JPH0315526A - ガスバリアフイルムの製造方法 - Google Patents

ガスバリアフイルムの製造方法

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JPH0315526A
JPH0315526A JP15109789A JP15109789A JPH0315526A JP H0315526 A JPH0315526 A JP H0315526A JP 15109789 A JP15109789 A JP 15109789A JP 15109789 A JP15109789 A JP 15109789A JP H0315526 A JPH0315526 A JP H0315526A
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metal
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gas barrier
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清司 伊関
Naganari Matsuda
修成 松田
Tadahito Kanaizuka
唯人 金井塚
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業1−の利用分野) 本発明は、ガスバリア址、耐レトルト性にすぐれ食品、
医薬品、電子材料なとの気密性を必要とする包装材料と
して有゛用なガスバリアフィルムの製造力法に関する。
(従来の技術) 近年透明ガスバリアフィルムが包装分野、ITO分野に
盛んに使用されるようになってきた。
透明ガスバリアフィルムはその耐熱性や、高度ガスバリ
ア+I1:の曹求のためにプラスチックフィルムLに、
金屈酸化物層を形敗したもの(例えば、S i O 2
. A Q 20 :l)がその川違に適している。
金属酸化物層の形成力法としては貞寮を利用したドライ
プロセスがLに仙われる。ドライプロセスの代表として
はスパノタ法と蒸Zt 法がある。
スパッタ法はその膜形成連度が蒸着法に比較して遅いた
めに、包装材料などの低コストを聾求される物には適し
ていない。
蒸着法では、材料を直接加熱する誘導加熱、低抗加熱法
があるが酸化物は 般に蒸気圧が低く適しない。そこで
、酸化物の元になる金属を加熱して蒸発させ気相中で酸
素を導入して酸化物を形成する反応性蒸着が行われる。
(特公昭63−86860)Lかし、この方法では蒸発
する金属の速度と導入する酸素の量の調節が難しく、金
属酸化物膜の特仙を−・定に保つことは困難である。
そこで最近、電rビームを利用した蒸着が盛んに行われ
るようになってきた。電子ビーム蒸着法では大きなエネ
ルギーを小さな範囲に集中できるため、蒸気圧が比較的
低い物質でも容易に恭rtてきるようになり、金雇酸化
物を1+,′i,’接に蒲着できるようになった。
(発明が解決しようとする課題) しかし、<i>kA酸化物の詠着速10を1゜げるため
に人力する宙rビームのエネルギーをトげていくと金属
酸化物か分解して02か発牛して、真仝槽内のJ1力を
l h’させる紺.果となる。Ji力の1シ11は、蒸
r股のガスハリアt/l:の劣化や、フイルムへの付着
強度の低ドを+7イく。
又、今属酸化物のような絶縁物では電子が蒸着源材料よ
り逃げにくくチャージアップする。このため、電了ビー
ムが狽った場所へ到達せず又、ビーム形もみたれた形と
なる。そのため蒸着源材料の而へのエネルギーの投入が
不均−となり蒸着速度が分47をもつ。従って形底され
る膜も不均−となってしまう。これはガスバリアシ1の
分イ11をまねき問題となる。
(課題を解決するための手段) 本発明は、ブラスチノクフイルムの少なくとも片面に金
属酸化物と金属とを混合した物を蒸着源拐料として電r
ビーム加熱で蒸7tを11い、8屈酸化物の冫専膜を形
成することを↑?徴とするガスバリアフイルl・の製造
方法である。
木発明において、プラスチノクフイルl、とはイj機改
合体を溶解又は溶融押出したもので、必費に此、して長
−Fカ向、輔力向に延伸したものである。
イf機市合体の代表的なものとしては、ポリエステル、
ポリエチレン、ナイロン6、ポリアミド、ポリイミドな
とがある。またこれらのノ(重合体や、他の有機電合体
を含自するものでもよい。さらに、これらの自″機重合
体に公知の添加剤(例えば、・;IF電防止剤、滑剤)
が添加されてもよい。
このようなプラスチソクフイルムは本発明の膜形成に先
だち公知の表面処f’l! (例えば、コロナ処理、プ
ラズマ処理、アンカーコート処fIll)ヲ行ってもよ
い。
本発明のプラスチックフィルムの厚さは特に制限を受け
ないが、包装材料としての適す/I、では3〜500/
lJnの範囲が奸ましい。
かかるブラスチソクフイルムの−Lに金属酸化物と令屈
とを#11合したものを詠着源材料とした無機膜を電r
ビーl.#.着て形成する。
木発明で.−1う金属酸化物は、ガスバリア性、衛生t
/I″、コスト而、透明性によりAC+20.1,Ce
O2、MgOs S 10s S 102N SnO2
、ZrO.Iが好ましい。又、それに混ぜる金属として
は、それらの還元物AQ,Ce1Mg1S itSnv
Zrが!11′−ましいが酸化物と金属は特に同じ種類
である必要はない。
余属酸化物と金属の混合比としては、電了ビー11加熱
時に貞窄槽内のIF力が50mPa以下に保たれる程度
に混合されるのが好ましい。あまり金属星が多いとプラ
スチックフイルムに形成する膜が透明性を失い、透明ガ
スバリアフィルムとしての特徴をなくする。
具体的な数7としては、基本となる金属酸化物それと組
み合わされる金属によって穴なるが、およそ金属が30
モル%をこえないはであることが仔ましく、さらに3モ
ル%より10モル%の間が最も適した晴である。
本発明て1j゛う、蒸発諒+A料の形状としては金屈酸
化物は3 mm〜10關楳度の粒状が適しており、金属
は、1關〜30メノンユ程度の粉永が適している。
本発明に於で、金屈酸化物と余属とを混合した物を蒸着
源材料として電rビーl、蒸Rを行った場合、蒸着中の
真空度が50mpa以下におさえられて膜形成ができる
ため、膜の付着強度が増し良好なガスバリアフィルムが
得られる。また、金屈粒が混合されているため電rビー
ムの 様照射が可能になり、蒸着源材料の ・様加熱が
できる。
そのため、蒸着スピードの分布が−様となリバリア層も
−様となる。以」二により、均−・な透明なガスバリア
フィルムが得られる。
(実施例) 平均粒子径5叩の金属酸化物と平均粒子径0.5−mの
金属を表1に示す組成に混合して、銅水冷ルツボ内にI
NA300IIIII1縦150關の範四に投入した。
5 − 6− 表1 結果を表2に小ず。
表2 )k板として、厚さ12pのOES(東洋紡株製E−5
 1 00)を使用した。電了ビームによる入力エネル
ギーは、44kwであり蒸着膜の膜厚は1000人一定
とした。
Hit中のJ’L 窄槽内の11力をfill+定した
。7!1リ定結果は第1図に示す。
f1成した透明ガスバリアフィルムの酸素透過串を酸素
透過”tZ illll ’AI ’A置(モダンコン
トロールズネ1゛製、OX−TRANIOO)を用いて
測定した。
作成した透明ガスバリアフィルムの膜厚分布を表面粗さ
計を使用してillll定した。フイルムの怖方向の中
心の膜厚を1とした場合の各位置での厚さを表3に示す
表3 実施例3 実施例4 比較例1 比較例2

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)プラスチックフィルムの少なくとも片面に、金属
    酸化物と金属とを混合した物を蒸着源材料として、電子
    ビーム加熱蒸着を行うことを特徴とする透明ガスバリア
    フィルムの製造方法。
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