌ１を回転処
理し基準となる走査線に対して得られる線分データの数
及び端点および交点と交差する走査線の本数を減らし、
処理時間Ｔが短くなるように図形集合１１を回転処理す
るようにした．その結果、図形集合１１に対する各種図
形処理をする際、常に短い処理時間Ｔで処理することが
でき、効率良く、かつ、各種図形処理の高速化を図るこ
とができる． なお、前記実施例では処理時間Ｔの大小を比較して行っ
たが、これを交差する走査線の本数の大小のみを比較し
て少ないほうを選択するようにして実施してもよい．こ
れは、一般に本数の少ない場合に処理時間は短いと判断
して行うもので、前記実施例に比べて正確、確実度は落
ちるものの、処理が非常に簡単となる． 又、本発明は前記基準となる走査線１３に対する走査線
の向きは９０度に限定されるものではなく、種々の角度
に設定してもよい．例えば、水平軸（Ｘ方向）に対して
４５度の傾斜した線分の図形１２が多い図形集合１１の
場合には、基準となる走査線ｌ３に対する相対角度が４
５度の走査線が有効となる． さらに、本発明は前記基準となる走査線１３に対する向
きの異なる走査線の数は１つでなくてもよく、複数設定
し、その中から最も処理時間Ｔが短くなるものを選択す
るようにしてもよい．［発明の効果１ 以上詳述したように、本発明によれば効率よく、かつ、
高速に各種図形処理を行うことができる優れた効果があ
る。 第４図は同じく従来の図形処理方法を示す説明図、 第５図は論理セル領域とメモリ領域を配置した半導体装
置のマスクパターンを示す図である。 図において、 １１は図形集合、 １２は図形、 １２ａ．１５ａは線分、 １２ｂ，１５ｂは端点、 １３．１４は走査線である。
第１図は本発明を具体化した露光データ作戊処理装置が
実行する動作を説明するためのフローチャート、 第２図（ａ）〜（ｆ）は線分データの作戒を説明するた
めの概念図、 第３図は従来の図形処理方法を示す説明図、２ 図（そ
の１） 線分データ作成を説明するためのＩＩ念図（ｂ） （Ｃ） （ｅ） 第 ２ 図 （ノ［の２ノ 線分データの作成を説明するためのｉ念図第 ２ 図（
その３） 線分データの作成Ｖ！説明するためのｍ念図（ｆ） 第３図 ｆＩ来の図形！１！理方法を禾′＃説明図第 ５ 図 第４図 従来の図形処ｙ１方法を示ｔ説明図
実行する動作を説明するためのフローチャート、 第２図（ａ）〜（ｆ）は線分データの作戒を説明するた
めの概念図、 第３図は従来の図形処理方法を示す説明図、２ 図（そ
の１） 線分データ作成を説明するためのＩＩ念図（ｂ） （Ｃ） （ｅ） 第 ２ 図 （ノ［の２ノ 線分データの作成を説明するためのｉ念図第 ２ 図（
その３） 線分データの作成Ｖ！説明するためのｍ念図（ｆ） 第３図 ｆＩ来の図形！１！理方法を禾′＃説明図第 ５ 図 第４図 従来の図形処ｙ１方法を示ｔ説明図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移動
させ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の外
形線分を線分データとし、その線分データに基づいて図
形集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の図
形処理を行うようにしたワークリスト法による図形処理
方法において、 前記図形集合に対して一方向に平行移動させる走査線を
基準の走査方向とし、その基準の走査方向に対して向き
の異なる走査方向を少なくとも１つ設定し、その各走査
方向において走査線をそれぞれ平行移動させ、各走査方
向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交点と交差する
走査線の本数をそれぞれ求めた後、各走査方向の内で最
も走査線の本数が少ない走査方向を割り出し、その割り
出した走査方向が前記基準の走査方向でないとき、その
割り出された走査方向と基準走査方向との相対角度だけ
前記図形集合を基準走査方向に対して回転させ、その回
転した図形集合に対して基準の走査線を平行移動させて
図形処理するようにしたことを特徴とする図形処理方法
。 ２図形集合の各図形に対して走査線を一方向に平行移動
させ、その走査線と直角又は斜めに交差する各図形の外
形線分を線分データとし、その線分データに基づいて図
形集合の図形論理演算、図形拡大縮小、図形分割等の図
形処理を行うようにしたワークリスト法による図形処理
方法において、 前記図形集合に対して一方向に平行移動させる走査線を
基準の走査方向とし、その基準の走査方向に対して向き
の異なる走査方向を少なくとも１つ設定し、その各走査
方向において走査線をそれぞれ平行移動させ、各走査方
向毎に各図形の外形線分の端点あるいは交点と交差する
走査線の本数及び線分データの数を求め、次に各走査方
向毎にその求めた走査線の本数及び線分データの数から
図形処理時間をそれぞれ算出した後、各走査方向の内で
最も図形処理時間が短い走査方向を割り出し、その割り
出した走査方向が基準の走査方向でないとき、その割り
出された走査方向と基準走査方向との相対角度だけ前記
図形集合を基準走査方向に対して回転させ、その回転し
た図形集合に対して基準の走査線を平行移動させて図形
処理するようにしたことを特徴とする図形処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152904A JPH0317782A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 図形処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1152904A JPH0317782A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 図形処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0317782A true JPH0317782A (ja) | 1991-01-25 |
Family
ID=15550678
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1152904A Pending JPH0317782A (ja) | 1989-06-14 | 1989-06-14 | 図形処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0317782A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6116802A (en) * | 1997-05-05 | 2000-09-12 | L'oreal | Device for packaging and applying a crumbleable product |
| JP2005227668A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Nec Corp | データ処理時間の予測方法、データ処理装置、およびプログラム |
| JP2008070528A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Fujitsu Ltd | パターンデータの処理システム、パターンデータの処理方法、及びパターンデータの処理プログラム |
-
1989
- 1989-06-14 JP JP1152904A patent/JPH0317782A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6116802A (en) * | 1997-05-05 | 2000-09-12 | L'oreal | Device for packaging and applying a crumbleable product |
| JP2005227668A (ja) * | 2004-02-16 | 2005-08-25 | Nec Corp | データ処理時間の予測方法、データ処理装置、およびプログラム |
| JP2008070528A (ja) * | 2006-09-13 | 2008-03-27 | Fujitsu Ltd | パターンデータの処理システム、パターンデータの処理方法、及びパターンデータの処理プログラム |
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