JPH03163033A - フルオロエタンの製造方法 - Google Patents
フルオロエタンの製造方法Info
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- JPH03163033A JPH03163033A JP21010090A JP21010090A JPH03163033A JP H03163033 A JPH03163033 A JP H03163033A JP 21010090 A JP21010090 A JP 21010090A JP 21010090 A JP21010090 A JP 21010090A JP H03163033 A JPH03163033 A JP H03163033A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C17/00—Preparation of halogenated hydrocarbons
- C07C17/23—Preparation of halogenated hydrocarbons by dehalogenation
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一カーエアコン、冷蔵庫等の冷媒、或は発泡剤
等として有用なフルオロエタンの製造方法に関する。
等として有用なフルオロエタンの製造方法に関する。
従来、クロロフルオロエタンと水素を反応させてフルオ
ロエタンを製造する方法としては、■2.2−ジクロロ
−1.1,1.2−テトラフルオロエタンまたは2−ク
ロロー1.1.1.2−テトラフルオロエタンをパラジ
ウム触媒の存在下で水素と反応させる方法(特公昭56
−38131号公報)、■フッ化アルミニウムまたはフ
ッ素化されたアルミナ担体に担持されたパラジウム触媒
を用い、2−クロロ−1.1,1.2−テトラフルオロ
エタンと水素を反応させて、l,1,1.2−テトラフ
ルオロエタンを得る方法(特開平2一67235号公報
)等が知られてい−る。
ロエタンを製造する方法としては、■2.2−ジクロロ
−1.1,1.2−テトラフルオロエタンまたは2−ク
ロロー1.1.1.2−テトラフルオロエタンをパラジ
ウム触媒の存在下で水素と反応させる方法(特公昭56
−38131号公報)、■フッ化アルミニウムまたはフ
ッ素化されたアルミナ担体に担持されたパラジウム触媒
を用い、2−クロロ−1.1,1.2−テトラフルオロ
エタンと水素を反応させて、l,1,1.2−テトラフ
ルオロエタンを得る方法(特開平2一67235号公報
)等が知られてい−る。
しかしながら、■の方注は、目的物であるl,1,l,
2−テトラ.フルオロエタンが、生成した塩化水素と反
応し、2−クロロ−1,l,l−}リフルオ口エタンが
生成し、更に還元されて1,1.1−1−リフルオロエ
タンが多く生成する。特に、活性炭、アルミナを担体と
して用いた場合に著しい。■の方法は、l,l.l,2
−テトラフルオロエタンの遭択性は良いが、2〜クロロ
ー1,1,1.2−テトラフルオロエタンの転化率が低
い。
2−テトラ.フルオロエタンが、生成した塩化水素と反
応し、2−クロロ−1,l,l−}リフルオ口エタンが
生成し、更に還元されて1,1.1−1−リフルオロエ
タンが多く生成する。特に、活性炭、アルミナを担体と
して用いた場合に著しい。■の方法は、l,l.l,2
−テトラフルオロエタンの遭択性は良いが、2〜クロロ
ー1,1,1.2−テトラフルオロエタンの転化率が低
い。
等、それぞれ不都合があった。
本発明者らは、クロロフルオロエタンを水素と反応させ
、収率よくフル才ロエタンを得るべく鋭意研究した結果
、従来の方法で使用されていた活性炭、アルミナ、フッ
素化されたアルミナ等の担体に変えて、シリカ、或はフ
ッ素化されたシリカを担体として用いることが有効であ
ることを発見した。
、収率よくフル才ロエタンを得るべく鋭意研究した結果
、従来の方法で使用されていた活性炭、アルミナ、フッ
素化されたアルミナ等の担体に変えて、シリカ、或はフ
ッ素化されたシリカを担体として用いることが有効であ
ることを発見した。
本発明は、上記の発見に基づいてなされてもので、クロ
ロフルオロエタンを原料とし、高い転化率かつ高い還択
率でフルオロエタンを製造する方法をt是{共すること
を目的とする。
ロフルオロエタンを原料とし、高い転化率かつ高い還択
率でフルオロエタンを製造する方法をt是{共すること
を目的とする。
本発明の方法においては、式:CX3CClX4X5X
’CCf2X3CClX4X5(但し、式中、XI,X
”、X4、X5X5は水素、フッ素または塩素であり、
少なくとも一つはフッ素)で表されるクロロフルオロエ
タンを、シリカ担体に担持されたパラジウムからなる触
媒、或はフッ素化されたシリカ担体に担持されたパラジ
ウムからなる触媒の存在下で、水素と反応させ、式:
CY’Y”Y’CHY’Y5(但し、式中Y1、Y2、
Y’,Y’,Y’ は水素、フッ素または塩素であり、
少なくとも一つはフノ素)で表されるフルオロエタンを
生成せしめることを、問題解決の手段とした。
’CCf2X3CClX4X5(但し、式中、XI,X
”、X4、X5X5は水素、フッ素または塩素であり、
少なくとも一つはフッ素)で表されるクロロフルオロエ
タンを、シリカ担体に担持されたパラジウムからなる触
媒、或はフッ素化されたシリカ担体に担持されたパラジ
ウムからなる触媒の存在下で、水素と反応させ、式:
CY’Y”Y’CHY’Y5(但し、式中Y1、Y2、
Y’,Y’,Y’ は水素、フッ素または塩素であり、
少なくとも一つはフノ素)で表されるフルオロエタンを
生成せしめることを、問題解決の手段とした。
本発明において用いられるシリカ担体としては、一般市
販のシリカが使用できるが、特に細孔径で、孔径の分布
幅の狭いものが好ましい。シリカの形状は、打錠品、破
砕品でも使用できるが、特に粒状のものが好ましい。
販のシリカが使用できるが、特に細孔径で、孔径の分布
幅の狭いものが好ましい。シリカの形状は、打錠品、破
砕品でも使用できるが、特に粒状のものが好ましい。
またフン素化されたシソカ担体は、フッ素化剤を上記シ
リカと接触させることによってつくられる。
リカと接触させることによってつくられる。
シリカのフッ素化剤としては、フッ化水素や、フルオロ
メタン、フルオロエタンなどの有機フッ素化合物等が使
用できる。有機フッ素化合物の具体的な例としては、ク
ロロトリフルオ口メタン、ジクロ口ジフルオロメタン、
トリクロロフルオロメタン、クロロジフルオ口メタン、
ジクロロフルオロメタン、l,2.2−トリクロロー1
,l,2−トリフルオロエタン、2,2.2−トリクロ
ローt,1,i一トリフルオロエタン、1. 2ジク
ロロ−1.1,2.2−テトラフルオロエタン、2.2
−ジクロロー1.1,1.2−テトラフルオロエタン、
2.2−ジクロロ−1.1.1ートリフルオロエタン、
2−クロロー1.1,1.2−テトラフルオロエタン、
ペンタフルオロエタン、2−クロロ−1.1,l−トリ
フルオロエタン、1,1,1.2−テトラフルオロエタ
ン等カ挙げられる。
メタン、フルオロエタンなどの有機フッ素化合物等が使
用できる。有機フッ素化合物の具体的な例としては、ク
ロロトリフルオ口メタン、ジクロ口ジフルオロメタン、
トリクロロフルオロメタン、クロロジフルオ口メタン、
ジクロロフルオロメタン、l,2.2−トリクロロー1
,l,2−トリフルオロエタン、2,2.2−トリクロ
ローt,1,i一トリフルオロエタン、1. 2ジク
ロロ−1.1,2.2−テトラフルオロエタン、2.2
−ジクロロー1.1,1.2−テトラフルオロエタン、
2.2−ジクロロ−1.1.1ートリフルオロエタン、
2−クロロー1.1,1.2−テトラフルオロエタン、
ペンタフルオロエタン、2−クロロ−1.1,l−トリ
フルオロエタン、1,1,1.2−テトラフルオロエタ
ン等カ挙げられる。
シリカのフッ素化は、フッ素化剤を、窒素、アルゴン等
の不活性ガスで希釈し、或は、希釈せずに、シリカと接
触させる。反応温度は、100’Cないし950°Cの
範囲にとることができるが、好ましくは400℃ないし
6 0 0 ’Cてある。
の不活性ガスで希釈し、或は、希釈せずに、シリカと接
触させる。反応温度は、100’Cないし950°Cの
範囲にとることができるが、好ましくは400℃ないし
6 0 0 ’Cてある。
このようにしてフッ素化されたシリカ担体は、担体中に
フッ素を0.1〜46wt%含有している。
フッ素を0.1〜46wt%含有している。
本発明に使用される触媒は、上記シリカ担体、或はフッ
素化されたシリカ担体にパラジウムを担持させてつくら
れる。
素化されたシリカ担体にパラジウムを担持させてつくら
れる。
パラジウムを担持させるには、パラジウム化合物を適当
な溶媒に溶解し、これにシリカ担体、或はフッ素化され
たシリカ担体を浸漬させてパラジウム化合物を吸着させ
た後、溶媒を蒸発除去し、更に水素、ヒドラジン等の還
元剤で還元して、パラジウム化合物をパラジウム金属と
し、パラジウム/シリカ触媒、或はパラジウム/フッ素
化シリ力触媒が調整される。
な溶媒に溶解し、これにシリカ担体、或はフッ素化され
たシリカ担体を浸漬させてパラジウム化合物を吸着させ
た後、溶媒を蒸発除去し、更に水素、ヒドラジン等の還
元剤で還元して、パラジウム化合物をパラジウム金属と
し、パラジウム/シリカ触媒、或はパラジウム/フッ素
化シリ力触媒が調整される。
パラジウム触媒の:A製時に使用されるパラジウム化合
物としてはパラジウムの無機塩、有機酸塩、及び有機バ
ランウム化合物などが使用可能である。
物としてはパラジウムの無機塩、有機酸塩、及び有機バ
ランウム化合物などが使用可能である。
これらパラジウム化合物としては、例えば、塩化パラジ
ウム、テトラク口ロパラジウム酸ナトリウム、硝酸パラ
ジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジウム、アセチルア
セトナトパラジウム、アリルパラジウムクロライド、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等があ
げられる。また、パラジウム触媒調製時に使用する溶媒
としては、水やアンモニア、塩酸、硫酸、硝酸等の水溶
演、及びメタノール、アセトン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ベンゼンの様な有機溶媒などが使用できる。
ウム、テトラク口ロパラジウム酸ナトリウム、硝酸パラ
ジウム、硫酸パラジウム、酢酸パラジウム、アセチルア
セトナトパラジウム、アリルパラジウムクロライド、テ
トラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム等があ
げられる。また、パラジウム触媒調製時に使用する溶媒
としては、水やアンモニア、塩酸、硫酸、硝酸等の水溶
演、及びメタノール、アセトン、塩化メチレン、クロロ
ホルム、ベンゼンの様な有機溶媒などが使用できる。
上記パラジウム/シリカ触媒、或はパラジウム/フノ素
化/リカ触媒のパラジウム金属担持屋の上限は特に制限
ないが、0.05wt%以上であることが必要である。
化/リカ触媒のパラジウム金属担持屋の上限は特に制限
ないが、0.05wt%以上であることが必要である。
パラジウム金属の担持量が0.05wt%未満では触媒
としての作用が劣り、あまり多いと経済的でない。
としての作用が劣り、あまり多いと経済的でない。
原料の導入に当たって、水素の量は、クロロフルオロエ
タン1モルに対して、0.5ないし20.0倍モルの間
で変動させ得るが、原料のクロロフルオロエタンに含ま
れる塩素原子の数に応じて、少なくとも化学量論量の水
素を用いることが必要である。
タン1モルに対して、0.5ないし20.0倍モルの間
で変動させ得るが、原料のクロロフルオロエタンに含ま
れる塩素原子の数に応じて、少なくとも化学量論量の水
素を用いることが必要である。
上記水素は、窒素、アルゴンなどの不活性ガスで希釈し
ても良い。
ても良い。
触媒に対する原料ガスの空間速度(S V)は、lOな
いし5000hr−の範囲にとることができるが、特に
lOOないし500hr”が好ましい。
いし5000hr−の範囲にとることができるが、特に
lOOないし500hr”が好ましい。
SVが10以下だと生産性が悪く、また500’0以上
にすると、原料の転化率が悪い。
にすると、原料の転化率が悪い。
反応温度は、50ないし4 0 0 ’Cの範囲にとる
ことができるが、特に180ないし3 0 0 ’Cか
好ましい。反応温度が50’C未満では反応がほとんど
進行せず、また、4 0 0 ’Cを越えると、生成物
の選択率が悪くなる。
ことができるが、特に180ないし3 0 0 ’Cか
好ましい。反応温度が50’C未満では反応がほとんど
進行せず、また、4 0 0 ’Cを越えると、生成物
の選択率が悪くなる。
上記パラジウム/シリカ触媒は、適正反応温度が低いの
で過剰水添反応が抑制され、副生物の生戊が少なくなる
。また、パラジウム/フッ素化シリカ触媒は、上記パラ
ジウム/シリカ触媒の長所を保持し、かつ耐酸性が強く
、また、撥酸性がよく、酸性物質の吸着能が低いため、
反応により生成する塩化水素や、副反応により生成する
フノ化水素を、効率よく反応点から除去するので、さら
に副反応が進行しにくい。
で過剰水添反応が抑制され、副生物の生戊が少なくなる
。また、パラジウム/フッ素化シリカ触媒は、上記パラ
ジウム/シリカ触媒の長所を保持し、かつ耐酸性が強く
、また、撥酸性がよく、酸性物質の吸着能が低いため、
反応により生成する塩化水素や、副反応により生成する
フノ化水素を、効率よく反応点から除去するので、さら
に副反応が進行しにくい。
次に実施例、比較例を示して本発明を具体的に説明する
。
。
実施例l
塩化第一パラジウムナトリウムを水に溶解し、これに8
〜l2メッシュの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製
,CAR I ACT− 1 5)を浸漬し、上記パラ
ジウム塩を吸着させた。これを取出し、llo’cの温
度で溶媒を蒸発除去し、さらに2 0 0 ’Cの温度
で空気焼成した後、4 0 0 ’Cの温度で水素還元
を行いパラジウム/シリカ触媒を造った。この触媒のパ
ラジウム金属の担持率は、2vt%であった。
〜l2メッシュの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製
,CAR I ACT− 1 5)を浸漬し、上記パラ
ジウム塩を吸着させた。これを取出し、llo’cの温
度で溶媒を蒸発除去し、さらに2 0 0 ’Cの温度
で空気焼成した後、4 0 0 ’Cの温度で水素還元
を行いパラジウム/シリカ触媒を造った。この触媒のパ
ラジウム金属の担持率は、2vt%であった。
この2wt%パラジウム/シリカ触媒を電気炉に挿入さ
れた内径1インチ、長さ50cmのSUSI反応管に2
0xQ充填し、2−クロロー1.1,1.2−テトラフ
ルオロエタンおよび水素をそれぞれ40!I2/分の速
度で供給した。次いで反応管より排出したガスを、アル
カリ水溶液で洗浄し、モレキュラシーブスで乾燥した後
、ガスクロマトグラフィーによって分析した。結果を第
1表に示す。
れた内径1インチ、長さ50cmのSUSI反応管に2
0xQ充填し、2−クロロー1.1,1.2−テトラフ
ルオロエタンおよび水素をそれぞれ40!I2/分の速
度で供給した。次いで反応管より排出したガスを、アル
カリ水溶液で洗浄し、モレキュラシーブスで乾燥した後
、ガスクロマトグラフィーによって分析した。結果を第
1表に示す。
第 1 表
実施例2
触媒のパラジウム金属の量を5wt%とじて、5%パラ
ジウム/シリカ触媒を用い、導入する2クロロ−1.1
,1.2−テトラフルオロエタンを40cc/分、水素
を60cc/分とした以外は実施例lと同じにした。結
果を第2表に示す。
ジウム/シリカ触媒を用い、導入する2クロロ−1.1
,1.2−テトラフルオロエタンを40cc/分、水素
を60cc/分とした以外は実施例lと同じにした。結
果を第2表に示す。
第 2 表
実施例3
塩化第一パラジウムナトリウムを水に溶解し、これに8
〜l2メッシュの球状のシリカ担体く富士ダビンン社製
,CAR[ACT−15)を浸漬し、上記パラジウム塩
を吸着させた。これを取り出し、IOO℃の温度で溶媒
を蒸発除去し、更に200°Cの温度で空気焼成した後
、4 0 0 ’Cの温度で水素還元を行いパラジウム
/シリカ触媒を造った。この触媒のパラジウム金属の担
持率は、5%であった。この触媒を電気炉に挿入された
内径1インチ、長さ50cmのSUS製反応器に20m
(!充填し、反応温度130°Cで、l,1.1−トリ
クロロ、2,2.2−トリフルオ口エタンおよび水素を
それぞれ50RQ/分の速度で供給した。次いで反応管
より排出したガスをアルカリ水溶液で洗浄し、モレキュ
ラシーブスで乾燥した後、ガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を第3表に示す。
〜l2メッシュの球状のシリカ担体く富士ダビンン社製
,CAR[ACT−15)を浸漬し、上記パラジウム塩
を吸着させた。これを取り出し、IOO℃の温度で溶媒
を蒸発除去し、更に200°Cの温度で空気焼成した後
、4 0 0 ’Cの温度で水素還元を行いパラジウム
/シリカ触媒を造った。この触媒のパラジウム金属の担
持率は、5%であった。この触媒を電気炉に挿入された
内径1インチ、長さ50cmのSUS製反応器に20m
(!充填し、反応温度130°Cで、l,1.1−トリ
クロロ、2,2.2−トリフルオ口エタンおよび水素を
それぞれ50RQ/分の速度で供給した。次いで反応管
より排出したガスをアルカリ水溶液で洗浄し、モレキュ
ラシーブスで乾燥した後、ガスクロマトグラフィーで分
析した。結果を第3表に示す。
第
3
表
実施例4
酢酸パラジウムをアンモニア水に溶解し、シリ力担体を
含浸させ、酢酸パラジウムを吸着させた。
含浸させ、酢酸パラジウムを吸着させた。
これを100℃に加熱して溶媒を蒸発除去し、窒素気流
中、200℃で焼成した後、350℃で3時間水素還元
し、パラジウム/シリカ触媒を調製した。この触媒のパ
ラジウム担持量はパラジウム金属換算で5wt%であっ
た。
中、200℃で焼成した後、350℃で3時間水素還元
し、パラジウム/シリカ触媒を調製した。この触媒のパ
ラジウム担持量はパラジウム金属換算で5wt%であっ
た。
このように調製されたパラジウム触媒を、電気炉に挿入
された内径1インチ、長さ50CJlのSUS 82反
応管に20i+2充填し、クロロフルオロエタンとして
、2−クロロー1.1.1.2−テトラフルオロエタン
及び水素を、それぞれ16.7及び50.0,tQ/分
の速度で供給した。反応管より俳出されたガスを、アル
カリ水溶液で洗浄し、そレキュラシーブスで乾燥した後
、ガスクロマトグラフィーによって分析した。結果を第
4表に示す。
された内径1インチ、長さ50CJlのSUS 82反
応管に20i+2充填し、クロロフルオロエタンとして
、2−クロロー1.1.1.2−テトラフルオロエタン
及び水素を、それぞれ16.7及び50.0,tQ/分
の速度で供給した。反応管より俳出されたガスを、アル
カリ水溶液で洗浄し、そレキュラシーブスで乾燥した後
、ガスクロマトグラフィーによって分析した。結果を第
4表に示す。
第 4 表
フッ素化シリカ担体の調整例l
シリカ担体(富士ダビソン社iN,CARIACT−1
0.10−20a+esh)を窒素気流中、200゜C
で2時間焼成し、550℃に加熱した後、クロロトリフ
ルオロメタン/窒素=1/1 (体積比)の混合ガスを
550℃で5時間接触させ、フッ素化シリカ担体を調製
した。フノ素化シリカ担体を、元素分析により分析した
結果、フノ素含有率は12.5wt%であった。
0.10−20a+esh)を窒素気流中、200゜C
で2時間焼成し、550℃に加熱した後、クロロトリフ
ルオロメタン/窒素=1/1 (体積比)の混合ガスを
550℃で5時間接触させ、フッ素化シリカ担体を調製
した。フノ素化シリカ担体を、元素分析により分析した
結果、フノ素含有率は12.5wt%であった。
フッ素化シリカ担体の調製例2
反応温度を400℃とし、フッ素化ガスを1,2.2−
トリクロ口−1.1.2−トリフルオロエタンとした以
外は、調製例1と同様の操作によってフッ素化シリカ担
体を調製した。フッ素含有率は8 . O wt%であ
った。
トリクロ口−1.1.2−トリフルオロエタンとした以
外は、調製例1と同様の操作によってフッ素化シリカ担
体を調製した。フッ素含有率は8 . O wt%であ
った。
実施例5
酢酸パラジウムをアンモニア水に溶解し、この溶液に調
製例lのようにして調製したフッ素化シリカ担体を含浸
させ、酢酸パラジウムを吸着させた。これを100℃に
加熱して溶媒を蒸発除去し、窒素気流中、200″Cで
焼成した後、350℃で3時間水素還元し、パラジウム
/フッ素化シリカ触媒を調製した。この触媒のパラジウ
ム担持量はパラジウム金属換算で5wt%であった。
製例lのようにして調製したフッ素化シリカ担体を含浸
させ、酢酸パラジウムを吸着させた。これを100℃に
加熱して溶媒を蒸発除去し、窒素気流中、200″Cで
焼成した後、350℃で3時間水素還元し、パラジウム
/フッ素化シリカ触媒を調製した。この触媒のパラジウ
ム担持量はパラジウム金属換算で5wt%であった。
このように調製されたパラジウム触媒を、電気炉に挿入
された内径lインチ、長さ50ciのSUS製反応管に
20jl充填し、クロロフルオロエタンとして、2−ク
ロロ−1,l,l,2−テトラフルオロエタン及び水素
を、それぞれ16.7及び50.01!12/分の速度
で供給しt;。反応管より排出されたガスを、アルカリ
水溶液で洗浄し、モレキュランーブで乾燥した後、ガス
クロマトグラフィーによって分析した。結果を第5表に
示す。
された内径lインチ、長さ50ciのSUS製反応管に
20jl充填し、クロロフルオロエタンとして、2−ク
ロロ−1,l,l,2−テトラフルオロエタン及び水素
を、それぞれ16.7及び50.01!12/分の速度
で供給しt;。反応管より排出されたガスを、アルカリ
水溶液で洗浄し、モレキュランーブで乾燥した後、ガス
クロマトグラフィーによって分析した。結果を第5表に
示す。
第
5
表
実施例6
調製例2のように調製したフッ素化シリヵ担体を使用し
た以外は、実施例5と同様の操作によりパラジウム/フ
ッ素化シリカ触媒を調製し、反応を行い、排出ガスを分
析した。結果を第6表に示す。
た以外は、実施例5と同様の操作によりパラジウム/フ
ッ素化シリカ触媒を調製し、反応を行い、排出ガスを分
析した。結果を第6表に示す。
第 6 表
実施例7
パラジウム化合物の溶剤をアセトンとした以外は、実施
例5と同様の操作により、パラジウム/フッ素化シリカ
触媒を調製し、反応を行い、排出ガスを分析した。結果
を第7表に示す。
例5と同様の操作により、パラジウム/フッ素化シリカ
触媒を調製し、反応を行い、排出ガスを分析した。結果
を第7表に示す。
第 7 表
実施例8
クロロフルオロエタンを2,2−ジクロローl,1,1
.2−テトラフルオロエタンとした以外は、実施例5と
同様の操作により、パラジウム/フッ素化シリカ触媒を
調製し、反応を行い、排出ガスを分析した。結果を第8
表に示す。
.2−テトラフルオロエタンとした以外は、実施例5と
同様の操作により、パラジウム/フッ素化シリカ触媒を
調製し、反応を行い、排出ガスを分析した。結果を第8
表に示す。
第 8 表
実施例9
塩化第一パラジウムナトリウムを水に溶解し、これに8
〜12メッシュの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製
,CARIACT−15)を浸漬し、上記パラジウム塩
を吸着させた。これを取り出し、110’Cの温度で溶
媒を蒸発除去し、更に200℃の温度で空気焼成した後
、400℃の温度で水素還元を行いパラジウム/シリカ
触媒を造った。この触媒のパラジウム金属の担持率は、
5%であった。この触媒を電気炉に挿入された内径1イ
ンチ、長さ500llのSUS製反応器に20mQ充填
し、反応温度260℃で、l−クロロ−1,l,2,2
−テトラフルオロエタンおよび水素をそれぞれ500/
分の速度で供給した。次いで反応管より排出したガスを
アルカリ水溶液で洗浄し、モレ牛1ラシーブスで乾燥し
た後、ガスクロマトグラフィーで分析した。結果を第9
表に示す。
〜12メッシュの球状のシリカ担体(富士ダビソン社製
,CARIACT−15)を浸漬し、上記パラジウム塩
を吸着させた。これを取り出し、110’Cの温度で溶
媒を蒸発除去し、更に200℃の温度で空気焼成した後
、400℃の温度で水素還元を行いパラジウム/シリカ
触媒を造った。この触媒のパラジウム金属の担持率は、
5%であった。この触媒を電気炉に挿入された内径1イ
ンチ、長さ500llのSUS製反応器に20mQ充填
し、反応温度260℃で、l−クロロ−1,l,2,2
−テトラフルオロエタンおよび水素をそれぞれ500/
分の速度で供給した。次いで反応管より排出したガスを
アルカリ水溶液で洗浄し、モレ牛1ラシーブスで乾燥し
た後、ガスクロマトグラフィーで分析した。結果を第9
表に示す。
第
9
表
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明に係るフルオロエタンの製
造方法は、原料の転化率が高く、かつ副生物の生成量が
少ないのでフルオロエタンを収率よく得ることが出来、
特にフッ素化シリカを担体とすれば、副生物の生成量が
さらに抑制され、長寿命となる等の長所を有し、従来の
方法に比して多くの利点を有する。
造方法は、原料の転化率が高く、かつ副生物の生成量が
少ないのでフルオロエタンを収率よく得ることが出来、
特にフッ素化シリカを担体とすれば、副生物の生成量が
さらに抑制され、長寿命となる等の長所を有し、従来の
方法に比して多くの利点を有する。
Claims (3)
- (1)式:CX^1X^2X^3CClX^4X^5(
但し、式中、X^1、X^2、X^3、X^4、X^5
は水素、フッ素または塩素であり、少なくとも一つはフ
ッ素)で表されるクロロフルオロエタンを、シリカ担体
に担持されたパラジウムからなる触媒の存在下で、水素
と反応させ、式:CY^1Y^2Y^3CHY^4Y^
5(但し、式中Y^1、Y^2、Y^3、Y^4、Y^
5は水素、フッ素または塩素であり、少なくとも一つは
フッ素)で表されるフルオロエタンを生成せしめること
を特徴とするフルオロエタンの製造方法。 - (2)シリカ担体が、フッ素化されたシリカ担体である
請求項(1)記載のフルオロエタンの製造方法。 - (3)CX^1X^2X^3CClX^4X^5が2−
クロロ−1,1,1,2−テトラフルオロエタンで、C
Y^1Y^2Y^3CHY^4、Y^5が、1,1,1
,2−テトラフルオロエタンである請求項(1)または
(2)記載のフルオロエタンの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20611889 | 1989-08-09 | ||
JP1-206118 | 1989-08-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03163033A true JPH03163033A (ja) | 1991-07-15 |
Family
ID=16518096
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21010090A Pending JPH03163033A (ja) | 1989-08-09 | 1990-08-08 | フルオロエタンの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03163033A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995013256A1 (fr) * | 1993-11-12 | 1995-05-18 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de production de 1,1,1,3,3-pentafluoropropane__________ |
WO2011162340A1 (ja) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
-
1990
- 1990-08-08 JP JP21010090A patent/JPH03163033A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995013256A1 (fr) * | 1993-11-12 | 1995-05-18 | Daikin Industries, Ltd. | Procede de production de 1,1,1,3,3-pentafluoropropane__________ |
WO2011162340A1 (ja) * | 2010-06-23 | 2011-12-29 | 旭硝子株式会社 | 2,3,3,3-テトラフルオロプロペンの製造方法 |
US8569553B2 (en) | 2010-06-23 | 2013-10-29 | Asahi Glass Company, Limited | Process for producing 2,3,3,3-tetrafluoropropene |
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