JPH03155685A - ヘリウム・ネオンレーザ管 - Google Patents

ヘリウム・ネオンレーザ管

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JPH03155685A
JPH03155685A JP2208521A JP20852190A JPH03155685A JP H03155685 A JPH03155685 A JP H03155685A JP 2208521 A JP2208521 A JP 2208521A JP 20852190 A JP20852190 A JP 20852190A JP H03155685 A JPH03155685 A JP H03155685A
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JP
Japan
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refractive index
wavelength
neon laser
multilayer film
laser tube
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JP2208521A
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English (en)
Inventor
Yasuhiro Akiyama
秋山 泰宏
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NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/02Constructional details
    • H01S3/03Constructional details of gas laser discharge tubes
    • H01S3/034Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08059Constructional details of the reflector, e.g. shape

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ヘリウム・ネオンレーザ管に関し、特に63
28人線の出力を増大し、3,39μm線の出力を減少
できるようにしたヘリウム・ネオンレーザ管に関する。
〔従来の技術〕
ヘリウム・ネオンレーザ管を波長6328人で発振させ
る場合、波長6328人に対応する遷移はネオン382
から2P4準位であるが、他方同一の上の準位3Stを
共有して3P、に遷移する3、39μmのレーザ発振が
存在する。波長3.39μmの発振は、6328人の発
振よりもはるかに増幅利得が大きいため、両者は同一レ
ーザ管内でしばしば同時に発振し、いわゆる競合現象を
示し、6328人線は単独で発振する場合に比較して出
力が低下する。この現象は1mW級程度の出力が小さい
場合には目立たないが、5mW級以上の高出力ヘリウム
・ネオンレーザ装置の場合には特に顕著になる。そこで
従来波長3.39μmにおける誘導放射を選択的に阻止
するため次のような手段が取られていた。すなわち、(
イ)共振器内に3.39μmに対して強い吸光度を示し
、6328人に対しては透明度の高い気体、たとえばメ
タンあるいはエタノール蒸気などを導入する。(ロ)共
振器内に損失の少ないプリズム等の分散素子導入し、そ
の分散を利用して6328人に対しては共振状態であり
、3.39μmに対しては非共振状態を保つ。(ハ)放
電管にそってフェライト磁石などをならべ、不均一性磁
界を生ぜしめ、これにより相対的に3.39μm線の増
幅利得を低下させる。
以上のように、従来のものは特別の付加装置を設けるこ
とが必要であり、高価となる。それ故6328人の波長
での反射率を太きく3.39μmでの波長の反射率を小
さくとるようにレーザミラーの分光反射率特性を設計す
ることが考えらとるが、この方法として、従来特公昭5
0−37519号公報および特公昭63−26560号
公報に開示されているものがある。
すなわち、その発明の要旨は次の通りである。
(1)全反射側ミラーの多層膜構成をS u l) 。
(H−L:] +2  H・6 L、l A i rの
26層とする。
ここでH,Lはそれぞれ光学的膜厚がλ。/4の高屈折
率物質及び低屈折率物質であり、λ。は中心波長でλ。
26328人である。また、Sub。
はガラス基板、A i rは空気をそれぞれ意味する。
一方、出力側ミラーの多層膜構成はSub。
CH−L:)s−H−L’1Airの14層である。
ここで出力側ミラーのH,Lは、光学的膜厚が8475
人である。すなわちL′≧5Lである、前記全反射側ミ
ラーと前記出力側ミラーとを有するヘリウム・ネオンレ
ーザ管である。(2)全反射ミラーの多層膜構成をSu
b、l  CH−LD +t  H・LIAirの26
層とすると、ここで、H,Lは光学的膜厚が入。′/4
であり、λ。′は中心波長で、λ。’=6700人であ
る。また最終層L′は光学的膜厚が8475人である。
すなわちL′≧5Lである。前記全反射ミラーと(1)
に記載の出力側ミラーとを有するヘリウム・ネオンレー
ザ管である。(3)全反射側ミラーの多層膜構成をSu
 b。
〔H−L:l *−H・2 L I A i rの20
層またはSub。l CH−L:] to−H・2LI
Ai rの22層とする。ここでH,Lはそれぞれ光学
的膜厚がλ、/4の高屈折率物質及び低屈折率物質であ
り、λ。は中心波長でλ。26328人である。
一方、出力側ミラーの多層膜構成は、Sub。
CH−L)、−X・2LIAi rの12層とする。
ここでH,Lはそれぞれ光学的膜厚がλ。/4の高屈折
率物質(二酸化チタン)及び低屈折率物質であり、Xは
光学的膜厚がλl)/4で二酸化チタン以外の高屈折率
物質(酸化ジルコニウムまたは酸化ランタン)であり、
λ。は中心波長でλ。26328人である。前記全反射
側ミラーと前記出力側ミラーとを有するヘリウム・ネオ
ンレーザ管であるつ 以上の<1)、 (2)または(3)の多層膜構成のレ
ーザミラーを用いて、6328人の波長における反射率
を高く、また3、39μmの波長において反射率を低く
抑えている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述した従来の多層膜構成によるI/−ザミラーには次
に述べるような欠点がある。すなわち、(イ)全反射側
ミラーの層数が26層と非常に多く、多層膜の形成のた
めの蒸着時間がかかり過ぎる。またCH−L)の交互層
を多くしすぎると反射率の増加より、膜の吸収・散乱が
大きくなってしまう。(ロ)全反射側ミラーの膜構成を
Sub。
CH,L:]−−H・2LIAi rまたはSub。
CH−L)to  H・2LIAirとすると、3.3
9μmの反射率は3%であり、必ずしも充分小さく抑え
られていない。このため3.39μmの波長のレーザ光
線が同時発振する。(ハ)出力側ミラーの膜構成をS 
u b 、  l  CH,L:] ]a−H−L’A
iとすると、3.39.umの反射率は1.4%であり
、必ずしも充分小さく抑えられていない。
このため3.39μmの波長のレーザ光線が同時発振す
る。また最終層L′の中心波長がそれ以前の6328人
から6700人に切り換えており、蒸着中に中心波長の
切り換えを行わなければならない。これは蒸着中の作業
ミス発生につながるし、また切り換え作業も操作が多く
かかる。(鴨出力側ミラーの膜構成をSub、I CH
,L:ls  X・2LIAirとすると、高屈折率物
質を2種類使用しなければならず、且つ、物質が異った
場合、蒸着条件を変えなければならないため、作業ミス
発生につながるし、また切り換え作業及び蒸着前作業の
時間が多くかかる。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のヘリウム・ネオンレーザ管は、レーザ・ミラー
の分光反射率を6328人の波長において高く、3.3
9μmの波長において低くとるため、出力側ミラーの多
層膜が、高屈折率物質Hと低屈折率物質りの交互層の1
2層より成り、基板側より数えて2層目及び最終層の物
質の光学的膜厚が(λ。/4) ×nl+ (λ。/4
)Xnz(λ。は6328人。
n、=3.n2=6、またはrB=5p H2=4.n
+7゜n2=2である。)であり、他はすべてλO/4
(λ、/4は6328人)である構成、すなわちSub
、lH・3L(HL)4−H・6LIAirまたは、S
ub、la−5L (H−L)s  H・4LA i 
r 、またはSub、lH・7L・ (H−L)<−H
lLIAirであり(Sub、はガラス基板の意味)、
全反射側ミラーの多層膜が高屈折率物質Hと低屈折率物
質りの交互層の24層よりなり、基板側より数えて最終
層の物質の光学的膜厚(λ。/4)X7であり他は全て
λ。/4 (λ。は6328人)である構成、すなわち
Sub。
(H−L)++−H・7LIAi rであることを特徴
とする2種類のレーザミラーのうち少なくとも1種類の
レーザミラーを有することを特徴とする。
〔実施例〕
次に、本発明について図面を参照して説明する。
ヘリウム・ネオンレーザ用ミラーは、第1図に示すよう
に、光学研磨された透明ガラス基板1上に形成された高
屈折率物質(H)2と低屈折率物質(L)3の交互層を
主体とした誘電体多層膜で構成されており、各層の光学
的膜厚はλ。/4を標準する。ここでλ。はヘリウム・
ネオンレーザの発振波長で、λ。−6328人である。
誘電体多層膜としては、酸化セリウム(Cen2)とフ
ッ化マグネシウム(MgFz)の系、硫化亜鉛(Z n
 S)とフッ化マグネシウムの系、あるいは二酸化チタ
ン(TiO□)と二酸化シリコン(SiCh)の系等が
用いられるが、ここではハードコートされた二酸化チタ
ンと二酸化シリコンの系を例にとって述べる。
実施例1:出力側ミラー 出力側ミラーは、ヘリウム・ネオンレーザ管内で発振し
た6328人の光を一部取り出すため6328人での透
過率は通常1.0%から2.0%程度の範囲のもの、す
なわち反射率が98.0%から99.0%程度の範囲の
ものが要求される。透明ガラス基板l上に形成された二
酸化チタン(T)と二酸化シリコン(S)の系から成り
同一中心波長を使用し、最終層の光学的膜厚がλ0/2
の構成、すなわちSub、l  l:T−8)、−T・
2SIAir−・・・■においてXを変えた場合、出力
側ミラーとして使用し得るものすなわち、透過率が1.
0%から2.0%の範囲にあるものはX=5つまり12
層の場合しか、存在しないが、この時の3.39μmで
の反射率は7.5%と大きな値となってしまう。この欠
点を解決するため、次の多層膜構成、Sub。
T−ns・ I:T−8:)4−T−nzSIAir・
・・・・■を採用した。ここでn、=:3.n2=8又
はn、5.n2=4あるいはn +” 7 r 12=
2である。本構成において% n + =7 p n 
t ” 2の時の6328人での透過率は1.3%(反
射率は98.7%)であり、3.39μmでの反射率は
0.3%と小さい値である。この場合の400nmから
800 nmの範囲の分光透過率の測定結果の一例を第
2図に示す。第2図で曲線4aは縦軸のフルスケールが
100%で、曲線4bは同フルスケールが10%での表
示である。分光透過率の測定結果からも6328人での
透過率の値が約1.3%であることがわかる。また同じ
出力側ミラーの2.5μmから5μmまでの分光反射率
の測定結果を第3図に示す。3.39μmでの反射率の
値が0.3%であり、分光反射率曲線の反射率の極小値
付近に来ていることがわかる。
またn + ” 5 + n 2 ” 4の場合の63
28人の波長に対する透過率は1.3%(反射率は98
.7%)であり、3.39μmの波長に対する反射率は
0.3%である。
さらにn1=3.n4=6の場合の6328人の波長に
対する透過率は1.3%(反射率は98.7%)であり
、3.39μmの波長に対する反射率は0.6%である
上記以外の場合では、例えばn 1= 6 、 n 2
= 2のとき、6328Aの波長に対しての反射率は9
5.3%になり、出射ミラーの条件を満たさない。
また、3.39μmの波長に対する反射率は10%と大
きくなってしまう。
また、n1=7.nz3の場合は、3.39μmの波長
に対しての反射率は1%であるが6328人の波長に対
しての反射率が97.4%となり、出射ミラーの条件を
満たさない。また、n、=7.  n2:lの場合は3
.39μmの波長に対する反射率は1.3%であり、6
328人の波長に対しての反射率は97.4%となり、
本発明の目的する所望範囲から両方ともはずれている。
このように、本実施例の条件でのみ、3.39μmの波
長に対する反射率を1%以下とし、かつ6328人の波
長に対する反射率を出力ミラーの条件内に保つことがで
きる。
なお、全暦数を10層以下とすると、6328人の波長
に対する反射率が97%以下となり、使用できない。
実施例2:全反射側ミラー 全反射側ミラーは6328人での反射率を極力大きくす
ることが望まれるが、通常99.9%以上の反射率であ
れば実用的に問題なく使用される。
前記実施例1の構成■において、全反射側ミラーとして
使用し得るものすなわち、6328人の反射率が99.
9%以上になるものはX=10.11゜すなわち22層
及び24層の時である。この時の3.39μmでの反射
率は3%と大きな値となってしまう。この欠点を解決す
るため、次の多層膜構成Sub、l CT−3)++−
T・7SIAir・・・”・■を採用した。本構成の時
の6328人での反射率は99.9%を上回っており、
3.39μmでの反射率は0.1%と小さい値である。
この場合の400nmから800nmの範囲の分光透過
率の測定結果を第4図に示す。第4図で曲線5aは縦軸
のフルスケールが100%で、曲線5bは同フルスケー
ルが10%での表示である。
これから6328Aでの透過率は殆んどゼロ、すなわち
反射率が殆んど100%であることがわかる。また第5
図に同じ全反射側ミラーの2.5μmから5μmの範囲
の分光反射率の一例を示す。これより、3.39μmの
反射率が殆んど0%であり、分光反射率曲線の極値付近
に来ていることがわかる。
なお、上記構成で最終層の厚みが7・λ、/4より大き
くても、小さくても3.39μmの反射率が3%を越え
ることを確認した。
以上の実施例に述べた出力側ミラー及び全反射側ミラー
を用いて第6図に示すような5mW級の高出力ヘリウム
・ネオンレーザ管を作製した。第6図において、出力側
ミラーは、ガラス基板6上に前記実施例1の構成■の多
層膜7を形成1−たものであり、全反射側ミラーはガラ
ス基板8上に同じく■の多層膜9を形成したものである
。以上の高出力ヘリウム・ネオンレーザ管は、3.39
μmの波長に対する反射率を1%以下にしてその影響を
無視することができるものである。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、誘電体多層膜において高
屈折率物質に二酸化チタン、低屈折率物質に二酸化シリ
コンを用い、出力側ミラーの膜構成をSub、1T−n
、S c’r−s)4  T−nzSAirここでn 
r = 3 、 n 2 = 5またはH,=5゜n2
4.あるいはn、=7.n2−2であるものとし、且つ
、全反射側ミラーの膜構成をSub。
CT−8] +r−T・7SIAirとして、この両ミ
ラーを用いることにより、高出力ヘリウム・ネオンレー
ザ管の3.39μmの波長の発振を阻止し、6328人
の波長の出力を増大できる効果がある。
また、本発明では、全反射側ミラー及び出力側ミラーの
両方が3.39μmでの反射率を抑えた膜構成である場
合につき詳細したが、一方のミラーだけに本発明のもの
を用いても、相当の効果がある。
また本発明は、高出力ヘリウム・ネオンレーザ管のみな
らず、1mW級等の他のヘリウム・ネオンレーザ管に使
用されることは言うまでもない。
曲線を示す図、第3図は本発明の出力側ミラーの2.5
μmから5μmの範囲の分光反射率曲線を示す図、第4
図は本発明の全反射側ミラーの400nmから800n
mの範囲の分光透過率曲線を示す図、第5図は本発明の
全反射側ミラーの2.5μmから5μmの範囲の分光反
射率曲線を示す図、第6図は本発明によるヘリウム・ネ
オン1ノ−ザ管を示す断面図である。
1.6.8・・・・・・ガラス基板、2・・印・高屈折
率物質、3・・・・・・低屈折率物質、4a、4b・・
川・6328Aでの透過率、5a、5b・・・・・・3
.39μmでの反射率、7・・・・・・出力側誘電体多
層膜、9・・・・・・全反射側誘電体多層膜。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)誘電体多層膜からなる出力側ミラーおよび全反射
    側ミラーを有するヘリウム・ネオンレーザ管において、
    出力側ミラーは、基板上に形成された高屈折率物質と低
    屈折率物質からなる12層の多層膜を有し、該多層膜の
    基板側から数えて第2層目及び最終層が低屈折率物質で
    あり、その光学的膜厚が各々(λ_0/4)×n_1及
    び(λ_0/4)×n_2(λ_0は6328Åで、n
    _1+1n_2=9の関数を満たしn_1は3、5、7
    のうちのひとつから選ばれた自然数)で他はすべてλ_
    0/4である誘電体多層膜を有していることを特徴とす
    るヘリウム・ネオンレーザ管。
  2. (2)前記全反射側ミラーは、基板上に形成された高屈
    折率物質と低屈折率物質からなる多層膜を有し、該多層
    膜の基板側から数えて最終層が低屈折率物質であり、そ
    の光学的膜厚が(λ_0/4)×7で、他は全てλ_0
    /4である誘電体多層膜を有していることを特徴とする
    請求項(1)記載のヘリウム・ネオンレーザ管。
  3. (3)前記高屈折率物質が酸化チタンであり、前記低屈
    折率物質が酸化シリコンである請求項(1)記載のヘリ
    ウム・ネオンレーザ管。
  4. (4)前記全反射側ミラーの多層膜が24層である請求
    項(2)記載のヘリウム・ネオンレーザ管。
JP2208521A 1989-08-08 1990-08-07 ヘリウム・ネオンレーザ管 Pending JPH03155685A (ja)

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JP20593989 1989-08-08

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