JPH03164710A - 半導体光導波路部品 - Google Patents
半導体光導波路部品Info
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- JPH03164710A JPH03164710A JP30615589A JP30615589A JPH03164710A JP H03164710 A JPH03164710 A JP H03164710A JP 30615589 A JP30615589 A JP 30615589A JP 30615589 A JP30615589 A JP 30615589A JP H03164710 A JPH03164710 A JP H03164710A
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- Japan
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- layer
- type semiconductor
- cladding layer
- optical waveguide
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Links
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- 239000010410 layer Substances 0.000 claims abstract description 90
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、半導体で構成され、かつその上部クラッド層
内にpn接合面が形成されているリッジ装荷型の光導波
路を備えている半導体光導波路部品に関し、更に詳しく
は、光導波路への電圧印加または電流注入による前記光
導波路の屈折率の変化効率が太き(、しかもpn接合面
を形成しているn型半導体層における注入キャリアの吸
収損失を小さくすることができる光導波路を備えた半導
体光導波路部品に関する。
内にpn接合面が形成されているリッジ装荷型の光導波
路を備えている半導体光導波路部品に関し、更に詳しく
は、光導波路への電圧印加または電流注入による前記光
導波路の屈折率の変化効率が太き(、しかもpn接合面
を形成しているn型半導体層における注入キャリアの吸
収損失を小さくすることができる光導波路を備えた半導
体光導波路部品に関する。
(従来の技術)
半導体で構成した光回路部品のうち、例えば、方向性結
合器型光スイッチ、X型全反射光スイッチ、Y型分岐光
スイッチ、光合分波器、光変調器のような光素子は、半
導体基板の上にリッジ状に装荷された光導波路を備え、
その上部クラッド層にpn接合面が形成されている構造
になっている。
合器型光スイッチ、X型全反射光スイッチ、Y型分岐光
スイッチ、光合分波器、光変調器のような光素子は、半
導体基板の上にリッジ状に装荷された光導波路を備え、
その上部クラッド層にpn接合面が形成されている構造
になっている。
そして、このpn接合面に電圧を印加することにより電
気光学効果を発揮させたり、またはpn接合面に電流を
注入してプラズマ効果やバンドフィリング効果を生起せ
しめて、光が導波するコア層の屈折率を変化させること
により、光路の変更。
気光学効果を発揮させたり、またはpn接合面に電流を
注入してプラズマ効果やバンドフィリング効果を生起せ
しめて、光が導波するコア層の屈折率を変化させること
により、光路の変更。
波長の分離1周波数や位相の変調などの機能を実現して
いる。
いる。
このような光導波路の構造を、2本の光導波路が互いに
平行に近接して形成されている方向性結合器型の光スィ
ッチの場合について、第3図に則して説明する。
平行に近接して形成されている方向性結合器型の光スィ
ッチの場合について、第3図に則して説明する。
第3図において、AuGeNi/Auのような電極材料
から成る下部電極1の裏面には、n” GaAsのよう
なn型半導体の基板2が形成されている。
から成る下部電極1の裏面には、n” GaAsのよう
なn型半導体の基板2が形成されている。
半導体基板2上には、例えば厚みが0.5μm程度のn
” GaAsから成るバッファー層3を介して、n”G
aAfAsから成る厚み3.0μm程度の下部クラッド
層4.n−GaAsから成る厚み1.0μm程度のコア
層5.H−GaAfAsから成るn型上部クラッド層6
.p” GaAfAsから成るn型上部クラッド層7が
順次積層され、リッジ状の光導波路A、 Bが形成さ
れている。そして、これら光導波路A、 B全体の表
面はSiOxのような絶縁薄膜8で被覆され、スイッチ
部の光導波路A、 Bにおける絶縁薄膜8の一部は例
えばスリット状に除去されて窓8a、8bが形成され、
この部分には例えば蒸着法によってCr/AuやTi/
Pt/Auのような電極材料から成る上部電極9a、9
bが添着されている。
” GaAsから成るバッファー層3を介して、n”G
aAfAsから成る厚み3.0μm程度の下部クラッド
層4.n−GaAsから成る厚み1.0μm程度のコア
層5.H−GaAfAsから成るn型上部クラッド層6
.p” GaAfAsから成るn型上部クラッド層7が
順次積層され、リッジ状の光導波路A、 Bが形成さ
れている。そして、これら光導波路A、 B全体の表
面はSiOxのような絶縁薄膜8で被覆され、スイッチ
部の光導波路A、 Bにおける絶縁薄膜8の一部は例
えばスリット状に除去されて窓8a、8bが形成され、
この部分には例えば蒸着法によってCr/AuやTi/
Pt/Auのような電極材料から成る上部電極9a、9
bが添着されている。
このようにして、光導波路A、 Bの上部クラッド層
は、n型上部クラッド層6とn型上部クラッド層7で構
成され、これら各層の界面がpn接合面IOを形成し、
また、p型クラッド層7はそのスイッチ部において、上
部電極9a、9bと接触している。
は、n型上部クラッド層6とn型上部クラッド層7で構
成され、これら各層の界面がpn接合面IOを形成し、
また、p型クラッド層7はそのスイッチ部において、上
部電極9a、9bと接触している。
この光スィッチの場合、例えば上部電極9aと下部電極
Iの間に逆方向の電圧を印加すると、電気光学効果によ
り、pn接合面10からコア層5側に空乏層が広がって
、コア層5の屈折率が変化する。その結果、光導波路A
への光の導波は起こらず、光は光導波路Bのみを導波す
る。すなわち、光路変更が起こり、スイッチング動作が
発現する。
Iの間に逆方向の電圧を印加すると、電気光学効果によ
り、pn接合面10からコア層5側に空乏層が広がって
、コア層5の屈折率が変化する。その結果、光導波路A
への光の導波は起こらず、光は光導波路Bのみを導波す
る。すなわち、光路変更が起こり、スイッチング動作が
発現する。
(発明が解決しようとする課題)
ところで、上記した従来構造の光スィッチにおいて、低
電圧でスイッチング動作を実現しようとしたときには、
その低電圧を印加してもコア層5の屈折率の変化効率を
最大限に発揮させるようにすることが必要である。
電圧でスイッチング動作を実現しようとしたときには、
その低電圧を印加してもコア層5の屈折率の変化効率を
最大限に発揮させるようにすることが必要である。
そのためには、コア層5におけるキャリア濃度をI X
10 lScm−’程度の低濃度状態にし、そのこと
により、印加する電圧が低電圧であってもpnn接合面
l上り下方の空乏層の広がりがコア層5の全体に拡張で
きるようにすることが必要である。
10 lScm−’程度の低濃度状態にし、そのこと
により、印加する電圧が低電圧であってもpnn接合面
l上り下方の空乏層の広がりがコア層5の全体に拡張で
きるようにすることが必要である。
したがって、pn接合面IOは可能な限りコア層5に近
接させることが好ましくなる。
接させることが好ましくなる。
また、印加した電圧が全て有効にpn接合面に作用する
ためには、上部電極9a(または9b)とn型上部クラ
ッド層7の上面との接触はオーミック接触であることが
必要である。
ためには、上部電極9a(または9b)とn型上部クラ
ッド層7の上面との接触はオーミック接触であることが
必要である。
このようなオーミック接触を実現するためには、n型上
部クラッド層7におけるキャリア濃度を4XIO”cn
?以上にすることが必要であるとされている。
部クラッド層7におけるキャリア濃度を4XIO”cn
?以上にすることが必要であるとされている。
しかしながら、n型上部クラッド層7のキャリア濃度を
4 X l OIgcm−’以上の高濃度にすると、光
導波路のp型上部クラッド層における吸収損失は大きく
なり、長波長の光、例えば、波長1.55μmの光は導
波しなくなる。
4 X l OIgcm−’以上の高濃度にすると、光
導波路のp型上部クラッド層における吸収損失は大きく
なり、長波長の光、例えば、波長1.55μmの光は導
波しなくなる。
また、波長が1.3μmの光の場合は、光の導波は可能
であるが、上記したpnn接合面l上コア層5に近接せ
しめたときに、光の伝搬損失は増加するという不都合が
生ずる。
であるが、上記したpnn接合面l上コア層5に近接せ
しめたときに、光の伝搬損失は増加するという不都合が
生ずる。
このことを、下部クラッド層4がキャリア濃度I X
l 017cm−”のn ”A l o、 +Gao、
5As(厚み3.0μm)、コア層5がキャリア濃度
I X 10”cm−3のn−GaAs(厚みt、oμ
m)、n型上部クラッド層6がキャリア濃度I X 1
0”cm−’のn Ae o、 +Gao、 Js(厚
みを3μmとする)、n型上部クラッド層7がキャリア
濃度4 X 10 ”cm−3の(厚みは1−3μmと
する)の光導波路の場合について、第4図に示した。第
4図から明らかなように、pn接合面IOがコア層5に
近接すればするほど、伝搬損失は大きくなっている。
l 017cm−”のn ”A l o、 +Gao、
5As(厚み3.0μm)、コア層5がキャリア濃度
I X 10”cm−3のn−GaAs(厚みt、oμ
m)、n型上部クラッド層6がキャリア濃度I X 1
0”cm−’のn Ae o、 +Gao、 Js(厚
みを3μmとする)、n型上部クラッド層7がキャリア
濃度4 X 10 ”cm−3の(厚みは1−3μmと
する)の光導波路の場合について、第4図に示した。第
4図から明らかなように、pn接合面IOがコア層5に
近接すればするほど、伝搬損失は大きくなっている。
このように、従来構造の光導波路においては、吸収損失
を小さく抑制しなからpn接合面をコア層に近接せしめ
ることにより、低電圧(したがって、小電流)でスイッ
チング動作を実現するということは不可能であった。
を小さく抑制しなからpn接合面をコア層に近接せしめ
ることにより、低電圧(したがって、小電流)でスイッ
チング動作を実現するということは不可能であった。
本発明は、上記したような問題を解決し、低電圧の印加
または小電流の注入によっても、コア層の屈折率の変化
効率が最大限に発揮できると同時に、p型上部クラッド
層における吸収損失を最小限に抑制することができる構
造の光導波路を備えた半導体光導波路部品の提供を目的
とする。
または小電流の注入によっても、コア層の屈折率の変化
効率が最大限に発揮できると同時に、p型上部クラッド
層における吸収損失を最小限に抑制することができる構
造の光導波路を備えた半導体光導波路部品の提供を目的
とする。
(課題を解決するための手段)
上記した目的を達成するために、本発明においては、下
部電極の裏面に形成されたn型半導体の基板の上に、n
型半導体の下部クラッド層、n型半導体のコア層、n型
半導体の上部クラッド層。
部電極の裏面に形成されたn型半導体の基板の上に、n
型半導体の下部クラッド層、n型半導体のコア層、n型
半導体の上部クラッド層。
n型半導体の上部クラッド層が順次形成され、前記n型
半導体の上面には、電圧印加用または電流注入用の上部
電極が添着されている少な(とも1本の光導波路を有す
る半導体光導波路部品において、前記n型半導体の上部
クラッド層が、高キャリア濃度の上層と低キャリア1度
の下層との2層構造になっていることを特徴とする半導
体光導波路部品が提供される。
半導体の上面には、電圧印加用または電流注入用の上部
電極が添着されている少な(とも1本の光導波路を有す
る半導体光導波路部品において、前記n型半導体の上部
クラッド層が、高キャリア濃度の上層と低キャリア1度
の下層との2層構造になっていることを特徴とする半導
体光導波路部品が提供される。
本発明の光導波路は、p型上部クラッド層が2層構造に
なっていて、そのうちの上層はキャリア濃度の高いn型
半導体層からなり、下層はキャリア濃度の低いn型半導
体層から構成されていることを除いては、第3図で示し
た従来の光導波路の構造の場合と変わることはない。
なっていて、そのうちの上層はキャリア濃度の高いn型
半導体層からなり、下層はキャリア濃度の低いn型半導
体層から構成されていることを除いては、第3図で示し
た従来の光導波路の構造の場合と変わることはない。
この光導波路において、上層のキャリア濃度は約4 X
l O”cm−’程度になっていて、下層のキャリア
濃度は約I X 10 ”cm−”程度になっている。
l O”cm−’程度になっていて、下層のキャリア
濃度は約I X 10 ”cm−”程度になっている。
(作用)
本発明の半導体光導波路部品の光導波路の場合、そのp
型上部クラッド層が上記構成になっているので、キャリ
ア濃度が高い上層と上部電極との間はオーミック接触が
実現して印加した逆電圧の全ては有効に作用することが
できるようになるため、低電圧の印加でも電気光学効果
によるコア層の屈折率の変化効率を最大限に発揮できる
ようになる。
型上部クラッド層が上記構成になっているので、キャリ
ア濃度が高い上層と上部電極との間はオーミック接触が
実現して印加した逆電圧の全ては有効に作用することが
できるようになるため、低電圧の印加でも電気光学効果
によるコア層の屈折率の変化効率を最大限に発揮できる
ようになる。
また、下層のキャリア濃度は従来の場合に比べて約2桁
小さくなっているので、この下層における光の吸収損失
は小さくなり、下層の下面、すなわちpn接合面をコア
層に近接せしめても、長波長の光に対するスイッチング
動作は可能になる。
小さくなっているので、この下層における光の吸収損失
は小さくなり、下層の下面、すなわちpn接合面をコア
層に近接せしめても、長波長の光に対するスイッチング
動作は可能になる。
(実施例)
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明する。第1
図は、第3図に示した方向性結合器型光スイッチにおけ
る一方の光導波路に対応する光導波路の断面図である。
図は、第3図に示した方向性結合器型光スイッチにおけ
る一方の光導波路に対応する光導波路の断面図である。
第1図において、下部電極lの裏面に形成されたn”G
aA s基板2の上に、厚み0.5μmのn+GaA
sバッファー層3を介して、n ”A l o、 +G
ao1Asから成る下部クラッド層4(キャリア濃度l
Xl017cm −’ 、厚み3.0 μm) 、n−
GaAsから成るコア層5(キャリア濃度I X 10
”cm−’、厚み1.0μm)、n ”’ A 1 o
、 +Gao、 sAsから成るn型上部クラッド層6
(キャリア1度I X 10”cm−”、厚み0.6μ
m)を順次形成し、更にこのn型上部クラッド層6の上
には、p A 1 o、 +Gao、 sAsから成る
p型上部クラッド層の下層7a(キャリア濃度I X
1017cn+−’厚み0.7μm)およびり +A
l o、 +Gag、 sAsから成るp型上部クラッ
ド層の上層7b(キャリア濃度4 X l O”crn
−”、厚み0.2μm)を順次形成し、全体の表面をS
in、薄膜8で被服した。薄膜8の一部を除去して窓8
aを形成したのち、ここにTi/Pt/Auを蒸着して
上部電極9aを添着した。
aA s基板2の上に、厚み0.5μmのn+GaA
sバッファー層3を介して、n ”A l o、 +G
ao1Asから成る下部クラッド層4(キャリア濃度l
Xl017cm −’ 、厚み3.0 μm) 、n−
GaAsから成るコア層5(キャリア濃度I X 10
”cm−’、厚み1.0μm)、n ”’ A 1 o
、 +Gao、 sAsから成るn型上部クラッド層6
(キャリア1度I X 10”cm−”、厚み0.6μ
m)を順次形成し、更にこのn型上部クラッド層6の上
には、p A 1 o、 +Gao、 sAsから成る
p型上部クラッド層の下層7a(キャリア濃度I X
1017cn+−’厚み0.7μm)およびり +A
l o、 +Gag、 sAsから成るp型上部クラッ
ド層の上層7b(キャリア濃度4 X l O”crn
−”、厚み0.2μm)を順次形成し、全体の表面をS
in、薄膜8で被服した。薄膜8の一部を除去して窓8
aを形成したのち、ここにTi/Pt/Auを蒸着して
上部電極9aを添着した。
平行して設けられる他方の光導波路も同様にして形成し
た。
た。
上部電極9aと上層7bとの間の接触状態を電極接触抵
抗測定やI−V特性測定によって調べたところ、オーミ
ック接触状態になっていた。
抗測定やI−V特性測定によって調べたところ、オーミ
ック接触状態になっていた。
この光導波路を備えた反転Δβ方向性結合器型光スイッ
チ、−様Δβ方向性結合器型光スイッチを製作し、その
スイッチング特性と伝搬損失を波長1.3μmの光で評
価した。比較のため、p型上部クラッド層が2層構造で
はなくキャリア濃度4X l O”cm−’、厚み0.
9μmの1層構成の従来のものについても同様の評価試
験を行なった。
チ、−様Δβ方向性結合器型光スイッチを製作し、その
スイッチング特性と伝搬損失を波長1.3μmの光で評
価した。比較のため、p型上部クラッド層が2層構造で
はなくキャリア濃度4X l O”cm−’、厚み0.
9μmの1層構成の従来のものについても同様の評価試
験を行なった。
本発明の光スィッチにおける伝搬損失は約66B/ c
mであり、従来のものの場合は約9.5dB/cmであ
った。
mであり、従来のものの場合は約9.5dB/cmであ
った。
また、スイッチング特性の結果を第2図に示した。図中
、−〇−印は本発明の光スィッチ、・・・・・・・印は
従来構造の光スィッチの場合を示す。第2図から明らか
なように、本発明構造の光スィッチの場合は、従来のも
のに比べて、そのスイッチング電圧を約30V低下させ
ることができる。
、−〇−印は本発明の光スィッチ、・・・・・・・印は
従来構造の光スィッチの場合を示す。第2図から明らか
なように、本発明構造の光スィッチの場合は、従来のも
のに比べて、そのスイッチング電圧を約30V低下させ
ることができる。
(発明の効果)
以上の説明で明らかなように、本発明の半導体光導波路
部品は、下部電極の裏面に形成されたn型半導体の基板
の上に、n型半導体の下部クラッド層、n型半導体のコ
ア層、n型半導体の上部クラッド層、n型半導体の上部
クラッド層が順次形成され、前記n型半導体の上面には
、電圧印加用または電流注入用の上部電極が添着されて
いる少なくとも1本の光導波路を有する半導体光導波路
部品において、前記n型半導体の上部クラッド層が、高
キャリア濃度の上層と低キャリア濃度の下層との2層構
造になっていることを特徴とするので、低電圧(小電流
)でも上部クラッド層内のpn接合面は有効に(作用)
して、コア層の屈折率変化効率を最大限に高めることが
でき、しかもp4゜ 型上部クラッド層における光の吸収損失も小さく、長波
光の光に対してもスイッチング動作を実現することがで
きる。
部品は、下部電極の裏面に形成されたn型半導体の基板
の上に、n型半導体の下部クラッド層、n型半導体のコ
ア層、n型半導体の上部クラッド層、n型半導体の上部
クラッド層が順次形成され、前記n型半導体の上面には
、電圧印加用または電流注入用の上部電極が添着されて
いる少なくとも1本の光導波路を有する半導体光導波路
部品において、前記n型半導体の上部クラッド層が、高
キャリア濃度の上層と低キャリア濃度の下層との2層構
造になっていることを特徴とするので、低電圧(小電流
)でも上部クラッド層内のpn接合面は有効に(作用)
して、コア層の屈折率変化効率を最大限に高めることが
でき、しかもp4゜ 型上部クラッド層における光の吸収損失も小さく、長波
光の光に対してもスイッチング動作を実現することがで
きる。
したがって、本発明の部品は、低損失であり、高電圧の
印加や大電流の注入に基づ<pn接合面の破壊という事
態は発生せず、低消費電力で作動して信頼性の高いもの
となり、光スィッチ、光変調器のような光回路部品素子
としてその工業的価値は大である。
印加や大電流の注入に基づ<pn接合面の破壊という事
態は発生せず、低消費電力で作動して信頼性の高いもの
となり、光スィッチ、光変調器のような光回路部品素子
としてその工業的価値は大である。
第1図は本発明の部品が備えている光導波路のスイッチ
部における断面図、第2図は方向性結合器型光スイッチ
のスイッチング特性を示すグラフ、第3図は従来構造の
部品が備えている光導波路のスイッチ部における断面図
、第4図は従来構造の光導波路におけるpn接合面とコ
ア層との距離伝搬損失の関係を示すグラフである。 ■・・・下部電極、2・・・n型半導体の基板、3・・
・n型半導体のバッファー層、4・・・n型半導体の下
部クラッド層、5・・・n型半導体のコア層、6・・・
n型半導体の上部クラッド層、7・・・n型半導体の上
部クラッド層、7a・・・p型上部クラッド層の下層、
7b・・・p型上部クラッド層の上層、8・・・絶縁薄
膜、8a、8b・・・窓、9a、9b・・・上部電極、
10・・・pn接合面。
部における断面図、第2図は方向性結合器型光スイッチ
のスイッチング特性を示すグラフ、第3図は従来構造の
部品が備えている光導波路のスイッチ部における断面図
、第4図は従来構造の光導波路におけるpn接合面とコ
ア層との距離伝搬損失の関係を示すグラフである。 ■・・・下部電極、2・・・n型半導体の基板、3・・
・n型半導体のバッファー層、4・・・n型半導体の下
部クラッド層、5・・・n型半導体のコア層、6・・・
n型半導体の上部クラッド層、7・・・n型半導体の上
部クラッド層、7a・・・p型上部クラッド層の下層、
7b・・・p型上部クラッド層の上層、8・・・絶縁薄
膜、8a、8b・・・窓、9a、9b・・・上部電極、
10・・・pn接合面。
Claims (1)
- 下部電極の裏面に形成されたn型半導体の基板の上に、
n型半導体の下部クラッド層、n型半導体のコア層、n
型半導体の上部クラッド層、p型半導体の上部クラッド
層が順次形成され、前記p型半導体の上面には、電圧印
加用または電流注入用の上部電極が添着されている少な
くとも1本の光導波路を有する半導体光導波路部品にお
いて、前記p型半導体の上部クラッド層が、高キャリア
濃度の上層と低キャリア濃度の下層との2層構造になっ
ていることを特徴とする半導体光導波路部品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30615589A JPH03164710A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 半導体光導波路部品 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP30615589A JPH03164710A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 半導体光導波路部品 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03164710A true JPH03164710A (ja) | 1991-07-16 |
Family
ID=17953713
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP30615589A Pending JPH03164710A (ja) | 1989-11-24 | 1989-11-24 | 半導体光導波路部品 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03164710A (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6113222A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-21 | Nec Corp | 集積化導波型光素子 |
JPS61148427A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-07 | Hitachi Ltd | 導波形光変調器 |
JPH0398016A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | Siemens Ag | 光集積装置およびその製造方法 |
-
1989
- 1989-11-24 JP JP30615589A patent/JPH03164710A/ja active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6113222A (ja) * | 1984-06-29 | 1986-01-21 | Nec Corp | 集積化導波型光素子 |
JPS61148427A (ja) * | 1984-12-24 | 1986-07-07 | Hitachi Ltd | 導波形光変調器 |
JPH0398016A (ja) * | 1989-09-01 | 1991-04-23 | Siemens Ag | 光集積装置およびその製造方法 |
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