JPH03175329A - 静電容量式差圧検出器 - Google Patents

静電容量式差圧検出器

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JPH03175329A
JPH03175329A JP2049808A JP4980890A JPH03175329A JP H03175329 A JPH03175329 A JP H03175329A JP 2049808 A JP2049808 A JP 2049808A JP 4980890 A JP4980890 A JP 4980890A JP H03175329 A JPH03175329 A JP H03175329A
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pressure
differential pressure
conductive plate
detector
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Mitsuru Tamai
満 玉井
Tadanori Yuhara
湯原 忠徳
Kimihiro Nakamura
公弘 中村
Kazuaki Kitamura
北村 和明
Toshiyuki Takano
敏行 高野
Teizo Takahama
高浜 禎造
Mikihiko Matsuda
幹彦 松田
Shinichi Soma
伸一 相馬
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    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L13/00Devices or apparatus for measuring differences of two or more fluid pressure values
    • G01L13/06Devices or apparatus for measuring differences of two or more fluid pressure values using electric or magnetic pressure-sensitive elements
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01LMEASURING FORCE, STRESS, TORQUE, WORK, MECHANICAL POWER, MECHANICAL EFFICIENCY, OR FLUID PRESSURE
    • G01L9/00Measuring steady of quasi-steady pressure of fluid or fluent solid material by electric or magnetic pressure-sensitive elements; Transmitting or indicating the displacement of mechanical pressure-sensitive elements, used to measure the steady or quasi-steady pressure of a fluid or fluent solid material, by electric or magnetic means
    • G01L9/0041Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms
    • G01L9/0072Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance
    • G01L9/0073Transmitting or indicating the displacement of flexible diaphragms using variations in capacitance using a semiconductive diaphragm

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】
この発明は、差圧に応じて変位するダイヤフラムとその
各側に配設される固定電極との間にそれぞれ形成される
静電容量に基づいて差圧が測定される静電容量式差圧検
出器に関する。なお、この静電容量式差圧検出器は、導
入圧力の一方が大気圧または真空であることによって、
ゲージ圧用または絶対圧用検出器になる。
【従来の技術】
第6図は従来の一静電容量式差圧検出器の構成を示す断
面図である。ダイヤフラムlOの各側に各固定電極15
.20が取付けられている。固定電極15は、ダイヤフ
ラム10に対向配置された第1の導電性板12と、この
第1導電性板12に接合された絶縁板13と、この絶縁
板13に接合された第2の導電性板14とからなり、第
1導電性板12と第2導電性板14とが、貫通してあけ
られた導圧孔25の内周内に被覆された導体膜27を介
して電気的に接続される。 そして、固定電極15には、絶縁板13に接合されて第
1導電性板12を取り囲む円環状溝23を隔てて環状の
支持体21が設けられ、この支持体21がダイヤフラム
10に所定の厚みのガラス結合部11で接合され、かつ
第1導電性板12と支持体21とは電気的に絶縁されて
いる。なお、支持体21は絶縁体、導電体いずれでもよ
い。また、固定電極15には、ダイヤフラム10との間
に形成された空隙29に圧力P1を導く前記の導圧孔2
5があけられる。 他方の固定電極20についても同様の構成であるから、
詳細な説明は省略する。固定電極20には、ダイヤフラ
ム10との間に形成された空隙30に圧力P2を導く導
圧孔26があけられている。 ダイヤフラム10と、固定電極15とによって第1のコ
ンデンサが形成され、このコンデンサの静電容量Caが
各リードビンA、Cを介して取出される。また、同様に
ダイヤフラム10と固定電極20とによって第2のコン
デンサが形成され、このコンデンサの静電容量cbが各
リードビンB、Cを介して取出される。 いま、各圧力P1.P2がダイヤフラム10に作用する
と、その差圧(PI〜P2)に応じてダイヤフラム10
が変位し、この変位に応じて各静電容量Ca、Cbが変
化し、この変化に基づいて差圧を測定することができる
。 ところで、第6図に示した差圧検出器は、各圧力PI、
P2を受圧する二つの図示してないシールダイヤフラム
によって密閉されたハウジング内に収納され、このハウ
ジング内に圧力伝達用の非圧縮性流体たとえばシリコー
ンオイルが封入される。 つまり、各空隙29.30および各導圧孔25,26に
はシリコーンオイルが充填されることになる。 第25図は従来の別の静電容量式差圧検出器の要部の構
成を示す断面図であり、第26図は同じくその静電容量
に関する等価回路図である。第25図において、10〇
八はシリコンからなるダイヤフラムであり、2A、3A
は所定の厚さを有する各ガラス接合部4A、5Aを介し
てダイヤフラム100Aに接合された固定電極である。 8八はダイヤフラム100Aと固定電極2Aとの間に形
成された空隙、9^はダイヤフラム100Aと固定電極
3Aとの間に形成された空隙である。6Aは固定電極2
Aにあけられて、空隙8Aに圧力P1を導く導圧孔、7
Aは固定電極3Aにあけられて、空隙9Aに圧力P2を
導く導圧孔である。 ダイヤフラム100Aと固定電極2Aとによって第1の
コンデンサが形成され、このコンデンサの静電容量Ca
が各リードビンA、Cを介して取り出される。また、ダ
イヤフラム10〇八と固定電極3Aとによって第2のコ
ンデンサが形成され、このコンデンサの静電容量cb各
がリードビンB、Cを介して取り出される。なお、第2
6図におけるCsa。 Csbはそれぞれ各ガラス接合部4A、5Aにおける静
電容量で一定値をとる。 いま、各圧力PL、P2がダイヤフラム100^に作用
すると、その差圧(PI〜P2)に応じてダイヤフラム
100^が変位し、この変位に応じて各静電容量Ca、
Cbが変化し、この変化に基づいて差圧を測定すること
ができる。 なお、第25図に示した静電容量式差圧検出器は、通常
は各圧力PL、P2を受圧する図示していない二つのシ
ールダイヤフラムによって密閉された同じく図示してい
ないハウジング内に収納され、かつ、このハウジング内
に圧力伝達用の非圧縮性流体たとえばシリコーンオイル
が封入される。それゆえ、各空隙8A、9Aならびに各
導圧孔6A、7Aにはシリコーンオイルが充填されるこ
とになる。
【発明が解決しようとする課題】
第7図に従来の静電容量式差圧検出器のダイヤフラム1
0と固定電極20との間で形成される静電容量の模式図
を示す。第7図から明らかなように、ダイヤフラム10
と固定電極20との間に4個のコンデンサが形成される
。まずダイヤフラム1〇−空隙3〇−第1導電性板17
によって1個のコンデンサが形成される。このコンデン
サの静電容量をcbとする。さらに、支持体22−絶縁
板18−第2導電性板19によって1個のコンデンサが
形成される。このコンデンサの静電容量をCsbとする
。また、ダイヤフラム1〇−円環状溝24−絶縁板工8
−第2導電性板19によって2個のコンデンサが形成さ
れる。 この各コンデンサの静電容量をCsbL Csb2とす
る。なお、Csblは空隙24における誘電率に関係す
る容量、C5b2は絶縁板18の誘電率に関係する容量
である。なお、ダイヤフラム10と支持体22とは静電
容量取出し用導体33によって電気的に接続されている
ので、ダイヤフラム10−ガラス接合部16−支持体2
2によってはコンデンサは形成されない。 前記したように固定電極15と固定電極20とは同一構
成で、かつ鏡像的に配置されているから、固定電極15
に関しても前記と同様に静電容量が形成される。固定電
極20の静電容量に対応する固定電極15側の静電容量
は、各静電容量Cb、 Csb、 C5bl。 C5b2.の添字すをaに変えて、Ca、 Csa、 
 C5al。 Csa2で表すものとする。その結果、第6図に示した
圧力検出器における静電容量は、電気的には第8図(a
)の等価回路のように接続されていると見做すことがで
きる。なお、A、B、Cはそれぞれリードビンである。 いま、各リードビンA、C間の総合静電容量をCI、各
リードピンB、C間の総合静電容量を02とすると、 CI −Ca+Csa + C5al ・C5a2/ (Csal+ C5a2
) −−−(1)C2=Cb+Csb + C5bl ・C5b2/ (Csbl+ C5b2
) −−−−(2)ここで、たとえば(2)について考
察すると、第6図において第1導電性板17の面積をS
b、空隙30における誘電率をEb、空隙30の厚さを
Tbとすると、静電容量cbは次式のように表される。 Cb =Eb  −Sb /Tb        ・−
(3)また、支持体22の面積をSsb、絶縁体1日の
誘電率をEsb、絶縁体18の厚さをTabとすると、
静電容量Csbは次式のように表される。 C5b= Esb−3sb/ Tsb        
−(4)また、円環状溝24の面積を5sbl 、円環
状溝24の深さをT s b 1とすると、各静電容i
1 C5bl、 C5b2は次式のように表される。 C5bl =Eb  −3sbl / (Tsbl +
Tb)−(5)Csb2  = Esb−3sbl /
 Tsb        −(6)一般にCsblおよ
びC5b2の直列容量は、静電容量Cb、Csbに比べ
極めて小さくなるように設計することによって無視でき
る。このことは固定電極15についても同様である。し
たがって第8図(a)の回路は、近似的に同図(b)の
ように表すことができ、かつ、(1)式および(2)式
は次のように書き直せる。 CI −Ca + Csa            −
(7)C2−Cb +Csb          −(
8)いま第6図において、各圧力P1.P2の差圧によ
って、ダイヤフラム10が左方向にΔだけ変位したとす
ると、静電容量Ca、Cbは次のように表される。 Ca −Ea  −3a / (Ta −Δ)    
 −(9)Cb =Eb  −Sb / (Tb +Δ
)     −GO)ここで、Ea、Ebは各空隙29
.30における誘電率であるから、Ea =Eb =E
とし、またTa、Tbは各空隙29.30の非変位状態
における厚さであるから、Ta =Tb =Tとして、
(9)式と00式を書き直すと、 Ca = E−3a / (T−Δ)−aυCb=E−
3b/(T+Δ)    −・面各静電容量Csa、 
Csbについても同じ取扱いをする。すなわち、Tsa
=Tsb=Ts 、Esa=Esb=Es とする。 したがって、(7)式および(8)式は次のように書き
直せる。 C1=Ca +C5a =E−3a/(T−Δ) + Csa   −・・03
)C2=Cb +C5b =E−3b / (T−1−Δ) +Csb   −・
・−Q4)ところで、よく知られているように、一対の
各静電容量C1,C2が差動的に変化する場合、次の演
算式によってダイヤフラム変位Δに比例する信号Fを得
るようにしている。 F= (C1−C2)/ (C1+C2)    ・−
qωここで、Ca =Cb、(Csa−Csb)/ (
Ca +Cb)<1、(Csa十C5b)/ (Ca 
+ Cb)< 1、とすれば、0■、04)、 05)
式から、F=Δ/Toc(P2〜PI)       
 −−−Qωとなり、変位Δすなわち差圧(P2〜PI
)に比例した信号Fが得られる。 ところが、Ca=Cbでない場合、またはCa)Csa
、かつCb)Csbでない場合には、変位Δないし差圧
(P2〜PI)に比例した信号Fが得られない。 第6図の従来例の場合、必ずしもCa =Cbの条件は
成り立たない、これは各第1導電性板12゜17の形状
を超音波加工または研削等によって機械的に加工してい
るため、その加工寸法誤差(一般ニ50〜10100t
1や加工部周辺の欠け、チッピング等があるからである
。したがって、信号Fの差圧P (=P2〜PI)に対
する比例関係が著しく阻害される。 これを防止するには、加工寸法誤差を低減させなければ
ならず、これは加工コスト等の経済面で不利である。こ
れが第1の解決すべき問題点である。 第2の問題点として次のことがある。第6図に示した構
造で過大圧が一方の導圧孔、例えば導圧孔25から導入
された場合に、ダイヤフラム10は対向する固定電極2
0と接し、変位がダイヤフラム10と固定電極20を接
合しているガラス接合部16の厚み以上にならないよう
に制限され、過大圧によるダイヤフラム10の破壊が防
止される。ところが、接すべき対向の固定電極20の第
1導電性板17の中心部には、導圧孔26が前記と同じ
く機械加工によってあけられているため、加工面端部に
は加工上の欠け、尖り等が生じ、これらがダイヤフラム
10との接触時に、ダイヤフラム10に損傷を与える。 特に、ダイヤフラム10がシリコン等の脆性材料からな
る場合にはダイヤフラム10が破壊される。 第3の問題点として次のことがある。第6図に示される
ように、ダイヤフラム10は、支持体21に例えばガラ
スやアルミ等で接合される。その際、支持体21のダイ
ヤフラム10に対向する面全体に、ガラスやアルミ等を
塗布または付着し、第1導電性板12とダイヤフラム1
0の可動部有効径(圧力によって変位する領域の直径)
との同軸度、つまりガラス接合部11の内径との同軸度
を一致させて、支持体21にダイヤフラム10を接合す
る。ここで−船釣には、支持体21は固定電極15上の
第1導電性板12を機械加工して形成されるから、前記
と同様に加工上の寸法誤差や欠は等によって支持体21
の内径に誤差が生じ、最終的にはダイヤフラム10の可
動部有効径寸法に誤差が生じる。いま、ダイヤフラム1
0の可動部有効径をa、その板厚をhとすれば、差圧(
PI〜P2)によるダイヤフラム変位Δは、 Δ−K  (a/2)’・ (1/h)3    −−
−ff7)で示される。ここでKは、ヤング率とポアソ
ン比を用いて決められるダイヤフラム10の材料に基づ
く定数である。(171弐から明らかなように可動部有
効径aの加工誤差は、加工誤差daと可動部有効径aと
の相対比の約4倍の大きさで変位Δの値を変動させる。 前記したように支持体21の内径をbとすればダイヤフ
ラム10の可動部有効径aと支持体21の内径すは等し
いとみなせる。したがって、可動部有効径aの誤差da
は支持体21の内径の加工誤差dbに等しい。以下、具
体例として数値的に説明する。いま、 a=b=7mm d a = d b = 0.2 mmここに加工誤差
dbは、内径を機械加工しているため通常の加工誤差0
.1 mmの2倍となる。加工誤差を含んだ変位Δ1と
含まない変位Δとの比は、Δ1/Δ=K ((a+da
)/2)’(1/h)3/K (a/2)’(1/h)
″ ((a 十da)/a ) ’ ((b 十db)/b ) ’ = 1.11928 したがって、支持体21の内径すの加工誤差dbによる
、変位Δの相対誤差は約12%となり、支持体21の内
径すの相対誤差2.86%の約4倍である。 そのため、可動部有効径の加工精度が悪いと静電容量式
圧力検出器の精度にバラツキを生じさせ望ましくない。 この発明の第1の課題は、従来の技術がもつ以上の問題
点を解消し、良好な直線性をもつとともに、測定精度の
バラツキが少なく、過大圧時にダイヤフラムが損傷を受
けるおそれがない静電容量式圧力検出器を提供すること
にある。 また、以上説明したような一従来例では、次に詳しく説
明するように、過大な差圧が象、に除去されたとき、こ
れにダイヤフラム変位が迅速に追従しない、つまりダイ
ヤフラム変位の応答性が悪いという問題がある。 第13図は一従来例の動作を示す要部の断面図である。 同図において、各導圧孔25.26からの導入圧力の差
によって(導圧孔26からの圧力の方が、導圧孔25か
らの圧力より極めて大きいとする)、ダイヤフラム10
は左方向に凸に湾曲変形し、左側面が導電性板12の右
側面に押圧された形で接触している。 封入液のシリコーンオイルが完全に非圧縮性であり、ま
たダイヤフラム10と導電性板12との各表面が完全に
平面に仕上げられて、これらの間で封入液が全く漏れる
ことがない理想条件の下では、ダイヤフラム10は、そ
の左側面の中心部が変位して導圧孔25の右側開口部を
封鎖した後にはさらに変形し得ない。したがって、ダイ
ヤフラム10と導電性板12との接触面積は、差圧が増
しても導圧孔25の右側開口部より若干大きい面積に一
定に保持される。 第14図はダイヤフラム・固定電極間の接触面積の差圧
に対する特性図で、横軸に差圧Pを、縦軸に接触面積S
をそれぞれとる。差圧Pが小さい値のときには接触面積
Sは零であり、差圧Paで、導圧孔25の右側開口部よ
り若干大きい面積である接触面積Saになり、先程の理
想条1件の下では差圧Pの増加に対応する接触面積Sは
一点鎖線のように一定値Saを保持する。しかし実際に
は、先程の理想条件は存在しないから、差圧Pの値Pa
からの増加に対応して接触面積Sは値Saから実線のよ
うに増大する。 したがって、過大な差圧がダイヤフラム10に作用した
状態では、ダイヤフラム10と導電性板12とはかなり
広い面積で接触している。この過大な差圧が急に除去さ
れたとき、まずダイヤフラム10の中心部が右方向に変
位して導圧孔25の右側開口部の封鎖を解除し、次にこ
の封鎖の解除によって導圧孔25からの導入圧力がダイ
ヤフラム10の左側面に作用してダイヤフラム10をさ
らに復帰させることになる。このように、従来例ではダ
イヤフラムlOの変位の復帰が、過大な差圧の急速な除
去に迅速に追従しない、言いかえれば、ダイヤフラム1
0の変位の応答性が悪い、という問題がある。 この発明の第2の課題は、従来の技術がもつ以上の問題
点を解′消し、過大な差圧が除去されたとき、これにダ
イヤフラム変位が迅速に追従するような、つまりダイヤ
フラム変位の応答性が良い静電容量式差圧検出器を提供
することにある。 さらにまた、以上説明したような一従来例では、次のよ
うな問題がある。 すなわち、差圧(=P2−Pi )が非常に大きいとき
には、その差圧によって固定電極15が右方向に凸に湾
曲するように変位し、この変位だけによってダイヤフラ
ム10と各固定電極15.20との間の静電容量が変化
する。なお、このことは−従来例が差圧検出装置に組み
込まれたときの、第5図のような構成から明らかである
。すなわち、第5図の検出器50の代りに一従来例を置
き換えて考えると、符゛号を付けてない左側の固定電極
(第6図の固定電極15に相当)は左側から圧力P2、
右側から圧力P1を受ける。なお、第5図については、
第1発明に係る実施例の説明の箇所で詳しく後述する。 いま、固定電極15の差圧による変位をΔe、この変位
Δeと先程の変位Δとを同時に生じたときのダイヤフラ
ム10と各固定電極15.20とで形成される各静電容
量O1e、 C2e  は、C1e=ε・A/(T−Δ
−Δe )   −(4c)C2e=C2=e ・A/
 (T+Δ)   =(5c)になる。各静電容11c
1e、  C2eは、正確には差動的に変化しないから
、(151式によって演算される差圧信号をFeとする
と、 Fe = (C1e−C2e) / (C1e+C2e
)=(2Δ+Δe)/(2Δ−Δe)−(6c)(6c
)式から明らかなように、ΔeがΔに対して無視できな
い大きさの場合には、差圧信号Feは差圧(=P2−P
I )に比例しない、言いかえれば直線性が崩れる。 この発明の第3課題は、従来の技術がもつ以上の問題点
を解消し、とくに差圧が大きいときでも差圧信号が良好
な直線性をもつ静電容量式差圧検出器を提供することに
ある。 なおまた、以上説明したような一従来例では、次に詳し
く説明するように、周囲温度の変化によって検出器の差
圧信号のスパン特性と直線性が影響を受ける、言いかえ
れば、温度特性が悪化するという問題がある。なお、ス
パン特性とは、差圧の100%変化幅に対する静電容量
の変化幅、言いかえればダイヤフラムの変位幅の特性で
ある。 各固定電極は、シリコンからなる両側の第1゜第2の各
導電性板と、中間のコージライトからなる絶縁板との3
層構造体であるから、熱膨脹係数の異なる板状部材を貼
り合わせた一種のバイメタルと見なすことができる。各
固定電極は周囲温度の変化によって変形し、周縁部で固
着されシリコンからなるダイヤフラムには、半径方向の
応力が生じる。この応力に起因するダイヤフラムの変位
が、差圧に基づく本来の変位によって発生する差圧信号
の直線性を阻害する要因になる。 周囲温度の変化によってダイヤフラムに生じる半径方向
の応力、およびこの応力によるダイヤフラムの変位など
について、以下に具体的に詳しく説明する。 第6図において、従来の各固定電極15.20の合成的
な熱膨脹係数αは、 α−Kl(A−に2/B)(α1−α2)十α2・・・
(1d)ただし、α1.α2 :コージライト シリコ
ンの熱膨脹係数、El、E2  :同しくそのヤング率
、Hl。 I−(2:同じくその厚さ、H3:各支持体の厚さであ
る。 また、Kl、に2は、それぞれEl、 E2. Hl、
 H2によって決まる定数、また A−(Hl +−2H3)/2.  B=1/(Hl 
 ・El)である。 El =8,000 、E2 =15,300(単位:
廟/ mm ” )、α1 =1.1.α2=3.1 
 (単位: 10−’/”C) 、であり、Hl =0
.5.H2=1.5.H3=1.5(単位:薗)とする
と、α−2,53xlO−’/”cになる。 したがって、周囲温度の変化ΔTのとき、ダイヤフラム
に生じる半径方向の応力σは、σ−E・Δα・ΔT/(
1−ν)  ・・・(2d)ここで、E、ν2それぞれ
ダイヤフラムのヤング率、ポアソン比、Δα:固定電極
とダイヤプラムとの熱膨脹係数の差、である。 半径方向の応力σを受けた状態で差圧Pが作用するどき
のダイヤフラムの変位Wは、 W=P/(K+(4H/R”)σ)   ・ (3a)
ここで、H,R:それぞれダイヤフラムの厚さ。 半径、K:E、  シ、H,Rによって決まる定数であ
る。 変位Wは、(3d)式から明らかなように、ダイヤフラ
ムの材料1寸法に係る第1の要素と、半径方向の応力に
係る第2の要素とによって決まる。 とくに、微小な差圧Pを感度良く測定するときには、厚
さHを小さくする必要があり、同時に応力σが感度良い
測定に対する阻害要因になる。 第18図に、0.1m水柱、 3.2 m水柱の各測定
用のダイヤフラムの厚さを各々0.03mm、 0.1
 mmとした場合の、値W/Gの熱応力σに対する特性
を示す。実線は0.1m水柱、破線は3.2m水柱にそ
れぞれ対応する。ここに、Gは差圧零のときのダイヤフ
ラム・固定電極間の空隙寸法である。 たとえば、周囲温度が±60’C(120°Cの範囲)
で変化したときには、(2d)式から熱応力σは、0.
62kg/mm”の変化となり、これに起因するダイヤ
フラムの変位に係る値W/Gは、0.1m水柱の場合で
約82%だけ、3.2m水柱の場合で約6%だけそれぞ
れ変化する。 この発明の第4の課題は、従来の技術がもつ以上の問題
点を解消し、差圧信号のスパン特性と直線性に対する温
度変化の影響を抑制する、言いかえれば、温度特性の向
上を図った静電容量式差圧検出器を捉供することにある
。 以上説明したように、別の従来例では、特に明記されて
いないが、ダイヤフラムは全て平板で作られている。し
かし、平板で作られたダイヤフラムでは、次のような問
題がある。 (1)高い圧力差で使用される場合には、周辺のガラス
接合などによるダイヤフラムと支持体との接合部の内縁
部に非常に大きい応力が発生し、接合部あるいはダイヤ
フラムが破壊するおそれがある。 特に、ダイヤフラムがシリコンのような脆性材料で作製
されている場合は破壊の危険性が高い。 (2)圧力を受けた場合のダイヤフラムの主に中心部の
動きが平行移動的でないため、圧力に対する静電容量の
変化が高次の成分をもち、そのため補正が難しく、した
がって検出精度が悪くなる。 (3)検出器を小形、軽量化するためには、ダイヤフラ
ムの厚さを薄くしなければならず、そのため組立時の取
り扱いが困難になる。特に、低圧・低差圧レンジでは、
この問題が深刻である。 この発明の第5の課題は、従来の技術がもつ以上の問題
点を解消し、ダイヤフラムがその周縁接合部で過大圧時
においても過大な応力を生じることがなく、測定精度が
高く、かつ組立が容易な静電容量式圧力検出器を提供す
ることにある。
【課題を解決するための手段】
第1課題を解決するために、第1の発明に係る静電容量
式差圧検出器は、 各固定電極が、ダイヤフラムの中心部表面に近接対向す
る第1の導電性板と; この第1導電性板の外周面から隔たってこれを取り囲み
かつ前記ダイヤフラムの周縁部表面と接合される環状支
持体と; この支持体と前記第1導電性板との、前記ダイヤフラム
とは逆側の各表面に共通に接合される絶縁板と; この絶縁板の他方の表面に接合され前記第1導電性板と
電気的に接続される第2の導電性板と;を備え、 前記の第1.第2の各導電性板と絶縁板との中心部を貫
通して前記圧力用導圧孔があけられ、かつこの導圧孔の
前記ダイヤフラム側の開口稜線部と前記第1導電性板の
前記ダイヤフラム側の外周稜線部と前記支持体の前記ダ
イヤフラム側の内周稜線部とにそれぞれ凹状面取りが施
される。 第2の発明に係る静電容量式圧力検出器は、各固定電極
が、その中心部を貫通する圧力用導圧孔と、 この導圧孔のダイヤフラム側の開口稜線部に施される凹
状面取り部と、 この凹状面取り部と隣接しその遠心外方に前記ダイヤフ
ラムの表面と平行にかつこれと近接対向して環状に設け
られる中心平面部と、 この中心平面部と隣接しその遠心外方に設けられる環状
凹部と、 少なくとも前記中心平面部の表面に施され前記静電容量
の取出し用を兼ねる導電性膜とを備え、前記環状凹部の
遠心外方に位置する周縁部において前記ダイヤフラムと
電気的に絶縁して接合される絶縁体である。 第2課題を解決するために、第3の発明に係る静電容量
式差圧検出器は、 差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフラム
の各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそれぞ
れ形成される静電容量に基づいて前記差圧が測定される
検出器において、 前記各固定電極には、その導圧孔と交差して前記ダイヤ
フラム側の表面に溝が形成される。 第3課題を解決するために、第4の発明に係る静電容量
式差圧検出器は、 差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフラム
の各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそれぞ
れ形成される静電容量に基づき前記差圧が測定される検
出器において、 一方の前記固定電極の外側表面と所定距離を隔ててその
周縁部で接合されるとともに導圧孔をもつ基板を備え、 他方の前記固定電極の側から導入される圧力を同時に前
記の基板、各固定電極の外側表面にも作用させる。 第4課題を解決するために、第5の発明に係る静電容量
式差圧検出器は、 差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフラム
の各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそれぞ
れ形成される静電容量に基づいて前記差圧が測定される
検出器において、 前記各固定電極は、 前記ダイヤフラムの中心部表面に近接対向しこのダイヤ
フラムに近似した熱膨脹係数をもつ材料、たとえばダイ
ヤフラムと同じシリコンからなる第1の導電性板と; この第[導電性板の外周面から隔たってこれを取り囲み
前記ダイヤフラムの周縁部表面に接合される環状支持体
と; この環状支持体と前記第1導電性板との、前記ダイヤフ
ラムとは逆側の各表面に共通に接合され前記第1導電性
板に近似した熱膨脹係数をもつ、たとえばコージライト
とムライトとが所定比率で混成されたセラミックスから
なる絶縁板と;この絶縁板の他方の表面に接合され前記
第1導電性板と同じ材料、たとえばシリコンからなりか
つこれと電気的に接続される第2の導電性板と;を備え
る。 第5課題を解決するために、第6の発明に係る静電容量
式差圧検出器は、 ダイヤフラムが、 中心部に位置し圧力に応じて主に変位する変位部と、 周縁部に位置し各固定電極と電気的に絶縁して接合され
る接合部と、 この接合部と前記変位部とを連結する、幅がこの変位部
の直径の1/2ないし115であり、厚さがこの変位部
の厚さの1/2以下である環状可撓部とを一体的に備え
る。
【作用】
第1発明に係る静電容量式差圧検出器においては、支持
体のダイヤフラム側の内周稜線部に施された凹状面取り
部によって、ダイヤフラムの可動部有効径が正確に規定
され、第1導電性板のダイヤフラムの外周稜線部と導圧
孔のダイヤフラム側の開口稜線部とにそれぞれ施された
凹状面取り部によって、ダイヤフラム、第1導電性板間
の対向面積が正確に規定され、かつ過大圧時にダイヤフ
ラム、第1導電性板間で接触が起こったとしても、ダイ
ヤフラムは損傷を受けるおそれがない。 第2発明に係る静電容量式差圧検出器においては、中心
平面部の遠心外方に施された凹状面取り部によって、ダ
イヤフラムの可動部有効径が正確に規定され、前記中心
平面部の遠心外方に施された凹状面取り部と、導圧孔の
ダイヤフラム側の開口稜線部に施された凹状面取り部と
によって、ダイヤフラム、固定電極間の対向面積が正確
に規定され、かつ過大圧時にダイヤフラム、固定電極間
で接触が起こったとしても、ダイヤフラムは損傷を受け
るおそれがない。 第3発明に係る静電容量式差圧検出器においては、ダイ
ヤフラムの一方の表面が部分的に、過大な差圧によって
対向する固定電極表面に強く押圧されても、同時にこの
固定電極側の導入圧が、導圧孔と交差して形成された溝
を通して対向するダイヤフラム表面に作用している。こ
のダイヤフラム表面に作用している導入圧が、過大差圧
が除去されたときのダイヤフラム変位の復帰追従性、つ
まり応答性を良くする。 第4発明に係る静電容量式差圧検出器においては、基板
は、その各側に作用する圧力の差によって変位するが、
各固定電極は、その各側に作用する圧力がそれぞれ同一
であるから、差圧によって変位することがない。したが
って、ダイヤフラムと各固定電極とで形成された各静電
容量は正確に差動的に変化する。 第5発明に係る静電容量式差圧検出器においては、ダイ
ヤフラムと、固定電極を構成する両側の第1.第2の各
導電性板と、中間の絶縁板とが、いずれも同じか近似の
熱膨脹係数をもつ材料からなるから、周囲温度の変化に
よって、ダイヤフラムに半径方向の応力が発生すること
がなく、この応力に起因するダイヤフラムの変位は生じ
ない。 したがって、周囲温度の変化があっても、差圧信号のス
パン特性と直線性が維持される。 第6発明に係る静電容量式差圧検出器においては、環状
可撓部によって、圧力に応じて接合部の内周縁部分に生
じる応力が減少し、圧力によって変位部が平行移動的に
変位する。また、ダイヤフラムの元の板厚は薄くする必
要がない。
【実施例】
第1発明に係る静電容量式差圧検出器の実施例について
、以下に図を参照しながら説明する。 第1図はこの実施例を示す断面図で、基本的には第6図
に示した従来例と同じ構成である。ダイヤフラム10の
両側に配設された各固定電極151゜200上に、ダイ
ヤフラム10側の周縁部および導圧孔の開口陵線部に所
定の巾と深さをもつ階段状ないし段差状の各面取り部1
21a、 121b、 171a、 171bをもつ導
電性板121,171と、それを取り囲むようにダイヤ
フラム10側で各導電性板121.171側に前記と同
じ(所定の巾と深さの各階段状面取り部211a221
aをもつ環状の各支持体211.221が設けられる。 なお、この各支持体211.221は絶縁体、導電体い
ずれでもよい。 ここで、ダイヤフラムIOと導電性板151とで第1の
コンデンサが形成され、ダイヤフラム10と導電性板1
71とで第2のコンデンサが形成され、これらの静電容
量が各リードピンA、C2同じ<B。 Cを介して取り出される。 いま、各圧力P1.P2がダイヤフラム10に作用する
と、その差圧に応じてダイヤフラム10が変位し、その
変位に基づいて差圧を測定することができる。 各固定電極151.200の製作方法の一例を第3図を
参照しながら説明する。各固定電極151.200は同
じように製作されるので、固定電極151について代表
的に述べる。 第3図において、先ず同図(a)に示すように、正方形
に成形されたシリコンの導電性板35を用意する。次に
同図(b)に示すように、この導電性板35にガラス粉
末焼付けによって正方形状に絶縁板13が接合される。 その後、同図(C)に示すように、この絶縁板13に正
方形に成形されたシリコンの導電性板14がガラス粉末
焼付けによって接合される。 次に同図(d)に示すように、導電性板35に対してエ
ツチング時の耐食材となる金またはアルミニウムの膜を
、階段状面取り部となるべき部分以外の箇所に付着形成
させ、その後エツチングによって階段状面取りを所定の
深さに加工する。さらに同図(e)に示すように、超音
波加工によって円環状溝23が形成される。この円環状
溝23は絶縁板13まで達しているので、導電性板35
から分割されて導電性板121と支持体211とが形成
される。その後、超音波加工によって導圧孔25があけ
られ、同図(f)に示すように、この導圧孔25の内面
に導体膜27が被覆され、固定電極151が完成する。 このように構成された第1の発明に係る静電容量式圧力
検出器の実施例における静電容量について説明する。第
2図はこの実施例において形成される静電容量の模式図
で、同図から明らかなように、ダイヤフラム10と固定
電極200との間に5個のコンデンサが形成される。従
来の静電容量式圧力検出器に比べて、ダイヤフラム10
と導電性板171とがつくる、第7図のcbに相当する
静電容量cbbが、階段状面取り部171a (第1図
参照)、ダイヤフラム10間の静電容量Cblと、空隙
30を隔てるダイヤフラム10.導電性板171間の静
電容量Cb3と、階段状面取り部171b (第1図参
照)、ダイヤフラム10間の静電容量Cb2とになった
以外は同じである。 同様のことがダイヤフラム10と導電性板121がつく
る静電容量Caaについても言える。したがって、 Caa= Cal+ Ca2+ Ca3       
 −−−08)Cbb= Cbl+ Cb2+ Cb3
        −Q’j)導電性板171の外周縁部
の面取り部171aの面積をSbl、深さをTblとし
、同様に導圧孔26の外周縁部の面取り部171bの面
積をSb2、さらに面取り部のない部分の面積をSb3
とする。空隙30における厚さをTbとし、また空隙3
0における誘電率をEbとすれば、各静電容量Cbl、
  Cb2.  Cb3は次式によって表される。 Cbl=Eb  −Sbl/ (Tb +Tb1)  
 −t21)Cb2=Eb  −Sb2/ (Tb +
Tb2)    −・−(21)Cb3=Eb  −S
b3/Tb         −(22)したがって、
09)、 el)、 (21)、(22)式からCbb
= (Eb  −Sbl/ (Tb +Tb1))+(
Eb  −Sb2/ (Tb +Tb2) ) +(E
b  −Sb3/Tb)         −(23)
ところで、第2図に示すように、導電性板171の外径
をDl、周縁部の段差部までの径をDll、導圧孔26
の段差部の径をDl2、導圧孔26の径をDoとすると
、Dl、Doは円環状溝24.導圧孔26を形成する際
の超音波加工等の加工誤差(50〜100μm)を含む
。一方、Dll、 Dl2は半導体等でよく用いるフォ
トエツチングないしエツチングの加工によって定められ
るから、その加工誤差は数μmないし1em以下に抑え
ることができる。 ここで、機械加工などによる寸法誤差をeで表わせば、 5bl= z (DI” −Dll”)/ 4    
 ・−(24)Sb2=π(012” −Do”) /
 4   −(25)Sb3= x (Dll” −D
12z)/ 4   −−−(26)とすることができ
る。ただし、(Di −Dll) >28、(Dl2−
Do)>2eである。前記のようにSb1. Sb2は
、機械加工の誤差を含むDi、Doのため変動する。一
方、Sb3はDll、 Dl2が機械加工の影響を受け
ないような方法としているため、Sbl、  Sb2に
比べれば実質的に変化しない。したがって、(23)式
からCblおよびCb2の影響、つまり加工により変動
するSbL  Sb2の影響を除くには、段差部の深さ
TbL Tb2をTbに比べて大きくとればよい。例え
ば、Tbl、 Tb2の値をTbの10倍程度にとると
Sbl、  Sb2の影響は約1/11になるので、機
械加工の誤差を受けて変動する各静電容量Cbl、  
Cb2は、Cb3に比べてはるかに小さ(できることか
られかる。同様のことが他方の導電性板121について
もいえる。 したがって、各導電性板121,171によって各固定
電極151,200の加工時における加工誤差の影響を
 僅少にできるため、ダイヤフラム10と各導電性板1
2L171とがつくる各静電容量Caa、  Cbbに
ついて、はぼCaa=Cbbにできる。その結果、Q6
)弐で示される特性が得られる。 さらに、第1図から明らかなように、各円環状溝23.
24や各導圧孔25,26を加工する際の欠は尖りの寸
法より、各段差部の深さを大きくとることが加工上可能
である。したがって、過大圧によってダイヤフラム10
が各導電性板121 、171に接触しても、これらの
加工時の欠け、尖りでダイヤフラム10を損傷すること
はない。また、各段差部の加工はエツチングによってな
されるので、欠け。 尖りはほとんどなく前記と同様、ダイヤフラム10に損
傷を与えることはない。 さらにまた、第1図から明らかに、各支持体121.2
21とダイヤフラム10とを接合する面積が段差加工に
よって決定される。ダイヤフラム10の可動部有効径も
段差部の深さを各ガラス接合部11゜16より十分に深
く、しかも段差部の巾を機械加工の誤差以上にとること
により、再現性がよくかつ安定な寸法である段差部の径
D21(第2図参照)で決定することができる。したが
って、ダイヤフラム10の変位が安定し、再現性のよい
静電容量式検出器を製作できる。 以上、段差部の加工をエツチングで実施した場合につい
てのべたが、これを研摩等の加工に変えても同様の利点
を得ることができる。 ところで、第1図における各面取り部は、その形状が段
差状ないし階段状であるが、これに限定されることはな
く、一般には凹状であれば同様の効果を得ることができ
る。 第2発明に係る静電容量式差圧検出器の実施例について
、その断面図である第4図を参照しながら説明する。 第4図において、固定電極としての各絶縁板42゜43
が、ダイヤフラム41の左右各側にその周縁部において
、それぞれ各ガラス接合部44.45を介して接合され
る。各絶縁板42.43はその構成が同じであるから、
絶縁板42で代表して説明する。 絶縁板42は、中心部に導圧孔46が貫通し、その遠心
外方のダイヤフラム41に対向する側に平面部42cを
、それに隣接してさらに外方に環状凹部42aを備える
。この環状凹部42aの外方が絶縁板42の周縁部に相
当する。また、導圧孔46のダイヤフラム41例の開口
稜線部には段差状ないし階段状の面取り部42bが施さ
れる。なお、この面取り部42bの形状は一般には凹状
であればよい。 導体421が、平面部42cと、面取り部42bと、環
状凹部42aの一部とに被覆され、絶縁板42の周縁部
とガラス接合部44との間をへて絶縁板42の外周に出
て、リードピンAに対する静電容量取出し用接触部とな
る。 面取り部42bと環状凹部42aとは、それぞれ第1図
に示した第1発明に係る実施例における面取り部121
bと各面取り部121a、211aとにそれぞれ相当し
、これらと同様の効果をもつものである。 なお、絶縁板42側の導圧孔46と、面取り部42b。 平面部42c、環状凹部42aと、導体421とに対応
して、絶縁板43側に導圧孔47と、面取り部43b、
平面部43C1環状凹部43aと、導体431とがそれ
ぞれ設けられる。ダイヤフラム41の各側表面と、各平
面部42c、 43cとの間に各空隙48.49が形成
される。 各リードビンA、C間と、各リードビンB、C間との静
電容量に基づいて差圧(Pi〜P2)が測定されるのは
前記のとおりである。 さて、第5図は第1発明に係る実施例を組み込んだ差圧
検出装置の断面図である。第5図において、50は第1
図に示した静電容量式検出器である。 この検出器50は有底円筒体51の内室52に収納され
ており、絶縁体53を介して金属パイプ54に結合され
ている。そして、この金属バイブ54は取付板55に溶
接結合されており、この取付板55がさらに有底円筒体
51の開口部に溶接結合されている。さらに、有底円筒
体51の開口部にはキャップ56が溶接結合されている
。このキャップ56は貫通孔57を有し、シールダイヤ
フラム58が取付けられて、その間に受圧室61を形成
している。一方、有底円筒体51の底部も貫通孔60を
有し、シールダイヤフラム59が取付けられて、その間
に受圧車62にを形成している。そして、有底円筒体5
1の側壁には、各リードピンA、B、Cを有するハーメ
チックシール端子63が設けられている。 各シールダイヤフラム58.59の間に形成されている
空間、つまり、内室52、各貫通孔57.60 、各受
圧室61.62内には、非圧縮性流体たとえばシリコー
ンオイルが充填されている。このシリコーンオイルを介
して、シールダイヤフラム58.59に作用する圧力が
検出器50のダイヤフラムに伝達される。 第3発明に係る静電容量式差圧検出器の実施例について
以下に図面を参照しながら説明する。 第9図は一実施例の断面図、第2図は同じくその主要部
材の正面図である。第9図、第10図において、この一
実施例が第6図に示した従来例と異なる点は、各導電性
板12.17のダイヤフラム10例の対向表面に、その
直径に沿って多溝12a、17aが各導圧孔25.27
と交差して形成されていることである。したがって、第
6図におけるのと同じ部材には同じ符号が付けである。 一実施例の動作について第12図を参照しながら説明す
る。同図は過大な差圧を受けて変位したダイヤフラム1
0が導電性板12と接触する箇所の周辺を詳細に示す断
面図である。同図において、ダイヤフラム10の左側面
の中心部が導電性板12の右側面に押圧され接触してい
る。しかし、第13図における従来例のときと異なり、
同時に導圧孔25がらの導入圧が、溝12aを介してダ
イヤフラム10の左側面に作用している。このダイヤフ
ラム1oの左側面に作用している導入圧によって、過大
差圧が除去されたときのダイヤフラム変位の復帰は極め
て追従性良く、つまり応答性良くおこなわれる。 ところで、ダイヤフラム変位の追従性ないし応答性を良
くするには、溝12aの幅はなるべく広い方が有利であ
るが、他方では溝12aの幅が広いと導電性板12の表
面積をその分だけ減少させるため、導電性板12とダイ
ヤフラムIQとの間に形成される静電容量が減少するこ
とになり、その点で不利になる。したがって、設計上ダ
イヤフラム10の変位の応答性と静電容量との折衷が図
られることになる。以上のことは、導電性板17につい
ても同様に言えることである。 第11図は別の実施例の各導電性板12.17の正面図
で、この別の実施例で多溝12a、12b 、17a、
17bが各導圧孔25.26と交差し、かつ互いに十文
字に交差するように形成される。これによって、導入圧
をダイヤフラム10の異なる箇所に同時に作用させるか
ら、一実施例におけるよりダイヤフラム10の変位の復
帰追従性ないし応答性を良くする。もっとも、十文字の
溝を設けることによる静電容量上の不利があるので、先
程述べたような設計上の折衷を図る必要がある。 第4発明に係る静電容量式差圧検出器の実施例について
以下に図面を参照しながら説明する。 第15図はこの実施例の断面図である。同図において、
この実施例が第6図の従来例と異なる点は、第1に中心
部に導圧孔81をもつ基板80が、固定電極15に属す
る導電性板14の左側面に、その周縁部でガラス接合部
42を介して接合されること、第2に導体31の代わり
に導体34が導電性板14と基板40とを跨ぐ形でその
外周部に設けられること、である、なお、第1図におけ
る部材で、第3図におけるのと同じものには同じ符号を
付けである。 なお、基板40は絶縁体、導体のいずれでもよいが、こ
こでは製作し易さと温度変化に対する影響の抑制とのた
めに、導電性板14と同じ導電性材料たとえばシリコン
で作られる。ガラス接合部42は、Al−3t共晶によ
る接合部であってもよい。また、導体34によって、基
板40と導電性板14とは同電位になる。 第16図は前記実施例を組み込んだ差圧検出装置の断面
図である。同図において、この差圧検出装置が第5図に
示した差圧検出装置と異なる点は、有底円筒体71が従
来の有底円筒体51と代わったこと、内室72が従来の
絶縁室52と代わったこと、貫通孔73が従来の貫通孔
60と代わったこと、である。 要するに、検出器82の横方向寸法が、先の検出器50
より基板80が付加された分だけ大きくなったことに関
連する。 この実施例の動作について、第15図を主に、第16図
を補助的に参照しながら説明する。第15図において、
左側からの圧力P1に対して右側からの圧力P2の方が
非常に大きいとする。圧力P2は同時に、第16図に示
すように検出器70の外周にも作用する。したがって、
基板80の左側面には圧力P2が、同じくその右側面に
は圧力Piが作用することになり、その差圧(=P2−
PL )  によって基板80は、右方向に凸に湾曲す
るように変位する。これに対し、各固定電極15.20
は、その各側面に作用するのがそれぞれ同一な各圧力P
L、P2であるから、変位することがない。 その結果、ダイヤフラム10と各固定電極15.20と
で形成された各静電容量は正確に差動的に変化すること
になり、0ω式による演算によって、検出器82に係る
差圧信号は、差圧に対して正確な直線性を示すことにな
る。 第5発明に係る実施例について以下に図面を参照しなが
ら説明する。第17図はこの実施例の断面図である。第
17図において、各固定電極85.86を構成する各絶
縁板83.88は、その材料が熱膨脹係数の異なる二つ
のセラミックスを混合、焼成してつくられ、合成的な熱
膨脹係数をシリコンのそれに極めて近似させである。そ
の外の部材は既に述べた従来例におけるのと同じであり
、それと同じ符号を付けである。 いま、コージライトとムライトとの配合比率を種々変え
て、そのときの混成セラミックスの熱膨脹係数と、シリ
コンのそれとの差値を求めると、第19図に示すように
なる。第19図において、横軸のCはムライトの比率(
χ)、継軸のβは混成セラミックスの熱膨脹係数とシリ
コンのそれとの差値である。第19図から明、らかなよ
うに、ムライトの比率Cが50%以上になると、β=±
10−’/”C以下になる。 (1d)弐から、α−2,71X10−b/’Cを、ま
た(2d)式から、σ=0.43kg/mm”をそれぞ
れ求め、これらの多値と(3)式とから、W/Gを求め
ると、微小差圧測定用の0.1m水柱用の場合には、1
20°C変化に対して47%の変化となって、従来例の
82%に比べて約半分になる。 ところで、第19図において、ムライトの比率Cが80
%のときには、βはほぼ零になり、前記よりさらに温度
変化の影響は抑制され、温度特性は向上する。 第20図、第21図は第6発明の実施例に用いられるダ
イヤフラムチップを示す。第20図はその断面図、第2
1図はその平面図である。第20図において、91はシ
リコン製ダイヤフラムチップ、92は円環状溝部であり
、図の上下各面に対称に設けられ、この溝部92を除い
た部分が特許における環状可撓部である。93は固定電
極との間にコンデンサを形成する部分で、圧力を受けた
ときに平行移動的に変位する特許における変位部である
。94は図示してない支持体にガラス接合などの方法で
接合される特許における接合部である。チップ91は9
mm角の大きさで、天板厚は使用レンジにより0.2m
mから31のものが適宜使用される。溝部92は内径4
.2mm、外径7.On+nで、厚さは使用レンジによ
り30μmから1.51%mOものが使用される。 次に、このようなダイヤフラムの製作工程を第22図(
a)〜(濁の各製作工程図を用いて簡単に説明する。ま
ず、必要な板厚と比抵抗をもつシリコンウェハ101を
準備しく同図(a)参照)、その両面にエツチングのた
めの各保護膜111,112を蒸着や塗布法などにより
被着する(同図(b)参照)。次に、フォトエツチング
あるいは機械加工により、溝部を形成するべき部分の保
護膜を除去しく同図(C)参照)、機械加工の場合は必
要な深さまで加工する(同図(d)参照)。その後、ウ
ェットエツチングあるいはドライエツチングにより、必
要な厚さになるまでエツチングしく同図(e)参照)、
その後に保護膜を除去しく同図げ)参照)、切断してダ
イヤフラムチップ91が完成する(同図(6)参照)。 第23図はこのようなダイヤフラムを用いて構成した静
電容量式差圧検出器の一実施例の断面図であり、100
がダイヤフラムである。他の部分は第25図と全く同じ
である。 さて、この一実施例において、溝92の内径が4.2m
m  同じくその外径が7.0mm、ダイヤフラム10
0の元板厚に対する溝部92の残存部板厚の割合である
厚さ比が3の場合には、ガラス接合部4A。 5Aの内縁部の最大応力は、溝部42の両端で発注する
最大応力の約179となる。一方、発明者の実験結果に
よれば、ガラス接合部4A、5Aの端部のシリコンの最
小破断強度は10kgf/mm”程度であり、溝部92
の最小破断強度は100kgf/mm2である。この1
00kgf/mm2という値は文献によれば、シリコン
が本来もっている破断強度と同等であり、ガラス接合部
4A、5Aの強度はシリコン本来の強度の10%程度の
強度に低下していることを示している。この強度の低下
原因は、前工程におけるシリコンウェハ表面の損傷によ
るか、ガラス接合に伴う応力集中の影響によるかの少な
くともいずれかと考えられる。 以上のように、厚さ比が3のときには、ガラス接合部4
A、5Aの端部と溝部92とのそれぞれの発生最大応力
と破断強度との比はバランスがとれ、シリコンの機械的
強度を有効に生かすことができる。なお、厚さ比をさら
に大きくすれば、ガラス接合部4A、5Aの機械的破壊
の心配はな(なり、溝部92の強度だけに注目すればよ
いことになる。 また、この一実施例のように、溝部92の巾を1.4m
mとし、厚さ比を3とすると、各固定電極2A、3^と
対向してコンデンサを構成するダイヤフラム100の変
位部としての中心部の動きが、はぼ平行移動的になる。 具体的には、ダイヤフラム100が圧力を受けて変位す
る場合、溝部92の変形に基づく変位量に比べて、変位
部の反り量は1割以下に抑えられ、平行移動に近い動き
となる。この効果は、溝部92の巾を広くすればするほ
ど、また厚さ比を大きくすればするほど、大きくなる。 さらにまた、溝部92で変位部を限定しているため、溝
部92の加工にフォトエツチングなどの加工精度の高い
加工方法を採用することにより、変位部の面積を高精度
に製作でき、コンデンサの静電容量のバラツキを低減さ
せて検出器の測定精度を高めることができる。 溝部92の加工にフォトエツチングなどの加工精度の高
い加工方法が採用できるので、溝部92の形状1寸法、
同軸度1表裏各面の対称性などをともに正確に製作する
ことができる。したがって、平板状ダイヤフラムでは精
度が出しにくかったダイヤフラム支持部の位置精度が大
巾に向上し、先程の測定精度の向上をさらに支援する。 次に、検出器の大きさを実施例と同じ911IIll角
とした場合には、4.9+eH20以下の低圧・低差圧
レンジでは、平板状ダイヤプラムのときは、ダイヤフラ
ムが100μ−以下の板厚となり、加工、取り扱いとも
に非常に困難になる。これに対して一実施例における溝
付きダイヤフラムにすれば、その板厚を取り扱いの容易
な200μm以上にすることができ、検出器の小形化の
ために非常に有効である。 ところで、ダイヤフラム100の溝部92の底面は平面
状であるが、これに限定されることはなく、一般にはこ
の部分の板厚が少なくとも部分的に薄くなればよいわけ
で、これ以外の形状がとり得る。 第24図はこのようなダイヤフラムを用いて構成した静
電容量式差圧検出器の別の実施例の断面図である。この
別の実施例は、前記の一実施例において検出信号の直線
性向上を図ったもので、主な構成を説明すると、前記と
同じダイヤフラム100と、一対の各固定電極15.2
0とが配設される。ダイヤフラム100は、一対の各固
定電極15.20の各導電性板12.17と適当を空隙
29.30を介して対向するよう配設され、この各導電
性板12.17を取り囲んで、各絶縁板13.18に接
合されている支持体21.22と、ダイヤフラム100
とが、ガラス接合部11.16によって接合される。2
5 、26はダイヤフラムに各圧力P1.P2を導くた
めの導圧孔であり、その各内面には導体膜27.28が
被覆されて、これが各導電性板12.17と各導電性板
14.19とをそれぞれ電気的に接続する。 なお、ダイヤフラム100に基づくこの別の実施例の作
用ないし効果は、支持体21.22が固定電極15.2
0からそれぞれ電気的に絶縁されているため、第26図
の等価回路におけるCsa、  Csbが大幅に低減で
きて測定精度が大幅に向上することである。 また、これ以外は先程の一実施例と全く同じである。
【発明の効果】
したがって、第1.第2の各発明によれば、従来の技術
に比べ次のようなすぐれた効果がある。 (1)良好な直線性をもつとともに、測定精度の再現性
が良い、言いかえればバラツキが少ない。 (2)過大圧時に固定電極側と接触してもダイヤフラム
が損傷を受けるおそれがない。 (3)  (1)項に関連して、検出器の製品歩留り率
が高く安定供給が可能となる。 第3発明においては、ダイヤフラムの一方の表面が部分
的に、過大な差圧によって対向する固定電極表面に強く
押圧されても、同時にこの固定電極側の導入圧が、導圧
孔と交差して形成された溝を通して対向するダイヤフラ
ム表面に作用している。したがって、このダイヤフラム
表面に作用している導入圧が、過大差圧が除去されたと
きのダイヤフラム変位の復帰追従性つまり応答性を良く
する、しかもその手段が簡単で追加的に実施しやすい、
というすぐれた効果がある。 第4発明においては、基板は、その各側に作用する圧力
の差によって変位するが、各固定電極は、その各側に作
用する圧力がそれぞれ同一であるから、差圧によって変
位することがなく、ダイヤフラムと各固定電極とで形成
された各静電容量は正確に差動的に変化する。 したがって、第4発明によれば、従来の技術に比べ、差
圧が大きいときでも検出信号の差圧に対する直線性が良
く、しかも構造的に簡単であるから製造しやすくコスト
低減が図れる、というすぐれた効果がある。 第5発明においては、ダイヤフラムと、固定電極を構成
する両側の第1.第2の各導電性板と、中間の絶縁板と
が、いずれも同じか近似の熱膨脹係数をもつ材料からな
るから、周囲温度の変化によって、ダイヤフラムに半径
方向の応力が発生せず、この応力に起因するダイヤフラ
ムの変位は生じることがなく、差圧信号のスパン特性と
直線性が維持される。 したがって、第5発明によれば、従来の技術に比べ、と
くに微小差圧測定に対しても全体の構成寸法を大きくす
ることなく、差圧信号のスパン特性と直線性に対する周
囲温度の影響を抑制することができ、検出器の温度特性
を向上させることができる、というすぐれた効果がある
。 第6発明によれば、従来の技術に比べ次のようなすくれ
た効果がある。 (1)ダイヤフラムに発生する応力水準が低下し機械的
破壊のおそれが少なくなる。 (2)測定のバラツキの減少と精度の向上が図れる。 (3)ダイヤフラムの取扱いと組立が容易になる。 (4)検出器の小形、軽量化が図れる。
【図面の簡単な説明】
第1図は第1発明に係る実施例の断面図、第2図はこの
実施例において形成される静電容量の模式図、 第3図はこの実施例の製作工程を示し、同図(a)〜(
f)は各製作工程図、 第4図はは第2発明に係る実施例の断面図、第5図は第
1発明に係る実施例を組み込んだ圧力検出装置の断面図
、 第6図は一従来例の断面図、 第7図はこの一従来例において形成される静電容量の模
式図、 第8図はこの一従来例における静電容量に係る等価回路
図で、同図(a)は整理前の等価回路図、同図(b)は
整理後の等価回路図、 第9図は第3発明に係る一実施例の断面図、第10図は
この一実施例の主要部材の正面図、第11図は別の実施
例の主要部材の正面図、第12図は一実施例の動作を示
す要部の断面図、第13図は一従来例の動作を示す要部
の断面図、第14図は一従来例におけるダイヤフラム・
固定電極間の接触面積の差圧に対する特性図、第15図
は第4発明に係る実施例の断面図、第16図はこの実施
例を組み込んだ差圧検出装置の断面図、 第17図は第5発明に係る実施例の断面図、第18図は
ダイヤフラム変位の熱応力に対する特性図、 第1?図はコージライト・ムライトの熱膨脹係数の混成
比率に対する特性図、 7第20図は第6発明に係る各実施例に共通に用いられ
る主要部材の断面図、 第21図は同じくその正面図、 第22図は同じくその製作工程を示し、同図(a)〜(
2)は各製作工程図、 第23図は第6発明に係る一実施例の断面図、第24図
は同じくその別の実施例の断面図、第25図は別の従来
例の断面図、 第26図はこの別の従来例における静電容量に関する等
価回路図である。 符号説明 10.41.100  :ダイヤフラム、12.14.
1?、19,121,171  :導電性板、12a、
17b  :溝、13,18.42.43,83,88
 :絶縁板、15.20.85,86,151.200
 :固定電極、23.24  :円環状溝、25,26
.81 :導圧孔、27.28  :導体膜、29.3
0,48,49 :空隙、31.32.33,421.
431 :導体、42a、43a  :環状凹部、42
b、43b  :面取り部、42c、43c  :平面
部、50.82  :検出器、80:基板、91:ダイ
ヤフラムチップ、92:溝部、93:変位部、94:接
合部、 121a、121b、171a、171b、211a、
221a  :面取り部、50検出都 14.19,121.171 :肩剣扱、 1B、18
:蒋信詠121ia、12tb、171a、171b、
211a、221a: 面nマリイカ)χ10 富2図 第3図 A 里4 図 % 図 第71刀 亮8図 12.17:菫電+i敬 屍 9防 不10図 亮11Σ 叩 欣獣器 12.14,17,19 :辱電柱該 13.18 :馳部 第17図 勢 第18図 不19図 第20図 畜21図 (a) 2 (g) 纂22図 丙23V 1 22 :交刊篠 25.2G:苓圧3し 第24図 第25図 不262

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)圧力に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設される固定電極との間にそれぞれ形成
    される静電容量に基づき前記圧力が測定される検出器に
    おいて、前記各固定電極は、前記ダイヤフラムの中心部
    表面に近接対向する第1の導電性板と;この第1導電性
    板の外周面から隔たってこれを取り囲みかつ前記ダイヤ
    フラムの周縁部表面と接合される環状支持体と;この支
    持体と前記第1導電性板との、前記ダイヤフラムとは逆
    側の各表面に共通に接合される絶縁板と;この絶縁板の
    他方の表面に接合され前記第1導電性板と電気的に接続
    される第2の導電性板と;を備え、前記の第1、第2の
    各導電性板と絶縁板との中心部を貫通して前記圧力用導
    圧孔があけられ、かつこの導圧孔の前記ダイヤフラム側
    の開口稜線部と前記第1導電性板の前記ダイヤフラム側
    の外周稜線部と前記支持体の前記ダイヤフラム側の内周
    稜線部とにそれぞれ凹状面取りが施されることを特徴と
    する静電容量式差圧検出器。 2)圧力に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設される固定電極との間にそれぞれ形成
    される静電容量に基づき前記圧力が測定される検出器に
    おいて、前記各固定電極は、中心部を貫通する前記圧力
    用導圧孔と、この導圧孔の前記ダイヤフラム側の開口稜
    線部に施される凹状面取り部と、この凹状面取り部と隣
    接しその遠心外方に前記ダイヤフラムの表面と平行にか
    つこれと近接対向して環状に設けられる中心平面部と、
    この中心平面部と隣接しその遠心外方に設けられる環状
    凹部と、少なくとも前記中心平面部の表面に施され前記
    静電容量の取出し用を兼ねる導電性膜とを備え、前記環
    状凹部の遠心外方に位置する周縁部において前記ダイヤ
    フラムと電気的に絶縁して接合される絶縁体であること
    を特徴とする静電容量式差圧検出器。 3)差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそ
    れぞれ形成される静電容量に基づいて前記差圧が測定さ
    れる検出器において、前記各固定電極は、その導圧孔と
    交差して前記ダイヤフラム側の表面に形成された溝を備
    えることを特徴とする静電容量式差圧検出器。 4)差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそ
    れぞれ形成される静電容量に基づき前記差圧が測定され
    る検出器において、一方の前記固定電極の外側表面と所
    定距離を隔ててその周縁部で接合されるとともに導圧孔
    をもつ基板を備え、他方の前記固定電極の側から導入さ
    れる圧力を同時に前記の基板、各固定電極の外側表面に
    も作用させるようにしたことを特徴とする静電容量式差
    圧検出器。 5)差圧に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設され導圧孔をもつ固定電極との間にそ
    れぞれ形成される静電容量に基づき前記差圧が測定され
    る検出器において、前記各固定電極は、前記ダイヤフラ
    ムの中心部表面に近接対向しこのダイヤフラムに近似し
    た熱膨脹係数をもつ第1の導電性板と;この第1導電性
    板の外周面から隔たってこれを取り囲み前記ダイヤフラ
    ムの周縁部表面に接合される環状支持体と;この環状支
    持体と前記第1導電性板との、前記ダイヤフラムとは逆
    側の各表面に共通に接合され前記第1導電性板に近似し
    た熱膨脹係数をもつ絶縁板と;この絶縁板の他方の表面
    に接合され前記第1導電性板と同じ材料からなりかつこ
    れと電気的に接続される第2の導電性板と;を備えるこ
    とを特徴とする静電容量式差圧検出器。 6)圧力に応じて変位するダイヤフラムとこのダイヤフ
    ラムの各側に配設される固定電極との間にそれぞれ形成
    される静電容量に基づいて前記圧力が測定される検出器
    において、前記ダイヤフラムは、中心部に位置し前記圧
    力に応じて主に変位する変位部と、周縁部に位置し前記
    各固定電極と電気的に絶縁して接合される接合部と、こ
    の接合部と前記変位部とを凍結する、幅がこの変位部の
    直径の1/2ないし1/5であり、厚さがこの変位部の
    厚さの1/2以下である環状可撓部とを一体的に備える
    ことを特徴とする静電容量式差圧検出器。
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