JPH0317768B2 - - Google Patents
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- JPH0317768B2 JPH0317768B2 JP15178882A JP15178882A JPH0317768B2 JP H0317768 B2 JPH0317768 B2 JP H0317768B2 JP 15178882 A JP15178882 A JP 15178882A JP 15178882 A JP15178882 A JP 15178882A JP H0317768 B2 JPH0317768 B2 JP H0317768B2
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- Japan
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- silicon
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- Silicon Compounds (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15178882A JPS5945917A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 多結晶シリコンの連続的製法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15178882A JPS5945917A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 多結晶シリコンの連続的製法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5945917A JPS5945917A (ja) | 1984-03-15 |
JPH0317768B2 true JPH0317768B2 (en, 2012) | 1991-03-08 |
Family
ID=15526302
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15178882A Granted JPS5945917A (ja) | 1982-09-02 | 1982-09-02 | 多結晶シリコンの連続的製法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS5945917A (en, 2012) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5139762A (en) * | 1987-12-14 | 1992-08-18 | Advanced Silicon Materials, Inc. | Fluidized bed for production of polycrystalline silicon |
JPH01282194A (ja) * | 1988-01-19 | 1989-11-14 | Osaka Titanium Co Ltd | 単結晶製造方法 |
DE3910343A1 (de) * | 1988-03-31 | 1989-10-12 | Union Carbide Corp | Aussenbeheizter wirbelschicht-reaktor |
JPH02233514A (ja) * | 1989-03-06 | 1990-09-17 | Osaka Titanium Co Ltd | 多結晶シリコンの製造方法 |
JP3705623B2 (ja) * | 1995-03-24 | 2005-10-12 | 株式会社トクヤマ | シラン類の分解・還元反応装置および高純度結晶シリコンの製造方法 |
KR100783667B1 (ko) | 2006-08-10 | 2007-12-07 | 한국화학연구원 | 입자형 다결정 실리콘의 제조방법 및 제조장치 |
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-
1982
- 1982-09-02 JP JP15178882A patent/JPS5945917A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS5945917A (ja) | 1984-03-15 |
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