JPH07244203A - ２波長反射防止膜 - Google Patents
２波長反射防止膜Info
- Publication number
- JPH07244203A JPH07244203A JP6034772A JP3477294A JPH07244203A JP H07244203 A JPH07244203 A JP H07244203A JP 6034772 A JP6034772 A JP 6034772A JP 3477294 A JP3477294 A JP 3477294A JP H07244203 A JPH07244203 A JP H07244203A
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- JP
- Japan
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- wavelength
- refractive index
- reflection film
- index layer
- antireflection film
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 膜吸収を低くし、レーザ耐久性を高くし、且
つ、248 ｎｍ近辺における反射防止帯域を広くする。 【構成】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より
長波長側の第２波長λ2近辺に反射率の極小を持つ２波
長反射防止膜において、反射防止膜を高屈折率層３と低
屈折率層２との交互ｎ層膜で構成し、かつ高屈折率層３
及び低屈折率層２として無機フッ化物を使用する。
つ、248 ｎｍ近辺における反射防止帯域を広くする。 【構成】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より
長波長側の第２波長λ2近辺に反射率の極小を持つ２波
長反射防止膜において、反射防止膜を高屈折率層３と低
屈折率層２との交互ｎ層膜で構成し、かつ高屈折率層３
及び低屈折率層２として無機フッ化物を使用する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、第１波長λ1 ＝248.4n
m 近辺と第１波長より長波長側の第２波長λ2 近辺（例
えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反
射率の極小を持ち、光学基板上に形成された２波長反射
防止膜に関する。
m 近辺と第１波長より長波長側の第２波長λ2 近辺（例
えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810nm)にそれぞれ反
射率の極小を持ち、光学基板上に形成された２波長反射
防止膜に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、集積化ＩＣを製造するために、縮
小投影露光装置が使用されている。ＩＣの集積化に伴
い、露光に使用される波長も短波長化が進んでいる。現
在、露光に使用される光の主流となっいる波長は、エキ
シマレーザから発光される波長λ＝248.4nm （紫外線）
である。また、半導体基板のアライメント用には、レジ
ストの感光しない長波長の光、例えば632.8nm (He-Neレ
ーザ) 、720nm(半導体レーザ) 、780nm(半導体レーザ)
、810nm （半導体レーザ) などが使用されている。
小投影露光装置が使用されている。ＩＣの集積化に伴
い、露光に使用される波長も短波長化が進んでいる。現
在、露光に使用される光の主流となっいる波長は、エキ
シマレーザから発光される波長λ＝248.4nm （紫外線）
である。また、半導体基板のアライメント用には、レジ
ストの感光しない長波長の光、例えば632.8nm (He-Neレ
ーザ) 、720nm(半導体レーザ) 、780nm(半導体レーザ)
、810nm （半導体レーザ) などが使用されている。
【０００３】そのため、露光装置内に使用される光学要
素例えばレンズ上に形成される反射防止膜には、第１波
長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長側の第２波
長λ 2 近辺（例えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810n
m)にそれぞれ反射率の極小を持つ２波長反射防止膜が要
求されている。また、同時にエキシマ光によって光学薄
膜が破損しないことも要求されている。
素例えばレンズ上に形成される反射防止膜には、第１波
長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長側の第２波
長λ 2 近辺（例えば、632.8nm 、720nm 、780nm 、810n
m)にそれぞれ反射率の極小を持つ２波長反射防止膜が要
求されている。また、同時にエキシマ光によって光学薄
膜が破損しないことも要求されている。
【０００４】これまで使用されてきた２波長反射防止膜
としては、例えば、特開昭６３−１１３５０１号公報に
開示されているように、レンズ基板上に第１層目として
中間屈折率物質、第２層目及び第４層目として低屈折率
物質、第３層目として高屈折率物質で構成される４層構
造を持ち248.4 ｎｍと約500 〜800 ｎｍの波長領域で反
射防止を行うというものであった。この２波長反射防止
膜の特性図を図３に示す。
としては、例えば、特開昭６３−１１３５０１号公報に
開示されているように、レンズ基板上に第１層目として
中間屈折率物質、第２層目及び第４層目として低屈折率
物質、第３層目として高屈折率物質で構成される４層構
造を持ち248.4 ｎｍと約500 〜800 ｎｍの波長領域で反
射防止を行うというものであった。この２波長反射防止
膜の特性図を図３に示す。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
２波長反射防止膜は、主に高屈折率酸化物層に起因す
る、膜吸収が高い、レーザ耐久性が低いという第１の問
題点があった。また、248ｎｍ近辺における反射防止帯
域が狭いため、製造誤差等により、その反射率特性が短
波長側あるいは長波長側へシフトした場合、反射防止効
果が容易に低下するという第２の問題点があった。
２波長反射防止膜は、主に高屈折率酸化物層に起因す
る、膜吸収が高い、レーザ耐久性が低いという第１の問
題点があった。また、248ｎｍ近辺における反射防止帯
域が狭いため、製造誤差等により、その反射率特性が短
波長側あるいは長波長側へシフトした場合、反射防止効
果が容易に低下するという第２の問題点があった。
【０００６】本発明は、膜吸収が低く、レーザ耐久性が
高く、且つ、248 ｎｍ近辺における反射防止帯域が広い
２波長反射防止膜を提供することを目的とする。
高く、且つ、248 ｎｍ近辺における反射防止帯域が広い
２波長反射防止膜を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】そのため、本発明は第１
に「第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長
側の第２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ２波長反射
防止膜において、反射防止膜を高屈折率層と低屈折率層
との交互ｎ層膜（ｎは自然数）で構成し、かつ前記高屈
折率層及び低屈折率層として無機フッ化物を使用したこ
とを特徴とする反射防止膜（請求項１）」を提供する。
に「第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長より長波長
側の第２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ２波長反射
防止膜において、反射防止膜を高屈折率層と低屈折率層
との交互ｎ層膜（ｎは自然数）で構成し、かつ前記高屈
折率層及び低屈折率層として無機フッ化物を使用したこ
とを特徴とする反射防止膜（請求項１）」を提供する。
【０００８】また、第２に「請求項１記載の２波長反射
防止膜において、前記高屈折率層としてNdF3又はLaF3を
使用し、前記低屈折率層としてMgF2又はAlF3を使用した
ことを特徴とする反射防止膜（請求項２）」を提供す
る。
防止膜において、前記高屈折率層としてNdF3又はLaF3を
使用し、前記低屈折率層としてMgF2又はAlF3を使用した
ことを特徴とする反射防止膜（請求項２）」を提供す
る。
【０００９】
【作用】本発明では高屈折率層としてNdF3又はLaF3、低
屈折率層としてMgF2又はAlF3を膜構成物質として用いて
いるが、これらの無機フッ化物結晶は透過限界波長が20
0nm 以下の波長域にあるため、第一波長λ1 ＝248.4nm
近辺での吸収損失は非常に少ない。そのため、これらの
無機フッ化物のみの交互層で反射防止膜を構成すること
により、低い吸収損失と高いレーザ耐久性の反射防止膜
が実現できる。また、248.4nm 近辺、約80ｎｍの波長領
域にわたって0.5 ％以下の反射防止帯域を確保すること
ができる。
屈折率層としてMgF2又はAlF3を膜構成物質として用いて
いるが、これらの無機フッ化物結晶は透過限界波長が20
0nm 以下の波長域にあるため、第一波長λ1 ＝248.4nm
近辺での吸収損失は非常に少ない。そのため、これらの
無機フッ化物のみの交互層で反射防止膜を構成すること
により、低い吸収損失と高いレーザ耐久性の反射防止膜
が実現できる。また、248.4nm 近辺、約80ｎｍの波長領
域にわたって0.5 ％以下の反射防止帯域を確保すること
ができる。
【００１０】
【実施例】図１は、本発明の実施例による５層反射防止
膜を示す概略断面図である。また、表１は、基板側から
順次第一層目を低屈折層としてMgF2、第２層目を高屈折
層としてNdF3を蛍石基板上に成膜することによって得ら
れる交互５層の２波長反射防止膜の構成と膜厚である。
MgF2及びNdF3は、真空蒸着法を用いて成膜した。
膜を示す概略断面図である。また、表１は、基板側から
順次第一層目を低屈折層としてMgF2、第２層目を高屈折
層としてNdF3を蛍石基板上に成膜することによって得ら
れる交互５層の２波長反射防止膜の構成と膜厚である。
MgF2及びNdF3は、真空蒸着法を用いて成膜した。
【００１１】
【表１】
【００１２】図２は、本実施例による反射防止膜によっ
て得られる分光反射率特性を示す図である。図２の縦軸
は反射率を示し、横軸は波長を示す。この特性から分か
るように、本発明の２波長反射防止膜においては第一波
長λ1 ＝248.4nm 近辺と第２波長λ2 ＝632.8nm 近辺で
反射防止効果を持つ。また、この反射防止膜は0.2 ％以
下の低損失で 6J/cm2 程度のエキシマレーザの照射によ
っても損傷は生じなかった（レーザ耐久性は従来に比べ
て数倍改善される）。
て得られる分光反射率特性を示す図である。図２の縦軸
は反射率を示し、横軸は波長を示す。この特性から分か
るように、本発明の２波長反射防止膜においては第一波
長λ1 ＝248.4nm 近辺と第２波長λ2 ＝632.8nm 近辺で
反射防止効果を持つ。また、この反射防止膜は0.2 ％以
下の低損失で 6J/cm2 程度のエキシマレーザの照射によ
っても損傷は生じなかった（レーザ耐久性は従来に比べ
て数倍改善される）。
【００１３】
【発明の効果】以上の通り、第１波長および第２波長近
辺において、良好な反射防止特性を得ることが出来る。
かつ、耐レーザ性にすぐれ、損失の少ない２波長反射防
止膜を提供できる。
辺において、良好な反射防止特性を得ることが出来る。
かつ、耐レーザ性にすぐれ、損失の少ない２波長反射防
止膜を提供できる。
【図１】本発明の実施例による２波長反射防止膜を示す
概略断面図である。
概略断面図である。
【図２】本発明の実施例による２波長反射防止膜の分光
反射特性を示す図である。
反射特性を示す図である。
【図３】従来の反射防止膜の分光反射率特性を示す図で
ある。
ある。
１・・・基板 ２・・・低屈折率物質 ３・・・高屈折率物質
フロントページの続き (72)発明者 平山 義一 東京都千代田区丸の内３丁目２番３号 株 式会社ニコン内
Claims (2)
- 【請求項１】 第１波長λ1 ＝248.4nm 近辺と第１波長
より長波長側の第２波長λ2 近辺に反射率の極小を持つ
２波長反射防止膜において、 反射防止膜を高屈折率層と低屈折率層との交互ｎ層膜
（ｎは自然数）で構成し、かつ前記高屈折率層及び低屈
折率層として無機フッ化物を使用したことを特徴とする
反射防止膜。 - 【請求項２】 請求項１記載の２波長反射防止膜におい
て、 前記高屈折率層としてNdF3又はLaF3を使用し、前記低屈
折率層としてMgF2又はAlF3を使用したことを特徴とする
反射防止膜。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6034772A JPH07244203A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6034772A JPH07244203A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07244203A true JPH07244203A (ja) | 1995-09-19 |
Family
ID=12423600
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6034772A Pending JPH07244203A (ja) | 1994-03-04 | 1994-03-04 | ２波長反射防止膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07244203A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106980146A (zh) * | 2017-05-19 | 2017-07-25 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种双波段冷镜的制作方法及装置 |
-
1994
- 1994-03-04 JP JP6034772A patent/JPH07244203A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN106980146A (zh) * | 2017-05-19 | 2017-07-25 | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 | 一种双波段冷镜的制作方法及装置 |
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