JPH03173771A - 鋼鉄基体に硼素層を塗布する方法及び硼素層を備える工具 - Google Patents
鋼鉄基体に硼素層を塗布する方法及び硼素層を備える工具Info
- Publication number
- JPH03173771A JPH03173771A JP2300906A JP30090690A JPH03173771A JP H03173771 A JPH03173771 A JP H03173771A JP 2300906 A JP2300906 A JP 2300906A JP 30090690 A JP30090690 A JP 30090690A JP H03173771 A JPH03173771 A JP H03173771A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- aluminum
- boron
- steel
- thickness
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 45
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 45
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 35
- 239000010959 steel Substances 0.000 title claims abstract description 35
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 28
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title abstract description 10
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 44
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 30
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 9
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 5
- -1 aluminum compound Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N triisobutylaluminium Chemical compound CC(C)C[Al](CC(C)C)CC(C)C MCULRUJILOGHCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N diboron Chemical compound B#B ZOCHARZZJNPSEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 abstract description 3
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract description 3
- 229910001315 Tool steel Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 abstract 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 64
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 5
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 3
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N B#[Ti]#B Chemical compound B#[Ti]#B QYEXBYZXHDUPRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910033181 TiB2 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000000399 optical microscopy Methods 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 1
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 1
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 1
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000004506 ultrasonic cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N vanadium atom Chemical compound [V] LEONUFNNVUYDNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/06—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material
- C23C16/18—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of metallic material from metallo-organic compounds
- C23C16/20—Deposition of aluminium only
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/16—Metallic material, boron or silicon on metallic substrates or on substrates of boron or silicon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/28—Deposition of only one other non-metal element
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/922—Static electricity metal bleed-off metallic stock
- Y10S428/9335—Product by special process
- Y10S428/938—Vapor deposition or gas diffusion
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12535—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.] with additional, spatially distinct nonmetal component
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12736—Al-base component
- Y10T428/1275—Next to Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12757—Fe
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
- Cutting Tools, Boring Holders, And Turrets (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の分野〕
本発明は化学蒸着法((:V0法)を用いて鋼鉄基体に
硼素層を塗布するツノ法に関するものである。。
硼素層を塗布するツノ法に関するものである。。
本発明はまた鋼鉄から工具を作る方法に関し硼素層を備
える1:具に関4゛るものである。
える1:具に関4゛るものである。
化学蒸着((:VIl: t;I+emit;at v
apo旧deposiLion)は、被膜表面の適切な
形成方法である1、既知の応用例は例えば少なくとも摩
擦、浸食、腐食、酸化などに対して抵抗力4イ」する金
属表面」−の保護被膜を設けることである11化学蒸着
(1:VI))法において、固体物質を(一般に)加熱
された基体表面に気相状態で1またはl以−にの化学反
応の結果刊着する。この反応は前記基体表面−にあるい
は近傍において生じるであろう1.形成された前記固体
物質は被膜として前記基体表面に付着する。、化学蒸着
(以下CvOと称する)は、金属または合金の被膜を塗
布する応用性の高い方法で、その組成、構造、結晶粒塵
灰び前記被膜の純度を調整することが出来る。CvDは
特に、111雑な形状を有する物体に均質な層厚を有す
る被膜を塗布するのに特に適している。被膜の既知の例
は窒化チタン(TiN) 、酸化アルミニウム(八I、
1U3) 、炭化珪#(Si(:)灰び二硼化チタン(
Tin−)のような窒化物、酸化物、炭化物及び硼化物
である。硼素のような元素もまた(:v口を用いて基体
上に設けることが出来る3゜〔発明の背景〕 冒頭に記載のような方法はr Vapor l)t+p
osiLiurB (Jobn Wilcy、 New
York、 1g(i6) 349頁ないし350頁
、C6F、l’owel1等著から既知である。硼素は
高い高度、高い融点、高い耐磨耗性及び充分な耐化学性
のような多くの魅力的な特性を有する。。
apo旧deposiLion)は、被膜表面の適切な
形成方法である1、既知の応用例は例えば少なくとも摩
擦、浸食、腐食、酸化などに対して抵抗力4イ」する金
属表面」−の保護被膜を設けることである11化学蒸着
(1:VI))法において、固体物質を(一般に)加熱
された基体表面に気相状態で1またはl以−にの化学反
応の結果刊着する。この反応は前記基体表面−にあるい
は近傍において生じるであろう1.形成された前記固体
物質は被膜として前記基体表面に付着する。、化学蒸着
(以下CvOと称する)は、金属または合金の被膜を塗
布する応用性の高い方法で、その組成、構造、結晶粒塵
灰び前記被膜の純度を調整することが出来る。CvDは
特に、111雑な形状を有する物体に均質な層厚を有す
る被膜を塗布するのに特に適している。被膜の既知の例
は窒化チタン(TiN) 、酸化アルミニウム(八I、
1U3) 、炭化珪#(Si(:)灰び二硼化チタン(
Tin−)のような窒化物、酸化物、炭化物及び硼化物
である。硼素のような元素もまた(:v口を用いて基体
上に設けることが出来る3゜〔発明の背景〕 冒頭に記載のような方法はr Vapor l)t+p
osiLiurB (Jobn Wilcy、 New
York、 1g(i6) 349頁ないし350頁
、C6F、l’owel1等著から既知である。硼素は
高い高度、高い融点、高い耐磨耗性及び充分な耐化学性
のような多くの魅力的な特性を有する。。
このため、硼素は様々の鋼鉄工具1〕に耐磨耗性被膜と
して適切な選択である。硼素を例えば気体ジポランから
付着することが出来るので、Cvロ工程中反応温度は5
00℃以ドに保持することが出来る。。
して適切な選択である。硼素を例えば気体ジポランから
付着することが出来るので、Cvロ工程中反応温度は5
00℃以ドに保持することが出来る。。
このようにして、鋼鉄基体の機械的特性の劣化を防市す
ることが出来る。、CVt+法を用いて基体]−に硼化
物、炭化物及び窒化物を設けるときはl O011tあ
るいはl 01)0℃以1−のブ(lセス温度を必要と
し、これが前記鋼鉄基体の機械的特性に逆に影菅するで
あろう。
ることが出来る。、CVt+法を用いて基体]−に硼化
物、炭化物及び窒化物を設けるときはl O011tあ
るいはl 01)0℃以1−のブ(lセス温度を必要と
し、これが前記鋼鉄基体の機械的特性に逆に影菅するで
あろう。
上記既知の方法の欠点は比較的低い反応温度の結果前記
鋼鉄基体1−の付着されたIN素層の付着性が悪いこと
である1、このように悪い付着性のl1llll素層で
被覆された鋼鉄l具は多くの応用には適切ではない。
鋼鉄基体1−の付着されたIN素層の付着性が悪いこと
である1、このように悪い付着性のl1llll素層で
被覆された鋼鉄l具は多くの応用には適切ではない。
本発明の目的の−・−)はにv口法を用いて鋼鉄基体に
硼素層を塗布する方法を提供するもので、これにより上
記の欠点を除去することである。
硼素層を塗布する方法を提供するもので、これにより上
記の欠点を除去することである。
本発明によれば、この目的は°fルミニウトを中間層と
して用いることを特徴とする冒頭に記載のような方法に
より速成される。前記鋼鉄all素系にあける中間層と
してのアルミニウムの選択は、付着現象に関する材料特
性、すなわら熱膨張係数α及び弾性係数E(表■参照)
を考慮する場合、自明なことではない、。
して用いることを特徴とする冒頭に記載のような方法に
より速成される。前記鋼鉄all素系にあける中間層と
してのアルミニウムの選択は、付着現象に関する材料特
性、すなわら熱膨張係数α及び弾性係数E(表■参照)
を考慮する場合、自明なことではない、。
表!
M2は高速度切断用のt高速度、11:具鋼鉄であり、
鉄の他に炭素Cの0.11%、タングステンWの6%、
バナジウムVの2%、モリブデンMuO)5%及びクロ
ムC「の3%を含有する。熱膨張係数の差異は、M2−
^1界面における引張応力及び^i0界面にマ夕ける圧
縮応力を生じる1、更にまた、前記弾性係数の間にずれ
があることは、弾性係数の間の差が増大するに従い、応
力が増加するために付着力に対し、好ましくない彩りを
与える。好ましくない材料特性にもかかわらず、アルミ
ニウムは鋼鉄上の硼素のための充分な接名力改み要因と
なるべきことは明らかである。ここで鋼鉄とは鋼鉄の低
合金型及び高合金型と鉄とを意味すると理解されたい。
鉄の他に炭素Cの0.11%、タングステンWの6%、
バナジウムVの2%、モリブデンMuO)5%及びクロ
ムC「の3%を含有する。熱膨張係数の差異は、M2−
^1界面における引張応力及び^i0界面にマ夕ける圧
縮応力を生じる1、更にまた、前記弾性係数の間にずれ
があることは、弾性係数の間の差が増大するに従い、応
力が増加するために付着力に対し、好ましくない彩りを
与える。好ましくない材料特性にもかかわらず、アルミ
ニウムは鋼鉄上の硼素のための充分な接名力改み要因と
なるべきことは明らかである。ここで鋼鉄とは鋼鉄の低
合金型及び高合金型と鉄とを意味すると理解されたい。
本発明による方法の適切な実施例は前記アルミニウム中
間層は少なくともl 11 (l n mの厚さを有す
ることを特徴とする。rルミニウム層がloOnmより
も薄い場合及びこのアルミニウム層がスパッタリング又
は気相蒸着を用いて設けられる場合、しばしば多孔性で
あり、この結果最適の接着力は全く得られない。最良の
結果は30()ないし5110 n mの間の厚さを有
する゛j′ルミ7−ウム中間層で得られる。。
間層は少なくともl 11 (l n mの厚さを有す
ることを特徴とする。rルミニウム層がloOnmより
も薄い場合及びこのアルミニウム層がスパッタリング又
は気相蒸着を用いて設けられる場合、しばしば多孔性で
あり、この結果最適の接着力は全く得られない。最良の
結果は30()ないし5110 n mの間の厚さを有
する゛j′ルミ7−ウム中間層で得られる。。
一般に°rアルミニウム中間層厚過ぎると、接着力は減
少することになる3、更にまた、11&−アルミニウム
ー鋼鉄(ト^1−1eaf)系の硬さは減゛少する。。
少することになる3、更にまた、11&−アルミニウム
ー鋼鉄(ト^1−1eaf)系の硬さは減゛少する。。
前記アルミ−ラム中間層は、直流(口C)、高周波(R
t’)及びマグネトlIン・スパッタリングのような既
知のスパッタリング技術の全−Cが適するスパッタリン
グ技術を用い設けることが出来る。°rルミニウム層は
また気相蒸着を用いて設けることが出来る。
t’)及びマグネトlIン・スパッタリングのような既
知のスパッタリング技術の全−Cが適するスパッタリン
グ技術を用い設けることが出来る。°rルミニウム層は
また気相蒸着を用いて設けることが出来る。
他の既知の方法によれば、アルミ−ウドはアルミニウド
・化合物を溶解した有機溶媒から°rルミーウム層を被
着する電気メツキ法を用いて設けられる。
・化合物を溶解した有機溶媒から°rルミーウム層を被
着する電気メツキ法を用いて設けられる。
前記アルミニウム中間層を設ける他の適切なJJ法はt
:VO法である。lこの場合、°γルミニウノ・の被着
のために好適な反応物は、400℃の温度で°rアルミ
ニウム付着することの出来るトリイソブイチルアルミニ
ウムである1、特に、複雑な形状の基体の表面に、CV
D法は均質な層厚を得るのに適切である。
:VO法である。lこの場合、°γルミニウノ・の被着
のために好適な反応物は、400℃の温度で°rアルミ
ニウム付着することの出来るトリイソブイチルアルミニ
ウムである1、特に、複雑な形状の基体の表面に、CV
D法は均質な層厚を得るのに適切である。
本発明による方法の適切な実施例は、硼素層の層厚が少
なくとも7μmであることを特徴とする。
なくとも7μmであることを特徴とする。
前記付着力は1M素層の層厚が増加するに従って次第に
増加し、また前記付着力は約7μmの厚さを越えると一
定にとどまる。
増加し、また前記付着力は約7μmの厚さを越えると一
定にとどまる。
本発明による方法の実施例はCVIl法における気体硼
素化合物としてジボラン(E1211.)を用いること
を特徴とする。既に述べたように、これは基体に硼素層
を約400℃の比較的低い温度で付着するのを可能にす
る。塗布された前記硼素層のX線回折は、この層がγモ
ルフγス(amorpbuu8)であることを示す、。
素化合物としてジボラン(E1211.)を用いること
を特徴とする。既に述べたように、これは基体に硼素層
を約400℃の比較的低い温度で付着するのを可能にす
る。塗布された前記硼素層のX線回折は、この層がγモ
ルフγス(amorpbuu8)であることを示す、。
本発明の他の「1的は、とりわけ鋼鉄から製造される工
具で硼素層をイ1し1、この硼素層が前記鋼鉄基体に対
し非常に良好に伺ネjする1、具4促供することである
。
具で硼素層をイ1し1、この硼素層が前記鋼鉄基体に対
し非常に良好に伺ネjする1、具4促供することである
。
本発明によればこの目的は300nmないし5011n
mの間の厚さを有するrルミニウノ・層が鋼鉄と硼素層
との間に存在することを特徴とする工具により達成され
る。、既に述べたように、硼素は高い硬度高い耐磨耗性
及び充う)な耐化学性を有する元素である。、前記アル
ミニウド・中間層は、前記鋼鉄基体と前記硼素層との間
の優れた付着性を提供する。
mの間の厚さを有するrルミニウノ・層が鋼鉄と硼素層
との間に存在することを特徴とする工具により達成され
る。、既に述べたように、硼素は高い硬度高い耐磨耗性
及び充う)な耐化学性を有する元素である。、前記アル
ミニウド・中間層は、前記鋼鉄基体と前記硼素層との間
の優れた付着性を提供する。
300nmと500nmとの間の厚さを有する°rルミ
ニウム層が最適であることが見いだされる。、前記°r
ルミニウム層のより厚い厚さは、硼素(11)−アルミ
ニウム(^1)−鋼鉄系の硬さに望ましくない影マ!が
ある。前記°rルミニウム層の厚さが:I O(l n
mよりも薄くなると一般に付着性の減少となる。
ニウム層が最適であることが見いだされる。、前記°r
ルミニウム層のより厚い厚さは、硼素(11)−アルミ
ニウム(^1)−鋼鉄系の硬さに望ましくない影マ!が
ある。前記°rルミニウム層の厚さが:I O(l n
mよりも薄くなると一般に付着性の減少となる。
鋼鉄の時計ケースと金属硼化物層との間にアルミニウム
中間層を使用することは、スイス特許明細書第6004
07号により既知であることに注目された、い。前記ア
ルミニウムは少なくとも850℃の温度でのCVD法に
より設′けられる。この高い温度により前記鋼鉄基体の
機械的な特性は悪い影背を受ける。従って、この方法は
工具上の硼素層の塗布には適切ではない、。
中間層を使用することは、スイス特許明細書第6004
07号により既知であることに注目された、い。前記ア
ルミニウムは少なくとも850℃の温度でのCVD法に
より設′けられる。この高い温度により前記鋼鉄基体の
機械的な特性は悪い影背を受ける。従って、この方法は
工具上の硼素層の塗布には適切ではない、。
本発明による方法は、硬く耐磨耗性で耐化学性の適用に
大変適するもので、例えばモールド(m旧ε1ds)の
ような鋼鉄製]−具」−に硼素層を適切に付着する。
大変適するもので、例えばモールド(m旧ε1ds)の
ような鋼鉄製]−具」−に硼素層を適切に付着する。
本発明を図面を参照し、実施例について更に詳細に説明
する。
する。
第1図は、鋼鉄基体、°rルミニウム中間層灰び硼素層
の概略的断面図であり、第2図は、臨界荷重Lc[旧と
硼素層の厚さd(μm1との関係をアルミニウム中間層
を用いずに測定した場合(1)とγルミニウム中間層を
用いて測定した場合(11)との関係を示す。
の概略的断面図であり、第2図は、臨界荷重Lc[旧と
硼素層の厚さd(μm1との関係をアルミニウム中間層
を用いずに測定した場合(1)とγルミニウム中間層を
用いて測定した場合(11)との関係を示す。
実施例!
2(1mmの直径及び/l mm(7) IV、さを有
するM2高速度切断用の「高速度」]二具鋼鉄の鋼鉄基
体は、その−表面を表面粗さ ILが0.1μmより小
さいが等j。
するM2高速度切断用の「高速度」]二具鋼鉄の鋼鉄基
体は、その−表面を表面粗さ ILが0.1μmより小
さいが等j。
くなるまで磨かれる(+<;I≦o、lμl11)。前
記時がれた表面に各々10.5(1,100、300及
び5QQnm (7)厚さを有する゛rルミMウム層を
゛rルミニウムターゲットを用いる直流マグネトロン・
スパッタリング装置内で設ける、。これらの基体に硼素
層を設ける前に、これらは°r七トンを用いる逐次洗浄
、即ち15分間°rセトン中での超音波洗浄と、窒素中
での乾燥により洗浄される。。
記時がれた表面に各々10.5(1,100、300及
び5QQnm (7)厚さを有する゛rルミMウム層を
゛rルミニウムターゲットを用いる直流マグネトロン・
スパッタリング装置内で設ける、。これらの基体に硼素
層を設ける前に、これらは°r七トンを用いる逐次洗浄
、即ち15分間°rセトン中での超音波洗浄と、窒素中
での乾燥により洗浄される。。
硼素層の被着は低い圧力の加熱管〜11環状反応器(τ
θ町1rQSB製)中で行われる。前記基体は、4oO
℃の温度の水素雰囲気中で加熱された後に、前記反応器
内に導入される。硼素層はジボランと水素の混合物(O
alluの5容嵯パーセント)を流速50 (l se
cmで反応容器中に導入することにより得られる。
θ町1rQSB製)中で行われる。前記基体は、4oO
℃の温度の水素雰囲気中で加熱された後に、前記反応器
内に導入される。硼素層はジボランと水素の混合物(O
alluの5容嵯パーセント)を流速50 (l se
cmで反応容器中に導入することにより得られる。
硼素層の付着は411 t1℃で全体の圧力が2ミリバ
ール(mbar)で行われる1、これらの条件のもとで
、付着速度は1時間につき2.5μmであるl) lな
いり。
ール(mbar)で行われる1、これらの条件のもとで
、付着速度は1時間につき2.5μmであるl) lな
いり。
11μmの間の厚さを自する硼素層を塗布する。
塗布された前記硼素層の付着力は、がき傷試験装[(1
,aboratoire S旧l11se de 1l
ecbarcbes llorlogGores)を用
いて測定される。この装置は旋回半径200μmの先端
部を有するRockwe l I l:ダイヤモンド針
(a Hockwe I lし旧amond )Ity
lus)を有する1゜前記荷重は直線的に4 +++m
当たり1ONで、最大6ONまで増加する。前記硼素層
が前記基体から雌親する最小荷重を臨界(;イΦ(1−
t:と称する。前記臨界4::I電値LCは光学顕@鏡
を用いて測定される。
,aboratoire S旧l11se de 1l
ecbarcbes llorlogGores)を用
いて測定される。この装置は旋回半径200μmの先端
部を有するRockwe l I l:ダイヤモンド針
(a Hockwe I lし旧amond )Ity
lus)を有する1゜前記荷重は直線的に4 +++m
当たり1ONで、最大6ONまで増加する。前記硼素層
が前記基体から雌親する最小荷重を臨界(;イΦ(1−
t:と称する。前記臨界4::I電値LCは光学顕@鏡
を用いて測定される。
塗布されたil素層の微小硬度はヌープダイヤモンド圧
子(Knoop diamond 1ndentor)
を有するl、+: t: 。
子(Knoop diamond 1ndentor)
を有するl、+: t: 。
DM−400FTの硬さゲージを用い”(確認される。
用いられる先端は、浸透の深さが前記硼素層の厚さの最
大限lO%となるように選択される荷重で約15秒間、
硼素層に押圧される。
大限lO%となるように選択される荷重で約15秒間、
硼素層に押圧される。
前記硼素層の厚さは、光学顕微鏡検査又は走査型電子顕
微鏡を用いてδ11定される1゜第1図にふいて、参照
番号lは鋼鉄ノシ体を概的に示すものである。゛fルミ
ニウノ・中間層3及び硼素層5は、前記h(体上に塗布
される。
微鏡を用いてδ11定される1゜第1図にふいて、参照
番号lは鋼鉄ノシ体を概的に示すものである。゛fルミ
ニウノ・中間層3及び硼素層5は、前記h(体上に塗布
される。
第2図において、前記臨界荷重1,3は前記硼素層の厚
さdの函数としてブ「ノットされる。三角形(△)ニヨ
り示される測定値は、゛rルミニウノ・中間層を持たな
い試料に関−4°るものである。これらの値は直&11
の近傍1.:位置する。°fルミニウノ、中間層が各々
10.50及びIoonmの厚さを有する試料も又上記
直allの近傍に位置する値を有する。、前記硼素層の
17さ(1の増加は、前記臨界荷重L4ゎの増加をもた
らす、、これは、ある種の被覆基体形状にとって付着力
は常に同じであるので、より厚い被覆は被覆と基体との
界面で同程度の変形を得るためには、より高い臨界荷重
値1.1.を必要とする事実により引き起こされる。第
2図にiiいて、円(0)は30口nmの厚さのアルミ
ニウム中間層を有する試料の測定値を小”J’ +1四
角く[1)は500nmの厚さのアルミニウド中間層を
有する試料の測定値を示す。これらの測定値は曲II
11の近傍に位1αする。これらの場合、4ONまでの
臨話!荷用Lc値の増大trtrry、測された。、1
1μmないし7μmの硼素層の厚さでは、前記臨界荷重
値の顕著な増大が:+ 00rus及び500nmの厚
さを有するアルミニウム中間層を用いる場合に生じる1
、前記硼素層のより大きな厚さの場合、付着力は4()
Nの一定値にとどまる。。
さdの函数としてブ「ノットされる。三角形(△)ニヨ
り示される測定値は、゛rルミニウノ・中間層を持たな
い試料に関−4°るものである。これらの値は直&11
の近傍1.:位置する。°fルミニウノ、中間層が各々
10.50及びIoonmの厚さを有する試料も又上記
直allの近傍に位置する値を有する。、前記硼素層の
17さ(1の増加は、前記臨界荷重L4ゎの増加をもた
らす、、これは、ある種の被覆基体形状にとって付着力
は常に同じであるので、より厚い被覆は被覆と基体との
界面で同程度の変形を得るためには、より高い臨界荷重
値1.1.を必要とする事実により引き起こされる。第
2図にiiいて、円(0)は30口nmの厚さのアルミ
ニウム中間層を有する試料の測定値を小”J’ +1四
角く[1)は500nmの厚さのアルミニウド中間層を
有する試料の測定値を示す。これらの測定値は曲II
11の近傍に位1αする。これらの場合、4ONまでの
臨話!荷用Lc値の増大trtrry、測された。、1
1μmないし7μmの硼素層の厚さでは、前記臨界荷重
値の顕著な増大が:+ 00rus及び500nmの厚
さを有するアルミニウム中間層を用いる場合に生じる1
、前記硼素層のより大きな厚さの場合、付着力は4()
Nの一定値にとどまる。。
300ないし501)nmのγルミニウト層の厚さの増
加は、さらに前記付着力の増加をもたらすものではない
。
加は、さらに前記付着力の増加をもたらすものではない
。
ヌープ(knoop)硬度測定を表11に表ず。これら
の測定はf;μm O) j’jJ、’さのaJ票層峻
存する試料を用いて行われる。硬度は50グラムの荷重
で測定される。表■に示されるように、柔らかいアルミ
ニウム中間層は測定される硬度に対し全く影響しない、
。
の測定はf;μm O) j’jJ、’さのaJ票層峻
存する試料を用いて行われる。硬度は50グラムの荷重
で測定される。表■に示されるように、柔らかいアルミ
ニウム中間層は測定される硬度に対し全く影響しない、
。
(以F余白)
表11
第1図は、鋼鉄基体、γルミニウノ・中間層及び硼素層
の概略的断面図であり、第2図は、臨界荷重LcLNJ
と硼素層の19さ(1[μmlとの関係をアルミニウノ
・中間層を月1いすに測定した場合(1)と°rルミニ
ウト中間層を用いて測定した場合(IN)との関係を示
す。 l・・・鋼鉄基体、 3・・・“rルミニウト中間層、 5・・・硼素層。 X線回折はJf6成された前記硼素層が“rモルフγス
(amorpl+ous)であることを示す、。 実施例2 実施例1と同様にして、IC45鋼鉄の基体を用い実験
する。この鋼鉄の型は鉄に加えて炭素(C)の0.45
%を含有する。得られる臨界4::l 41値り、はM
2鋼鉄で得られるのと全(同様である。
の概略的断面図であり、第2図は、臨界荷重LcLNJ
と硼素層の19さ(1[μmlとの関係をアルミニウノ
・中間層を月1いすに測定した場合(1)と°rルミニ
ウト中間層を用いて測定した場合(IN)との関係を示
す。 l・・・鋼鉄基体、 3・・・“rルミニウト中間層、 5・・・硼素層。 X線回折はJf6成された前記硼素層が“rモルフγス
(amorpl+ous)であることを示す、。 実施例2 実施例1と同様にして、IC45鋼鉄の基体を用い実験
する。この鋼鉄の型は鉄に加えて炭素(C)の0.45
%を含有する。得られる臨界4::l 41値り、はM
2鋼鉄で得られるのと全(同様である。
Claims (9)
- 1.化学蒸着法を用いて鋼鉄基体に硼素層を塗布する方
法において、アルミニウムを中間層として用いることを
特徴とする鋼鉄基体に硼素層を塗布する方法。 - 2.特許請求の範囲第1項に記載の方法において、前記
アルミニウム中間層は少なくとも 100nmの厚さを有することを特徴とする鋼鉄基体に
硼素層を塗布する方法。 - 3.特許請求の範囲第1項に記載の方法において、前記
アルミニウム中間層は300ないし500nmの間の厚
さを有することを特徴とする鋼鉄基体に硼素層を塗布す
る方法。 - 4.特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項に記載の
方法において、前記アルミニウム中間層をスパッタリン
グを用いて塗布することを特徴とする鋼鉄基体に硼素層
を塗布する方法。 - 5.特許請求の範囲第1項、第2項又は第3項に記載の
方法において、前記アルミニウム中間層を化学蒸着法を
用いて塗布することを特徴とする鋼鉄基体に硼素層を塗
布する方法。 - 6.特許請求の範囲第5項に記載の方法において、トリ
イソブイチルアルミニウムを前記化学蒸着法における気
体アルミニウム化合物として用いることを特徴とする鋼
鉄基体に硼素層を塗布する方法。 - 7.特許請求の範囲第1項ないし第6項の何れか1項に
記載の方法において、硼素層の層厚が少なくとも7μm
であることを特徴とする鋼鉄基体に硼素層を塗布する方
法。 - 8.特許請求の範囲第1項に記載の方法において、ジボ
ラン(B_2H_6)を前記化学蒸着法における気体硼
素化合物として用いることを特徴とする鋼鉄基体に硼素
層を塗布する方法。 - 9.硼素層を備える鋼鉄製工具において、300nmな
いし500nmの間の厚さを有するアルミニウム層が鋼
鉄と硼素層との間に存在することを特徴とする工具。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL8902760 | 1989-11-08 | ||
NL8902760A NL8902760A (nl) | 1989-11-08 | 1989-11-08 | Werkwijze voor het aanbrengen van een boorlaag op een stalen substraat en gereedschap voorzien van een boorlaag. |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03173771A true JPH03173771A (ja) | 1991-07-29 |
Family
ID=19855590
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2300906A Pending JPH03173771A (ja) | 1989-11-08 | 1990-11-06 | 鋼鉄基体に硼素層を塗布する方法及び硼素層を備える工具 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5164230A (ja) |
EP (1) | EP0427332B1 (ja) |
JP (1) | JPH03173771A (ja) |
DE (1) | DE69011278T2 (ja) |
NL (1) | NL8902760A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5660211A (en) * | 1992-01-06 | 1997-08-26 | Sumitomo Metal Industries | Galvanic corrosion resistant insulating pipe having excellent film adhesion |
AT400040B (de) * | 1993-06-02 | 1995-09-25 | Andritz Patentverwaltung | Verfahren und vorrichtung zur beschichtung von metallsubstraten, insbesondere stahl- oder aluminiumbblechen in bandform |
DE60045820D1 (de) | 1999-10-07 | 2011-05-19 | Serverstal Sparrows Point Llc | Beschichtetes stahlprodukt und beschichtungsverfahren für stahlprodukte |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1268931B (de) * | 1965-06-11 | 1968-05-22 | Philips Nv | Verfahren zur Herstellung von duennen Metallboridschichten auf metallischen und nichtmetallischen Traegern |
CH600407B5 (ja) * | 1970-10-02 | 1978-06-15 | Suisse Horlogerie Rech Lab | |
US3812563A (en) * | 1972-11-29 | 1974-05-28 | Gould Inc | Method of forming a composite bearing structure |
JPS55122850A (en) * | 1979-03-13 | 1980-09-20 | Daido Metal Kogyo Kk | Bearing metal for large-sized engine |
JPS58133368A (ja) * | 1982-02-04 | 1983-08-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 硼素皮膜の形成方法 |
JPS6187866A (ja) * | 1984-10-08 | 1986-05-06 | Sumitomo Electric Ind Ltd | アルミニウム蒸着法 |
US4724169A (en) * | 1984-10-09 | 1988-02-09 | Ovonic Synthetic Materials Company, Inc. | Method of producing multilayer coatings on a substrate |
US4919773A (en) * | 1984-11-19 | 1990-04-24 | Avco Corporation | Method for imparting erosion-resistance to metallic substrates |
JPS61130482A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Nippon Kokan Kk <Nkk> | 耐食性および耐高温酸化性に優れた表面処理鋼板およびその製造方法 |
DD243514B1 (de) * | 1985-12-17 | 1989-04-26 | Karl Marx Stadt Tech Hochschul | Hartstoffschichten fuer mechanisch und korrosiv beanspruchte teile |
JPH0610335B2 (ja) * | 1986-07-15 | 1994-02-09 | 日新製鋼株式会社 | 耐熱性に優れたアルミニウムめつき鋼板 |
JPS6379952A (ja) * | 1986-09-22 | 1988-04-09 | Kobe Steel Ltd | A1又はa1合金の表面処理方法 |
US4963423A (en) * | 1987-10-08 | 1990-10-16 | Anelva Corporation | Method for forming a thin film and apparatus of forming a metal thin film utilizing temperature controlling means |
JPH01177373A (ja) * | 1988-01-04 | 1989-07-13 | Toshiba Corp | 耐摩耗性部材 |
US5035949A (en) * | 1988-12-05 | 1991-07-30 | Martin Marietta Corporation | High-temperature, high-emissivity, optically black boron surface |
-
1989
- 1989-11-08 NL NL8902760A patent/NL8902760A/nl not_active Application Discontinuation
-
1990
- 1990-11-05 EP EP90202910A patent/EP0427332B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-11-05 DE DE69011278T patent/DE69011278T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-11-06 JP JP2300906A patent/JPH03173771A/ja active Pending
- 1990-11-07 US US07/610,190 patent/US5164230A/en not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE69011278D1 (de) | 1994-09-08 |
NL8902760A (nl) | 1991-06-03 |
EP0427332A1 (en) | 1991-05-15 |
DE69011278T2 (de) | 1995-02-16 |
US5164230A (en) | 1992-11-17 |
EP0427332B1 (en) | 1994-08-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US5217817A (en) | Steel tool provided with a boron layer | |
KR960010136B1 (ko) | 고 경도/고 압축 응력 다층 (multilayer) 피복 공구 | |
Chang et al. | Microstructure and adhesion characteristics of diamond-like carbon films deposited on steel substrates | |
JP2000119843A (ja) | ダイヤモンドライクカーボン硬質多層膜成形体 | |
JPH11335813A (ja) | 硬質被膜及び積層硬質被膜 | |
JP4365501B2 (ja) | 硬質炭素積層膜とその形成方法 | |
JPH0365431B2 (ja) | ||
Ramalingam | Tribological characteristics of thin films and applications of thin film technology for friction and wear reduction | |
Zhitomirsky et al. | Vacuum arc deposition of metal/ceramic coatings on polymer substrates | |
JPH03173771A (ja) | 鋼鉄基体に硼素層を塗布する方法及び硼素層を備える工具 | |
JPH05202477A (ja) | 硬質炭素膜とその製造方法 | |
Kustas et al. | Wear behavior of B4C–Mo co-sputtered wear coatings | |
US20090226715A1 (en) | Coated article and method of making the same | |
JPH07133111A (ja) | 超薄膜積層体 | |
JP2969291B2 (ja) | 耐摩耗性部材およびその製造法 | |
Freller et al. | Influence of intermediate layers and base materials on adhesion of amorphous carbon and metal-carbon coatings | |
JPH02149673A (ja) | カーボン硬質膜を被覆した部材 | |
JP3260156B2 (ja) | ダイヤモンド類被覆部材の製造方法 | |
JPH11310868A (ja) | 被覆部材の製造方法 | |
Sridharan et al. | Ion beam enhanced deposition of titanium-nitride on INCONEL 718 | |
JP3212057B2 (ja) | ダイヤモンド被覆基体およびその製造方法 | |
JPH04124283A (ja) | 窒化ほう素膜のコーティング方法 | |
JP2003073808A (ja) | 表面処理膜 | |
JPH06264213A (ja) | チタン系薄膜被覆金属部材 | |
Okada | Thermal and mechanical properties of vapour-deposited TiC coatings for the first wall of a fusion reactor |