JPH03174231A - ポリエーテルケトン製半透膜 - Google Patents

ポリエーテルケトン製半透膜

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JPH03174231A
JPH03174231A JP2302295A JP30229590A JPH03174231A JP H03174231 A JPH03174231 A JP H03174231A JP 2302295 A JP2302295 A JP 2302295A JP 30229590 A JP30229590 A JP 30229590A JP H03174231 A JPH03174231 A JP H03174231A
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ミヒャエル、ハウプス
Hansotto Drotloff
ハンゾット、ドロートロフ
Juergen Wildhardt
ユルゲン、ウィルトハルト
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Hoechst AG
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、ポリエーテルケトン製の半透膜およびその製
造方法に関する。
酢酸セルロース(レブおよびスリラジャンによる、S、
スリラジャン、逆浸透、ロゴスプレス、ロンドン197
0参照)および疎水性重合体(US−A−3,615,
024)製の非対称薄膜が紹介されて以来、特に水に溶
解している低分子量および高分子量成分を分離するため
の、数多くのmsが開発され、提案されている。これら
の薄膜の構造および可能な用途は文献(デサリネーショ
ン、35 (1980) 、5−20)に記載されてお
り、これらの薄膜も工業および医学用途に効果的に使用
されている。
記載されている薄膜の多(は、特殊な問題を解決するの
に特に適した特性を有している。個々の薄膜の化学組成
および構造的配置が異なっているために、個々の薄膜の
最良の適性は、非常に特殊な分離上の問題に限定されて
いる。このために、新しい問題が生じる度に、基本的に
、新しい薄膜が必要になっている。
EP−A−0082433は、公知の薄膜の長所と短所
を総括的に調査している。例えば、酢酸セルロース製の
親水性非対称薄膜は十分な非吸着性を示すが、熱的およ
び化学的安定性は不十分である。ポリスルホンまたは類
似の重合体で作った薄膜は、熱的および化学的安定性は
極めて良いが、有機溶剤の作用に対して敏感である。
セルロース再生材料で作った薄膜は、親水性並びに耐溶
剤性を有するが、酸またはアルカリ性媒体中で容易に加
水分解され、微生物の攻撃を受けやすい。
DE−A−3321860は、化学的に安定な、部分的
にスルホン化したポリエーテルケトン製の薄膜を記載し
ている。これらの薄膜は、アセトンやテトラヒドロフラ
ン(THF)の様な有機溶剤の作用により、溶解はしな
いが、著しく膨潤し、それらの薄膜の特性が不可逆的に
変化する。
本発明の目的は、けん化や酸化剤および熱に対して耐性
があり、その特性が有機溶剤中でも変化しない半透膜を
提供することである。
この目的は、冒頭にのべたような薄膜において、その主
成分が、下記の式の反復単位からなり、ここでXは を表し、RSRSRおよびR4は、同一23 または異なっており、H”iアルキル、アリール、オキ
シアリール、NO2、CN1 0ゲン(アルキル−Cl−04) NR2または八 を表し、Zは −o−1−S−−CH2−−CF2 の原子団の一つであることを特徴とする薄膜を提供する
ことによって達成される。
例えば、求核性芳香族重縮合によるポリエーテルケトン
の調製は、公知であり、EP−A−0001879およ
びGB−A−1414421に記載されている。上記の
ポリエーテルケトンは、公知の方法(DE−A−373
1607)で、双極性芳香族溶剤中で、1.4−ビス(
4−フルオロベンゾイル)ベンゼンを三官能フェノール
のアルカリ金属塩に作用させることによって調製するこ
とができる。同様にして、共重合体も1.4−ビス(4
−フルオロベンゾイル)ベンゼンを三官能フェノールの
アルカリ金属塩の混合物に作用させることによって調製
することができる。ランダムまたはブロック共重合体は
通常の技術によりこの方法で調製できる。
ポリエーテルケトンの平均分子量は、一般に、2.00
0〜500,000、好ましくは5.000〜100,
000、特に10,000〜60,000の範囲内であ
る。
上記のポリエーテルケトン自体は本発明の目的ではなく
、本発明は、該ポリエーテルケトンを主成分として含む
半透膜を目的としている。
ポリエーテルケトンから本発明に係わる薄膜を調製する
には、まず重合体を溶解し、濾過し、脱気する。好適な
溶剤の例としては、H2SO4、CF  −So  H
SHFSCl2HC−COOH3 および、特に、Vl量比で約4=1のCl2HC−CO
OHとH2S O4の混合物がある。この溶液から、公
知の手段により、転相法(ロバートE、ケスティング、
「合成高分子薄膜」、第2版、1985.237ページ
以降)を使用して、半透膜を調製する。この方法では、
重合体溶液を、液体層として本質的に平らな基材上に広
げる。この平らな基材は、例えばガラス板または金属ド
ラムでよい。
次いで、この液体層に沈殿液を作用させる。この沈殿液
は、その溶液の溶剤と混合できるが、その重合体溶液に
溶解している重合体は該沈殿液に不溶であり、半透膜と
して沈殿する。沈殿液は、例えば水でよい。
この方法を実施する際、沈殿液を沈殿した薄膜に、その
薄膜中に本来含まれていた溶剤が本質的にすべて該沈殿
液により置き換えられるまで作用させるのが有利である
。その後、得られた薄膜を、例えばその薄膜を空気流中
で直接乾燥させるか、あるいはその薄膜をまずグリセロ
ールの様な可塑剤で処理し、ついでそれを乾燥させるこ
とによって沈殿液から分離する。
流動性の媒体に対して透過性のある基材層の上に位置す
る薄膜を調製するには、薄膜層の形成に使用する基材が
、例えば合成材料の不織布または紙ウェブであること、
および、形成した薄膜層をその基材上に残すこと以外は
、上記の方法を繰り返す。しかし、基材を使用せずにま
ず薄膜を調製し、次いでその薄膜を透過性の薄膜に付け
ることもできる。
中空フィラメントまたは毛細管も、このポリエーテルケ
トン溶液から、公知の方法で、重合体溶液を適当な形状
を持つ輪状ダイスまたは中空の針ダイスを通して、凝固
液に紡糸することにより調製できる。通常の技術により
、外皮または内皮あるいは外皮と内皮の両方が形成され
るように、工程パラメータを選択することができる。こ
の種の中空フィラメントまたは毛細管の壁厚は、一般に
20〜500μ麿の範囲内にある。
凝固薄膜にグリセロールを含浸する場合、グリセロール
含有量は、好ましくは薄膜の総重量に対して5〜60%
に合わせ、含浸した薄膜は例えば約50℃の温度で乾燥
する。
本発明に係わる薄膜は、この薄膜上または中に直接作る
選択透過層のための支持薄膜としても好適である。例え
ば、官能基を持つ重合体(例えばシリコーン、セルロー
スエーテル、フッ化共重合体)からなる1μm未満の薄
い層を水の上に広げ、その水から薄膜表面に付け、選択
透過性を改善するために、例えばジイソシアネートとの
反応により、固定する。同様に、本発明に係わる薄膜は
、反応性分子用の支持体として、例えば、この分野で公
知のように、酵素あるいはヘパリンの様な凝固防止剤を
固定するための支持体としても好適である。さらに、こ
の薄膜は、例えば有機溶剤に使用する選択透過層用の支
持体に適している。その様な複合材料薄膜は、気体の分
離あるいは透析蒸発の分野に使用する。
本発明に係わる薄膜の厚さは、基板の層は除いて、10
〜300μ曙、特に20〜120μmの範囲内である。
以下に示す実施例により本発明をさらに詳細に説明する
が、これらの実施例に限定するものではない。
実施例1 下記の構造 および固有粘度1. 0 dl/g  (96%濃度の
H2S O4中、25℃で測定)を有する150gのポ
リエーテルケトンを、ジクロロ酢酸とH2SO4の混合
物(重量比で4:1)850gに30℃で攪拌しながら
溶解した。約10時間後、この溶液を濾過し脱気した。
得られた溶液の一部をH2O中に注ぎ、沈殿した重合体
をH2Oで十分に洗浄し、真空中、100℃で一晩乾燥
させた。この溶解し、再沈殿させた重合体の分析により
、下記の第1表に示すように、出発重合体の分析と事実
上同じデータが得られた。
第1表 Tg二     重合体のガラス転移温度TJ    
 重合体の融点 %Cl:%S: 重合体の元素分析データ実施例2 実施例1に記載するようにして、重合体溶液を調製し、
濾過し、脱気した。得られた、濃度の異なる透明な溶液
(詳細は第2表参照)を、US−A−4,229,29
1に記載する流し込み装置を使用して、ポリプロピレン
不織基材(FO2430(R)フロイデンベルグ製、1
00 g/m2)上に塗布し、水中で14℃で凝固させ
た。その後、この薄膜を40%濃度のグリセロール水溶
液に浸し、50℃で乾燥させた。この乾燥し、支持体補
強した薄膜は、厚さが280μ−であった。
この様にして調製した薄膜の薄膜特性も同じく下記の第
2表にまとめる。
機械的な透過性(限外濾過)および溶解した高分子に対
する保持能力を、攪拌円筒形セル(700rpls 3
50 ml 、薄膜表面積43cd)中で、圧力3.0
バール、および20℃で測定した。保持能力Rは、 ”−02−100% 一 l で定義され、 Clは、試験水溶液の濃度であり、 C2は、浸透物の濃度である。
試験溶液は、BASFから「コリトンに30(R)Jと
して市販されている2%濃度のポリビニルピロリドン水
溶液であり、ポリビニルピロリドンの分子量は49.0
00ダルトンである。
濃度は、ヘラウス社から入手できるデジタル濃度測定器
(DMA 804801 (R))で測定した。
第2表 実施例3 実施例2の薄膜No、 2を水に24時間浸漬し、次い
で乾燥し、シリコーンゴムフィルム用の支持体として使
用した。この目的のために、乾燥した支持薄膜に、ヘキ
サン中2%濃度のシリコーン溶液(Qff1m部(7)
VP 7[180Aと1重量部(7)VP 7B80B
ワラカー社から入手)からなる約80μ膳厚の被覆を施
し、その溶剤を蒸発させて除き、徨られた複合材料薄膜
を乾燥炉中で約70℃で16時間加熱した。次いで、幾
つかの気体について、気体の流星を測定した。下記の値
が得られた。
実施例4 実施例2の薄wA3(第2表参照)を、24時間の水処
理の後、アセトン中に数時間浸漬し、細孔中に存在する
水をほとんど完全にアセトンで置き換えた。次いで、こ
の薄膜を再び水中に数時間浸漬した。第3表に示すデー
タは、この薄膜の特性が有機溶剤のアセトンの作用によ
り影響を受けないことを示している。
第3表 実施例5 50gの下記の構造 および固有粘度0. 6 dl/gを有するポリエーテ
ルケトンを280gのCl2HC−COOHに25℃で
溶解し、濾過し、脱気した。こうして得られた15%濃
度の溶液から、実施例2に記載するようにして14℃で
薄膜を調製した。得られた薄膜は下記の特性を有してい
た。
3バールにおける H2Oの流れ:     1281/a2−h2%PV
P  K2Oに 対する保持能カフ   97%

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、ポリエーテルケトンから作られる薄膜であって、そ
    の薄膜が、下記の式の反復単位を有する重合体からなり
    、 ▲数式、化学式、表等があります▼ ここでXは ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ を表し、 R_1、R_2、R_3およびR_4は、同一、または
    異なっており、H、アルキル、アリール、オキシアリー
    ル、NO_2、CN、NR_2またはハロゲンを表し、 Zは −O−、−S−、−CH_2−、−CF_2−、▲数式
    、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、表等が
    あります▼、−SO_2−、または−CO−の原子団の
    一つであることを特徴とする半透性薄膜。 2、R_1およびR_2が同一であり、それぞれが水素
    を表すことを特徴とする、請求項1に記載する薄膜。 3、Zがメチレン基または2,2′−プロピレン基を表
    すことを特徴とする、請求項1または2に記載する薄膜
    。 4、ポリエーテルケトンの重量平均分子量が、2,00
    0〜500,000、好ましくは 5,000〜100,000、特に10,000〜60
    ,000の範囲内であることを特徴とする、請求項1〜
    3のいずれか1項に記載する薄膜。 5、まず重合体を溶剤に溶解し、濾過し、脱気し、次い
    で、転相法を使用して薄膜を調製する、請求項1〜4の
    いずれか1項に記載する薄膜を製造する方法であって、
    溶剤として、H_2SO_4、CF_3−SO_3H、
    HF、Cl_2HC−COOHまたはCl_2HC−C
    OOHとH_2SO_4の混合物を使用することを特徴
    とする方法。 6、使用する溶剤が、H_2SO_4または重量比で4
    :1のCl_2HC−COOHとH_2SO_4の混合
    物であることを特徴とする、請求項5に記載する方法。 7、転相法における沈殿剤として水を使用することを特
    徴とする、請求項5または6に記載する方法。 8、請求項5〜7のいずれか1項に記載する方法を使用
    して調製した、請求項1〜4のいずれか1項に記載する
    薄膜の限外濾過における使用。 9、請求項5〜7のいずれかに1項記載する方法を使用
    して調製した、請求項1〜4のいずれか1項に記載する
    薄膜の、気体分離薄膜または透析蒸発薄膜用の支持薄膜
    としての使用。
JP2302295A 1989-11-07 1990-11-07 ポリエーテルケトン製半透膜 Pending JPH03174231A (ja)

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