JPH03149206A - 延伸フィルム又はシートの製造方法 - Google Patents
延伸フィルム又はシートの製造方法Info
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Landscapes
- Manufacture Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
- Extrusion Moulding Of Plastics Or The Like (AREA)
- Shaping By String And By Release Of Stress In Plastics And The Like (AREA)
- Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は延伸フィルム又はシートの製造方法に関し、詳
しくは、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重
合体の延伸フィルム又はシートを、厚みむらなく、しか
も高い生産性で製造する方法に関する。
しくは、シンジオタクチック構造を有するスチレン系重
合体の延伸フィルム又はシートを、厚みむらなく、しか
も高い生産性で製造する方法に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕従来よ
り二輪延伸フィルムの製造において、生産性を高め、コ
ストを低減することは、品質向上とともに重要な課題で
あり、そのためには、回転冷却媒体(冷却ロール等)の
表面の周速を大きくし、製膜速度を向上させるのが量も
効果的であることが知られている。
り二輪延伸フィルムの製造において、生産性を高め、コ
ストを低減することは、品質向上とともに重要な課題で
あり、そのためには、回転冷却媒体(冷却ロール等)の
表面の周速を大きくし、製膜速度を向上させるのが量も
効果的であることが知られている。
一方、ポリエステル延伸フィルムの製造時に、静電印荷
したキャストを用いることにより、生産性を向上できる
ことが知られている(特開昭50−136365号公報
、同50−139872号公報、同51−70269号
公報等)。
したキャストを用いることにより、生産性を向上できる
ことが知られている(特開昭50−136365号公報
、同50−139872号公報、同51−70269号
公報等)。
ところで、本発明者らのグループが先般開発したシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体(以下SP
Sと称することがある)は、耐熱性。
オタクチック構造を有するスチレン系重合体(以下SP
Sと称することがある)は、耐熱性。
耐水性や電気絶縁性に優れ、しかもオリゴマーの少ない
重合体であって、様々な用途が期待されており、このS
PSの延伸法もいくつか蟹寓されている(特開平1−1
10122号公報、特開平1−182346号公報)、
シかしながら、このSPSは、一般のアタクチック構造
のスチレン系重合体(aPS)と異なり結晶性であり、
他の結晶性相N(ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ナイロン等)と比較しても結晶化温度,結晶
化速度,粘度等が異なるため、従来の方法では必ずしも
満足できる結果は得られていない。
重合体であって、様々な用途が期待されており、このS
PSの延伸法もいくつか蟹寓されている(特開平1−1
10122号公報、特開平1−182346号公報)、
シかしながら、このSPSは、一般のアタクチック構造
のスチレン系重合体(aPS)と異なり結晶性であり、
他の結晶性相N(ポリプロピレン、ポリエチレンテレフ
タレート、ナイロン等)と比較しても結晶化温度,結晶
化速度,粘度等が異なるため、従来の方法では必ずしも
満足できる結果は得られていない。
そこで、本発明者らは、シンジオタクチック構造を有す
るスチレン系重合体の結晶化速度及び結晶化温度を考慮
し、厚みむらの少ない延伸フィルムを生産性良く製造す
べく鋭意検討を行った。
るスチレン系重合体の結晶化速度及び結晶化温度を考慮
し、厚みむらの少ない延伸フィルムを生産性良く製造す
べく鋭意検討を行った。
その結果、SPSを製膜する際に、一定の溶融粘度を有
するSPSを、特定温度において静電印荷キャストする
ことによって、上記課題を解決できることを見出した。
するSPSを、特定温度において静電印荷キャストする
ことによって、上記課題を解決できることを見出した。
本発明はかかる知見に基いて完成したものである。
すなわち本発明は、シンジオタクチック構造を有し、か
つ300℃、剪断速度2007秒での溶融粘度が1×1
02〜IXIOポアズであるスチレン系重合体又はその
組成物を、加熱溶融してシート状に押出した後、得られ
たシート状物に結晶化温度より30℃低い温度以上、融
点より30℃高い温度以下で静電印荷して冷却、固化し
、次いで該シート状物を延伸することを特徴とする延伸
フィルム又はシートの製造方法を提供するものである。
つ300℃、剪断速度2007秒での溶融粘度が1×1
02〜IXIOポアズであるスチレン系重合体又はその
組成物を、加熱溶融してシート状に押出した後、得られ
たシート状物に結晶化温度より30℃低い温度以上、融
点より30℃高い温度以下で静電印荷して冷却、固化し
、次いで該シート状物を延伸することを特徴とする延伸
フィルム又はシートの製造方法を提供するものである。
本発明においては、素材の主要構成成分としてシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体を用いる。こ
こで、上記シンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体におけるシンジオタクチック構造とは、立体化学
構造がシンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合か
ら形成される主鎖に対してmgであるフェニル基や置換
フェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有す
るものであり、そのタフティシティーは同位体炭素によ
る核磁気共鳴法C″C−NMR法)により定量される。
タクチック構造を有するスチレン系重合体を用いる。こ
こで、上記シンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体におけるシンジオタクチック構造とは、立体化学
構造がシンジオタクチック構造、即ち炭素−炭素結合か
ら形成される主鎖に対してmgであるフェニル基や置換
フェニル基が交互に反対方向に位置する立体構造を有す
るものであり、そのタフティシティーは同位体炭素によ
る核磁気共鳴法C″C−NMR法)により定量される。
”C−NMR法により測定されるタフティシティーは、
連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場
合41ダイアツド、3個の場合はトリアッド、5個の場
合はペンタッドによって示すことができるが、本発明に
言うシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
とは、通常はラセミダイアツドで75%以上、好ましく
は85%以i、若しくはラセミペンタッドで30%以上
、好ましくは50%以上のシンジオタクテイシテイ−を
有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ
(ハロゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化アルキルス
チレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル
安息香酸エステル)、これらの水素化重合体およびこれ
らの混合物、あるいはこれらを主成分とする共重合体を
指称する。
連続する複数個の構成単位の存在割合、例えば2個の場
合41ダイアツド、3個の場合はトリアッド、5個の場
合はペンタッドによって示すことができるが、本発明に
言うシンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体
とは、通常はラセミダイアツドで75%以上、好ましく
は85%以i、若しくはラセミペンタッドで30%以上
、好ましくは50%以上のシンジオタクテイシテイ−を
有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチレン)、ポリ
(ハロゲン化スチレン)、ポリ(ハロゲン化アルキルス
チレン)、ポリ(アルコキシスチレン)、ポリ(ビニル
安息香酸エステル)、これらの水素化重合体およびこれ
らの混合物、あるいはこれらを主成分とする共重合体を
指称する。
なお、ここでポリ(アルキルスチレン)としては、ポリ
(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレン)。
(メチルスチレン)、ポリ(エチルスチレン)。
ポリ(イソプロピルスチレン)、ポリ(ターシャリーフ
チルスチレン)、ポリ(フェニルスチレン)3ポリ(ビ
ニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレン)などがあり
、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロ
スチレン)、ポリ(ブロモスチレン)。
チルスチレン)、ポリ(フェニルスチレン)3ポリ(ビ
ニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレン)などがあり
、ポリ(ハロゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロ
スチレン)、ポリ(ブロモスチレン)。
ポリ(フルオロスチレン)などがある。また、ポリ(ハ
ロゲン化アルキルスチレン)としては、ポリ(りm−メ
チルスチレン)など、また、ポリ(アルコキシスチレン
)としては、ポリ(メトキシスチレン)。
ロゲン化アルキルスチレン)としては、ポリ(りm−メ
チルスチレン)など、また、ポリ(アルコキシスチレン
)としては、ポリ(メトキシスチレン)。
ポリ(エトキシスチレン)などがある。さらに、これら
の構造単位を含む共重合体のコモノマー成分として番よ
、上記スチレン系重合体のモノマーのほか、エチレン、
プロピレン、ブテン、ヘキセン。
の構造単位を含む共重合体のコモノマー成分として番よ
、上記スチレン系重合体のモノマーのほか、エチレン、
プロピレン、ブテン、ヘキセン。
オクテン等のオレフィンモノマー、ブタジエン。
イソプレン等のジエンモノマー、環状オレフィンモノマ
ー、環状ジエンモノマー、メタクリル酸メチル、無水マ
レイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニル千ツマ−が
挙げられる。
ー、環状ジエンモノマー、メタクリル酸メチル、無水マ
レイン酸、アクリロニトリル等の極性ビニル千ツマ−が
挙げられる。
なお、これらのうち特に好ましいスチレン系重合体とし
ては、ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポ
リ(m−メチルスチレン)、ポリ(p−ターシャリ−ブ
チルスチレン)、ポリ(P−クロロスチレン)、ポリ(
m−クロロスチレン)。
ては、ポリスチレン、ポリ(p−メチルスチレン)、ポ
リ(m−メチルスチレン)、ポリ(p−ターシャリ−ブ
チルスチレン)、ポリ(P−クロロスチレン)、ポリ(
m−クロロスチレン)。
ポリ(p−フルオロスチレン)、水素化ポリスチレン及
びこれらの構造単位を含む共重合体が挙げられる。
びこれらの構造単位を含む共重合体が挙げられる。
このスチレン系重合体は、分子量について特に制限はな
いが、重量平均分子量が60,000以上、3.000
.000以下で、好ましくは8G、000以上、1.5
00.000以下である。さらに、分子量分布について
もその広狭は制約がなく、様りなものを充当することが
可能であるが、特に好ましくは重量平均分子量/数平均
分子量が1.5以上、8以下のものである。
いが、重量平均分子量が60,000以上、3.000
.000以下で、好ましくは8G、000以上、1.5
00.000以下である。さらに、分子量分布について
もその広狭は制約がなく、様りなものを充当することが
可能であるが、特に好ましくは重量平均分子量/数平均
分子量が1.5以上、8以下のものである。
さらに、本発明では、これらのスチレン系重合体のうち
、温度300C,剪断達度200/秒での溶融粘度が1
×102−IXIOボアズ、好ましくは1×102〜5
XIOポアズのものを用いる必要がある。
、温度300C,剪断達度200/秒での溶融粘度が1
×102−IXIOボアズ、好ましくは1×102〜5
XIOポアズのものを用いる必要がある。
ここで、上記300℃、剪断速度2007秒での溶融粘
度が1×102ボアズ未満では、溶融状態から固化状態
への変化の際の弾性率のギャップが大きく安定して製膜
を行うことが困難となる。
度が1×102ボアズ未満では、溶融状態から固化状態
への変化の際の弾性率のギャップが大きく安定して製膜
を行うことが困難となる。
またIXIOボアズを超えると、溶融押出し時にメルト
フラクチャーを生じ易くなる。
フラクチャーを生じ易くなる。
このようなシンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体は、例えば不活性炭化水素溶媒中または溶媒の不
存在下に、チタン化合物及び水とトリアルキルアルミニ
ウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系単量体(上
記スチレン系重合体に対応する単量体)を重合すること
により製造することができる(特開昭62−18770
8号公報)。また、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレン
)については特開平1−46J12号公報、これらの水
素化重合体は特開平1−178505号公報記載の方法
などにより得ることができる。
重合体は、例えば不活性炭化水素溶媒中または溶媒の不
存在下に、チタン化合物及び水とトリアルキルアルミニ
ウムの縮合生成物を触媒として、スチレン系単量体(上
記スチレン系重合体に対応する単量体)を重合すること
により製造することができる(特開昭62−18770
8号公報)。また、ポリ(ハロゲン化アルキルスチレン
)については特開平1−46J12号公報、これらの水
素化重合体は特開平1−178505号公報記載の方法
などにより得ることができる。
本発明に使用される素材には、上述のSPSに加えて、
成形性、力学物性、表面性等を考慮して、本発明の目的
を阻害しない範囲で、酸化防止剤。
成形性、力学物性、表面性等を考慮して、本発明の目的
を阻害しない範囲で、酸化防止剤。
帯電防止剤、難燃剤、無機充填材、さらに(負の樹脂な
どを適宜配合することもできる。
どを適宜配合することもできる。
ここで他の樹脂としては、各種のものがあるが、例えば
、アククチツク構造のスチレン系重合体。
、アククチツク構造のスチレン系重合体。
アイソタクチック構造のスチレン系重合体、ポリフェニ
レンエーテル等は、前述のシンジオタクチック構造のス
チレン系重合体と相溶になりやすく、延伸用予備成形体
を作成するときの結晶化の制御フー に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制御が
容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ることがで
きる。このうち、アククチツク構造および/またはアイ
ソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる場合
、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と同様の
千ツマ−からなるものが好ましい、また、これら相溶性
樹脂成分の含有割合は50〜2重量%、特に好ましくは
50〜2重量%とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の
含有割合が70重量%を超えると、シンジオタクチック
構造のスチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわ
れるため好ましくない。また、非相溶性樹脂としては、
例えば、ポリエチレン。
レンエーテル等は、前述のシンジオタクチック構造のス
チレン系重合体と相溶になりやすく、延伸用予備成形体
を作成するときの結晶化の制御フー に有効で、その後の延伸性が向上し、延伸条件の制御が
容易で、且つ力学物性に優れたフィルムを得ることがで
きる。このうち、アククチツク構造および/またはアイ
ソタクチック構造のスチレン系重合体を含有させる場合
、シンジオタクチック構造のスチレン系重合体と同様の
千ツマ−からなるものが好ましい、また、これら相溶性
樹脂成分の含有割合は50〜2重量%、特に好ましくは
50〜2重量%とすればよい。ここで相溶性樹脂成分の
含有割合が70重量%を超えると、シンジオタクチック
構造のスチレン系重合体の長所である耐熱性等が損なわ
れるため好ましくない。また、非相溶性樹脂としては、
例えば、ポリエチレン。
ポリプロピレン、ポリブテン、ポリペンテン等のポリオ
レフィン、ポリエチレンテレフタレート。
レフィン、ポリエチレンテレフタレート。
ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル、ナイロン−6やナイロン6.6等
のポリアミド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオ
エーテル、ポリカーボネート。
ト等のポリエステル、ナイロン−6やナイロン6.6等
のポリアミド、ポリフェニレンスルフィド等のポリチオ
エーテル、ポリカーボネート。
ボリアリレート、ポリスルホン、ポリエステルエ−テル
ケトン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、テフロン
等のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上
記相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶
性の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は
、本発明のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体
と非相溶であるため、少置含有する場合、シンジオタク
チック構造のスチレン系重合体中に島のように分散させ
ることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、表面の
すべり性を改良するのに有効である。これら非相溶性樹
脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合は50〜2
重量%、表面性の制御を目的とする場合、0.001〜
5重量%が好ましい、また、製品として使用する温度が
高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂を用いる
ことが好ましい。
ケトン、ポリエーテルスルホン、ポリイミド、テフロン
等のハロゲン化ビニル系重合体、ポリメタクリル酸メチ
ル等のアクリル系重合体、ポリビニルアルコール等、上
記相溶性の樹脂以外はすべて相当し、さらに、上記相溶
性の樹脂を含む架橋樹脂が挙げられる。これらの樹脂は
、本発明のシンジオタクチック構造のスチレン系重合体
と非相溶であるため、少置含有する場合、シンジオタク
チック構造のスチレン系重合体中に島のように分散させ
ることができ、延伸後に程良い光沢を与えたり、表面の
すべり性を改良するのに有効である。これら非相溶性樹
脂成分の含有割合は、光沢を目的とする場合は50〜2
重量%、表面性の制御を目的とする場合、0.001〜
5重量%が好ましい、また、製品として使用する温度が
高い場合は、比較的耐熱性のある非相溶性樹脂を用いる
ことが好ましい。
また、易滑な粗面を有する延伸フィルムやシートを所望
する場合には、素材中に無機微粒子を配合あるいは重合
中に析出させることによって、そI O− の表面滑性を調整することができる。ここで、無機微粒
子とは、IA族、IIA族、IVA族、VIA族5■A
族、■族、IB族、IIB族、IB族、IVB族元素の
酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、
炭酸塩、@酸塩、酢酸塩、燐酸塩。
する場合には、素材中に無機微粒子を配合あるいは重合
中に析出させることによって、そI O− の表面滑性を調整することができる。ここで、無機微粒
子とは、IA族、IIA族、IVA族、VIA族5■A
族、■族、IB族、IIB族、IB族、IVB族元素の
酸化物、水酸化物、硫化物、窒素化物、ハロゲン化物、
炭酸塩、@酸塩、酢酸塩、燐酸塩。
亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チタン酸塩、硼
酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中心とする複合
化合物、天然鉱物粒子を示す。 具体的には、弗
化リチウム、硼砂(硼酸ナトリウム含水塩)等のIA族
元素化合物、炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウム5酸
化マグネシウム(マグネシア)、塩化マグネシウム、酢
酸マグネシウム、弗化マグネシウム、チタン酸マグネシ
ウム。
酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中心とする複合
化合物、天然鉱物粒子を示す。 具体的には、弗
化リチウム、硼砂(硼酸ナトリウム含水塩)等のIA族
元素化合物、炭酸マグネシウム、燐酸マグネシウム5酸
化マグネシウム(マグネシア)、塩化マグネシウム、酢
酸マグネシウム、弗化マグネシウム、チタン酸マグネシ
ウム。
珪酸マグネシウム5珪酸マグネシウム含水塩(タルク)
、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、亜燐酸カルシウム
、硫酸カルシウム(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタ
ル酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、
弗化カルシウム、チタン酸カルシウム5チタン酸ストロ
ンチウム、炭酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム
、亜燐酸バリラ五等のIIA族元素化合物、二酸化チタ
ン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、 一酸化ジルコニウム等の
IVA族元素化合物、二酸化モリブデン、二酸化モリブ
デン、硫化モリブデン等のVIA族元素化合物、塩化マ
ンガン、酢酸マンガン等の■A族元素化合物、塩化コバ
ルト3酢酸コバルト等の■族元素化合物、沃化第一銅等
のIB族元素化合物、酸化亜鉛5酢酸亜鉛等のJIB族
元素化合物、酸化アルミニウム(アルミナ)、水酸化ア
ルミニウム、弗化アルミニウム、アルミノシリケート(
珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト)等の■B族元
素化合物、酸化珪素(シリ力、シリカゲル)、石墨。
、炭酸カルシウム、燐酸カルシウム、亜燐酸カルシウム
、硫酸カルシウム(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタ
ル酸カルシウム、水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、
弗化カルシウム、チタン酸カルシウム5チタン酸ストロ
ンチウム、炭酸バリウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム
、亜燐酸バリラ五等のIIA族元素化合物、二酸化チタ
ン(チタニア)、一酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジ
ルコニウム(ジルコニア)、 一酸化ジルコニウム等の
IVA族元素化合物、二酸化モリブデン、二酸化モリブ
デン、硫化モリブデン等のVIA族元素化合物、塩化マ
ンガン、酢酸マンガン等の■A族元素化合物、塩化コバ
ルト3酢酸コバルト等の■族元素化合物、沃化第一銅等
のIB族元素化合物、酸化亜鉛5酢酸亜鉛等のJIB族
元素化合物、酸化アルミニウム(アルミナ)、水酸化ア
ルミニウム、弗化アルミニウム、アルミノシリケート(
珪酸アルミナ、カオリン、カオリナイト)等の■B族元
素化合物、酸化珪素(シリ力、シリカゲル)、石墨。
カーボン、グラファイト、ガラス等のIVB族元素化合
物、カーナル石、カイナイト、雲母(マイカ。
物、カーナル石、カイナイト、雲母(マイカ。
キンウンモ)、バイロース絋等の天然鉱物の粒子が挙げ
られる。
られる。
本発明で用いることのできる無機微粒子の平均粒径は、
特に制限はないが、好ましくは0.Ol〜3pm、より
好ましくは0.01〜lpmで、組成物中の含量は0.
001−1重蓋%、好ましくは0.001〜0.8重量
%である。
特に制限はないが、好ましくは0.Ol〜3pm、より
好ましくは0.01〜lpmで、組成物中の含量は0.
001−1重蓋%、好ましくは0.001〜0.8重量
%である。
これらの無機微粒子は、最終的な成形品(フィルムやシ
ート)に含有されるが、含有させる方法に限定はない。
ート)に含有されるが、含有させる方法に限定はない。
例えば、スチレン系単量体の重合中の任意の過程で添加
あるいは析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添
加する方法が挙げられる。またこれらの微粒子を効果的
に分散させるため、分散剤、界面活性剤等を用いてもよ
い、また素材の溶融比抵抗を制御することを目的として
、素材の導電性を向上させることのできるIA族元素化
合物,HA族元素化合物を添加しても良い。
あるいは析出させる方法、溶融押出する任意の過程で添
加する方法が挙げられる。またこれらの微粒子を効果的
に分散させるため、分散剤、界面活性剤等を用いてもよ
い、また素材の溶融比抵抗を制御することを目的として
、素材の導電性を向上させることのできるIA族元素化
合物,HA族元素化合物を添加しても良い。
本発明では、前記のようなシンジオタクチック構造を有
するスチレン系重合体またはその組成物(つまりこのス
チレン系重合体(S P S)を含有する組成物)を公
知の手段によりペレット化して押出川材料とし、このペ
レットを押出機で押出してシート状物とする。本発明で
言うシート状の厚みば、3〜5000.um、好ましく
ば5〜30001tmで、そのシート状物を用いて得ら
れる延伸フイルムは0.1−1000.um、好ましく
は0.3〜700pmである。例えば、このペレットを
、先端にT−ダイを取りつけた押出機にて、加熱溶融し
てシート状に押出す、ここで用いる押出成形機は、一軸
押出成形機、二輪押出成形機のいずれでもよく、またベ
ント付き、ベント無しのいずれでもよいが、一輪の直列
タンデム型が好ましい。
するスチレン系重合体またはその組成物(つまりこのス
チレン系重合体(S P S)を含有する組成物)を公
知の手段によりペレット化して押出川材料とし、このペ
レットを押出機で押出してシート状物とする。本発明で
言うシート状の厚みば、3〜5000.um、好ましく
ば5〜30001tmで、そのシート状物を用いて得ら
れる延伸フイルムは0.1−1000.um、好ましく
は0.3〜700pmである。例えば、このペレットを
、先端にT−ダイを取りつけた押出機にて、加熱溶融し
てシート状に押出す、ここで用いる押出成形機は、一軸
押出成形機、二輪押出成形機のいずれでもよく、またベ
ント付き、ベント無しのいずれでもよいが、一輪の直列
タンデム型が好ましい。
さらにこの押出機には、押出量を安定させるためにギア
ポンプを用いても良く、組成物中の粒子を制御し、夾雑
物や異物を除去するために適当なメツシュを使用するこ
ともできる。
ポンプを用いても良く、組成物中の粒子を制御し、夾雑
物や異物を除去するために適当なメツシュを使用するこ
ともできる。
またここで押出条件は、特に制限はなく、様々な状況に
応じて適宜選定すればよいが、好ましくは温度を成形素
材の融点〜分解温度より30℃高い温度の範囲で選定す
る。例えば、シンジオタクチック構造のスチレンホモポ
リマーに無機微粒子を含有させた組成物の場合は265
〜350℃が好ましい、ここで融点未満では全体が溶融
しないため、押出しが困難で、分解温度より30℃高い
温度を越えると分解による発泡、着色、異臭が生じ好ま
しくない。さらに、T−ダイ口金部の剪断応力は5 X
l Odyne/ai以下とすることがメルトフラク
チャーを防止する上で好ましい。
応じて適宜選定すればよいが、好ましくは温度を成形素
材の融点〜分解温度より30℃高い温度の範囲で選定す
る。例えば、シンジオタクチック構造のスチレンホモポ
リマーに無機微粒子を含有させた組成物の場合は265
〜350℃が好ましい、ここで融点未満では全体が溶融
しないため、押出しが困難で、分解温度より30℃高い
温度を越えると分解による発泡、着色、異臭が生じ好ま
しくない。さらに、T−ダイ口金部の剪断応力は5 X
l Odyne/ai以下とすることがメルトフラク
チャーを防止する上で好ましい。
なお、上記分解温度とは、本明細書では、熱天秤により
測定した重量減少率が1%となった温度を言う。
測定した重量減少率が1%となった温度を言う。
次いで本発明では、上記の如く押出成形されたシート状
物に静電印荷を施す、静電印荷を施す方法は特に限定に
ないが、通常は、ワイヤーあるいはナイフ状の電極を設
けてシート状物の片面に静電荷を析出させる方法が用い
られる。この電極に線、通常、アースされた直流高電圧
発生装置が接続されており、また後述の冷却ロールにも
アースされたものを用いる。これらの位置関係は、シー
ト状物を中心とした場合に、片面側に冷却ロールを、そ
の反対側に電極を配置することが好ましい。
物に静電印荷を施す、静電印荷を施す方法は特に限定に
ないが、通常は、ワイヤーあるいはナイフ状の電極を設
けてシート状物の片面に静電荷を析出させる方法が用い
られる。この電極に線、通常、アースされた直流高電圧
発生装置が接続されており、また後述の冷却ロールにも
アースされたものを用いる。これらの位置関係は、シー
ト状物を中心とした場合に、片面側に冷却ロールを、そ
の反対側に電極を配置することが好ましい。
静電印荷に用いる印加電圧は、通常2〜30kVであり
、好ましくば3〜20kV、特に好ましくは5〜13k
Vである。このとき、電圧が低すぎると静電印荷の効果
が得られず、電圧が高ずぎるとフィルム表面が絶縁破壊
により荒らされやすくなる。
、好ましくば3〜20kV、特に好ましくは5〜13k
Vである。このとき、電圧が低すぎると静電印荷の効果
が得られず、電圧が高ずぎるとフィルム表面が絶縁破壊
により荒らされやすくなる。
ここで、本発明においては、この静電印荷を行う際のシ
ート状物の温度を、結晶化温度(Tc)より30℃低い
温度(Tc−30℃)以上、融点(T閤)より30℃高
い(Tm+30℃)以下、好ましくは結晶化温度(Tc
)〜(Tm)、特に好ましくは結晶化温度(Tc)〜融
点より10℃低い温度(Tm−10℃)となるように、
T−ダイよ静電印荷電極の位置、雰囲気等を調整する。
ート状物の温度を、結晶化温度(Tc)より30℃低い
温度(Tc−30℃)以上、融点(T閤)より30℃高
い(Tm+30℃)以下、好ましくは結晶化温度(Tc
)〜(Tm)、特に好ましくは結晶化温度(Tc)〜融
点より10℃低い温度(Tm−10℃)となるように、
T−ダイよ静電印荷電極の位置、雰囲気等を調整する。
このときのシート状物の温度が(Tc−30℃)未満で
あると、結晶化が起こり易く、その結果シート状物の弾
性率が高(なり、冷却ロールに密着しにくくなるため、
結果的に厚みむらを生じ易くなる。また、(Ts+30
℃)を超えると、粘度が低くなり帯電シートが変形し易
くなるため、かえって厚みむらの原因となったりする。
あると、結晶化が起こり易く、その結果シート状物の弾
性率が高(なり、冷却ロールに密着しにくくなるため、
結果的に厚みむらを生じ易くなる。また、(Ts+30
℃)を超えると、粘度が低くなり帯電シートが変形し易
くなるため、かえって厚みむらの原因となったりする。
またここで示す融点及び結晶化温度とは、本明細書では
、それぞれ押出し前の材料を示差走査熱量計において、
20℃/分で昇降温させた時にあられれる融点ピーク及
び結晶化ピークの頂点の温度を言う。
、それぞれ押出し前の材料を示差走査熱量計において、
20℃/分で昇降温させた時にあられれる融点ピーク及
び結晶化ピークの頂点の温度を言う。
このようにして静電印荷されたシート状物は、冷却ロー
ルによって冷却固化することが好ましい。
ルによって冷却固化することが好ましい。
この冷却ロールの温度は0℃以上で、ガラス転移温度よ
り30℃高い温度以下とすることが好ましく、特に20
℃以上、ガラス転移温度以下に調節することが好ましい
。冷却ロール温度がガラス転移温度より30℃高い温度
を超えると、シート状物が冷却後に冷却ロールから離れ
難(なり、θ℃未満にすることは装置構成上困難かつ不
経済である。また、冷却ロールの温度は、PI、I)制
御でコントロールし、冷却ロール表面は、23以上の鏡
面仕上とすることが好ましい、また冷却速度は、200
〜3℃/秒の範囲で適宜選択することができる。さらに
以上説明した加熱溶融、押出、静電付与、冷却の各装置
は、厚みむらを最小限にするためにできるだけ振動しな
いように設計、製造されたものを用いることが望ましい
。
り30℃高い温度以下とすることが好ましく、特に20
℃以上、ガラス転移温度以下に調節することが好ましい
。冷却ロール温度がガラス転移温度より30℃高い温度
を超えると、シート状物が冷却後に冷却ロールから離れ
難(なり、θ℃未満にすることは装置構成上困難かつ不
経済である。また、冷却ロールの温度は、PI、I)制
御でコントロールし、冷却ロール表面は、23以上の鏡
面仕上とすることが好ましい、また冷却速度は、200
〜3℃/秒の範囲で適宜選択することができる。さらに
以上説明した加熱溶融、押出、静電付与、冷却の各装置
は、厚みむらを最小限にするためにできるだけ振動しな
いように設計、製造されたものを用いることが望ましい
。
次に、この冷却5固化したシート状物(予備成1フー
1 ロー
形体)を延伸、特に一輪あるいは二輪に延伸する。
二輪延伸の場合は縦方向及び横方向に同時に延伸しても
よいが、任意の順序で逐次延伸してもよい。
よいが、任意の順序で逐次延伸してもよい。
また延伸紘−段で行ってもよく、多段で行ってもよい。
ここで延伸方法としては、テンターによる方法。
ロール間で延伸する方法、圧延による方法など様々であ
り、これらを適当に選定あるいは組み合わせて適用すれ
ばよい。特に縦方向(MD)にロール間で延伸後、横方
向(TD)にテンターで延伸し、必要に応じて更に再延
伸することが好ましい。
り、これらを適当に選定あるいは組み合わせて適用すれ
ばよい。特に縦方向(MD)にロール間で延伸後、横方
向(TD)にテンターで延伸し、必要に応じて更に再延
伸することが好ましい。
延伸温度は、一般には予備成形体のガラス転移温度と融
点の間で設定すればよいが、逐次延伸あるいは多段延伸
する際には、1段目はガラス転移温度と結晶化温度の間
で行い、後段はガラス転移温度と融点の間で行うことが
好ましい。また延伸速度は、通常はIXIO〜IXIG
%/分、好ましくは1×102 〜IXIO%/分であ
る。
点の間で設定すればよいが、逐次延伸あるいは多段延伸
する際には、1段目はガラス転移温度と結晶化温度の間
で行い、後段はガラス転移温度と融点の間で行うことが
好ましい。また延伸速度は、通常はIXIO〜IXIG
%/分、好ましくは1×102 〜IXIO%/分であ
る。
なお、延伸倍率は縦方向(MD)、横方向(T D)共
に2倍以上が好ましく、面積延伸倍率としては6倍以上
が好ましい。
に2倍以上が好ましく、面積延伸倍率としては6倍以上
が好ましい。
上述の如き条件で延伸して得られた延伸フィルムに、さ
らに高温時の寸法安定性、耐熱性、フィルム面内の強度
バランスが要求される場合、特に線膨張係数を小さくす
る上では、熱固定を行うことが効果的である。熱固定は
、通常行われている方法で行うことができるが、この延
伸フィルムを緊張状態、弛緩状態あるいは制限収縮状態
の下で、該フィルムのガラス転移温度〜融点、好ましく
は融点より100℃低い温度〜融点直前の温度範囲にて
、0.5〜120秒間保持することによって行えばよい
。なお、この熱固定は、上記範囲内で条件を変えて二回
以上行うことも可能である。また、この熱固定はアルゴ
ンガス、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても
良い。
らに高温時の寸法安定性、耐熱性、フィルム面内の強度
バランスが要求される場合、特に線膨張係数を小さくす
る上では、熱固定を行うことが効果的である。熱固定は
、通常行われている方法で行うことができるが、この延
伸フィルムを緊張状態、弛緩状態あるいは制限収縮状態
の下で、該フィルムのガラス転移温度〜融点、好ましく
は融点より100℃低い温度〜融点直前の温度範囲にて
、0.5〜120秒間保持することによって行えばよい
。なお、この熱固定は、上記範囲内で条件を変えて二回
以上行うことも可能である。また、この熱固定はアルゴ
ンガス、窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下で行っても
良い。
次に本発明を実施例及び比較例に基いてさらに詳しく説
明する。
明する。
参考例(トリメチルアルミニウムと水との接触生成物の
調製) アルゴン置換した内容1]1500dのガラス製容器に
、値酸銅5水塩(CuS Os ・5 HtO) 17
.8g(71ミリモル)、トルエン200af及びトリ
メチルアルミニろム24d(250ミリモル)を入れ、
40℃で8時間反応させた。その後、固体部分を除去し
て得られた溶液から、更に、トルエンを室温下で減圧留
去して接触生成物6.7gを得た。
調製) アルゴン置換した内容1]1500dのガラス製容器に
、値酸銅5水塩(CuS Os ・5 HtO) 17
.8g(71ミリモル)、トルエン200af及びトリ
メチルアルミニろム24d(250ミリモル)を入れ、
40℃で8時間反応させた。その後、固体部分を除去し
て得られた溶液から、更に、トルエンを室温下で減圧留
去して接触生成物6.7gを得た。
このものの凝固点降下法によって測定した分子量は61
Gであった。
Gであった。
製造例1(スチレン系重合体の製造)
内容積211の反応容器に、精製スチレンIn!。
参考例1で得られた接触生成物をアルミニウム原子とし
て5ミリモル、トリイソブチルアルミニウムを5ミリモ
ル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメト
キシドLO25ミリモルを用いて90℃で5時間重合反
応を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリウムの
メタノール溶液で触媒成分を分解後、メタノールで繰返
し洗浄後、乾燥して重合体308gを得た。
て5ミリモル、トリイソブチルアルミニウムを5ミリモ
ル、ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメト
キシドLO25ミリモルを用いて90℃で5時間重合反
応を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリウムの
メタノール溶液で触媒成分を分解後、メタノールで繰返
し洗浄後、乾燥して重合体308gを得た。
この重合体の重量平均分子量を、1,2.4−トリクロ
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィーにて測定したtころ389.0
00であり、また重量平均分子量/数平均分子量は2.
64であった。また、融点及び13C−NMR測定によ
り、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレ
ンであることを確認した。この重合体の300℃、20
0/秒における溶融粘度はIXIOボアズであった。
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィーにて測定したtころ389.0
00であり、また重量平均分子量/数平均分子量は2.
64であった。また、融点及び13C−NMR測定によ
り、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレ
ンであることを確認した。この重合体の300℃、20
0/秒における溶融粘度はIXIOボアズであった。
製造例2(スチレン系重合体の製造)
内容積21の反応容器に、精製スチレンll、参考例I
で得られた接触生成物をアルミニウム原子として10ミ
リモル、トリイソブチルアルミニウムを60ミリモル、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ド0.075ミリモルを用いて90℃で1時間重合反応
を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリウムのメ
タノール溶液で触媒成分を分解後、メタノールで繰返し
洗浄後、乾燥して重合体268gを得た。
で得られた接触生成物をアルミニウム原子として10ミ
リモル、トリイソブチルアルミニウムを60ミリモル、
ペンタメチルシクロペンタジエニルチタントリメトキシ
ド0.075ミリモルを用いて90℃で1時間重合反応
を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリウムのメ
タノール溶液で触媒成分を分解後、メタノールで繰返し
洗浄後、乾燥して重合体268gを得た。
この重合体の重量平均分子量を、l、2.4−トリクロ
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルバーミニ−シ
タンクロマトグラフィーにて測定したところ180.0
00であり、また重量平均分子量/数平均分子量は2.
53であった。また、融点及び”C−NMR測定により
、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレン
であることを確認した。この重合体の300℃、200
/秒における溶融粘度u2xlO”ポアズであった。
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルバーミニ−シ
タンクロマトグラフィーにて測定したところ180.0
00であり、また重量平均分子量/数平均分子量は2.
53であった。また、融点及び”C−NMR測定により
、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレン
であることを確認した。この重合体の300℃、200
/秒における溶融粘度u2xlO”ポアズであった。
製造例3(スチレン系重合体の製造)
内容積500dの反応容器に、トルエン100d、参考
例1で得られた接触生成物をアルミニウム原子として2
0ミリモル、トリメチルアルミニウムを10ミリモル、
シクロペンタジエニルチタントリクロリド0.05ミリ
モル及び精製スチレンfoodを加え、60℃で3時間
重合反応を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリ
ウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、メタノール
で繰返し洗浄後、乾燥して重合体7.1gを得た。
例1で得られた接触生成物をアルミニウム原子として2
0ミリモル、トリメチルアルミニウムを10ミリモル、
シクロペンタジエニルチタントリクロリド0.05ミリ
モル及び精製スチレンfoodを加え、60℃で3時間
重合反応を行った。反応終了後、生成物を水酸化ナトリ
ウムのメタノール溶液で触媒成分を分解後、メタノール
で繰返し洗浄後、乾燥して重合体7.1gを得た。
この重合体の重量平均分子量を、1,2.4−トリクロ
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィーにてm定したkころ47.40
0であり、また重量平均分子量/数平均分子量は3.4
3であった。また、融点及び13C−NMR測定により
、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレン
であることを確認した。この重合体の300℃、200
/秒における溶融粘度は28ポアズであった。
ロベンゼンを溶媒として、135℃でゲルパーミェーシ
ョンクロマトグラフィーにてm定したkころ47.40
0であり、また重量平均分子量/数平均分子量は3.4
3であった。また、融点及び13C−NMR測定により
、この重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレン
であることを確認した。この重合体の300℃、200
/秒における溶融粘度は28ポアズであった。
実施例1
製造例1で得られたスチレン系重合体を充分に乾燥後、
押出機を用いてベレットとした。このベレットの融点、
結晶化温度、ガラス転移温度はそれぞれ、272℃、2
30℃599℃であった。
押出機を用いてベレットとした。このベレットの融点、
結晶化温度、ガラス転移温度はそれぞれ、272℃、2
30℃599℃であった。
このペレットを防震型、一輪タンデム型押出機の先端に
T−ダイを取り付けた装置で330 ”Cにて溶融押出
しした。この溶融押出ししたシート状物の温度が250
℃となる位置にワイヤー電極を配置し、印荷電圧を10
kVとして冷却ロール接触直前のシート状物に静電印荷
した。この帯電した厚さ110μmのシート状物を40
”Cに温調された冷却ロールを2本通過させた後看取っ
た。
T−ダイを取り付けた装置で330 ”Cにて溶融押出
しした。この溶融押出ししたシート状物の温度が250
℃となる位置にワイヤー電極を配置し、印荷電圧を10
kVとして冷却ロール接触直前のシート状物に静電印荷
した。この帯電した厚さ110μmのシート状物を40
”Cに温調された冷却ロールを2本通過させた後看取っ
た。
ここで、冷却ロール及び巻き取りロールの速度を調整し
ながら、引取速度の異なるサンプルを各10mずつ製造
した。この引取速度の異なるサンプルより任意に5点原
反を切出し、テーブルテンターにて110℃、3000
%/分で3倍に逐次二輪延伸して、得られた約12〃m
のフィルムの厚みむらを、フィルムをlθ枚重ねて厚み
を測定することによって評価した。この厚みむらが4%
以下である最大引取速度は、120m/分であった。尚
、このときのシート厚みは1507zm、二輪延伸後の
フィルムの厚みは16umであった。
ながら、引取速度の異なるサンプルを各10mずつ製造
した。この引取速度の異なるサンプルより任意に5点原
反を切出し、テーブルテンターにて110℃、3000
%/分で3倍に逐次二輪延伸して、得られた約12〃m
のフィルムの厚みむらを、フィルムをlθ枚重ねて厚み
を測定することによって評価した。この厚みむらが4%
以下である最大引取速度は、120m/分であった。尚
、このときのシート厚みは1507zm、二輪延伸後の
フィルムの厚みは16umであった。
比較例1
静電印荷をせずに行ったことの他は、実施例1t同様の
操作を行ったが、厚みむらが4%以下のフィルムを得る
ことはできなかった。
操作を行ったが、厚みむらが4%以下のフィルムを得る
ことはできなかった。
比較例2
静電印荷の代わりにエアナイフを用いて行ったことの他
は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、二輪延
伸後のフィルムの厚みむらが4%以下の最大引取速度は
40m/分であった。
は、実施例1と同様の操作を行った。その結果、二輪延
伸後のフィルムの厚みむらが4%以下の最大引取速度は
40m/分であった。
比較M43
静電印荷部の温度が320℃となるように溶融温度、電
極位置を調整した以外番よ、実施例1と同様の操作を行
った。その結果、二輪延伸後のフィルムの厚みむらが4
%以下の最大引取速度は50m/分であった。
極位置を調整した以外番よ、実施例1と同様の操作を行
った。その結果、二輪延伸後のフィルムの厚みむらが4
%以下の最大引取速度は50m/分であった。
比較例4
静電印荷部の温度が1−80℃となるように溶融温度、
電極位置を調整した以外は、実施例1と同様の操作を行
ったが、厚みむらが4%以下のフィルムを得ることはで
きなかった。
電極位置を調整した以外は、実施例1と同様の操作を行
ったが、厚みむらが4%以下のフィルムを得ることはで
きなかった。
比較例5
製造例3で得たSPSを用いた以外は、実施例1と同様
の操作を行ったが、厚みむら4%以下のシートが得られ
る条件は見出せなかった。
の操作を行ったが、厚みむら4%以下のシートが得られ
る条件は見出せなかった。
実施例2〜4
静電印荷部の温度、印荷電圧、原反シート厚みを第1表
にボすようにしたことの他は、実施例1と同様の操作を
行った。得られたフィルムの厚みむらが4%以下である
それぞれの最大引取速度を−24−一 第1表に示す。
にボすようにしたことの他は、実施例1と同様の操作を
行った。得られたフィルムの厚みむらが4%以下である
それぞれの最大引取速度を−24−一 第1表に示す。
実施例5
製造例1において、精製スチレンモノマー中にシリカ微
粒子(デグッサ製アエロジルTT−600平均粒径40
m〃)を0.5重景部均−に分散させてスチレン系重合
体を得た。この重合体組成物より作成したベレットの融
点、結晶化温度。
粒子(デグッサ製アエロジルTT−600平均粒径40
m〃)を0.5重景部均−に分散させてスチレン系重合
体を得た。この重合体組成物より作成したベレットの融
点、結晶化温度。
ガラス転移温度は、それぞれ273″C,233℃。
100℃であった。この材料を用いて実施例1を同様の
操作を行った。得られたフィルムめ厚みむらが4%以下
である最大引取速度は、120m/分であった。
操作を行った。得られたフィルムめ厚みむらが4%以下
である最大引取速度は、120m/分であった。
実施例6
無機微粒子を含む材料を実施例5と同様にして作成した
後、これとアタクチックポリスチレン(商品名:HH3
0E、出光石油化学■製)を二軸押出機にて溶融混練し
、ペレットを作成した。ペレットの中のフタクチツクポ
リスチレン含量は10重蓋%であった。このベレットの
融点、結晶化温度、ガラス転移温度は、それぞれ270
”C。
後、これとアタクチックポリスチレン(商品名:HH3
0E、出光石油化学■製)を二軸押出機にて溶融混練し
、ペレットを作成した。ペレットの中のフタクチツクポ
リスチレン含量は10重蓋%であった。このベレットの
融点、結晶化温度、ガラス転移温度は、それぞれ270
”C。
220℃、101”Cであった。この材料を用いて実施
例1と同様の操作を行った。得られたフィルムの厚みむ
らが4″%以下である最大引取速度1よ、110=/分
であった。
例1と同様の操作を行った。得られたフィルムの厚みむ
らが4″%以下である最大引取速度1よ、110=/分
であった。
実施例7
実施例5において精製スチレンモノマーにp −メチル
スチレンモノマーを加えてp−メチルスチレジ含量9モ
ル%のスチレン共重合体組成物のベレットを得た。この
ペレット品融点、結晶化温度。
スチレンモノマーを加えてp−メチルスチレジ含量9モ
ル%のスチレン共重合体組成物のベレットを得た。この
ペレット品融点、結晶化温度。
ガラス転移温度はそれぞれ244℃、218℃5101
:cであった。この材料を用いて実施例1と同様の操作
を行った。得られたフィルムの厚みむらが49;6以下
である最大引取速度は、120m/分であった。
:cであった。この材料を用いて実施例1と同様の操作
を行った。得られたフィルムの厚みむらが49;6以下
である最大引取速度は、120m/分であった。
実施例8
製造例2の材料を用いたこと以外は、実施例1と同様の
謙作を仕った。得られたフィルムの厚みむらが4・%以
下である最大引取速度は、90m/分であった。
謙作を仕った。得られたフィルムの厚みむらが4・%以
下である最大引取速度は、90m/分であった。
実施例9
アタクチックポリスチレンの代わりに、ポリフェニレン
エーテル(PPO,アルドリッチ社製。
エーテル(PPO,アルドリッチ社製。
カタログIlk1817B−1)を用いたこと以外は、
実施例6と同様にした。
実施例6と同様にした。
以上の各実施例及び比較例の主要条件及び結果(生産性
:量大引取速度)を第1表にまとめて示す。
:量大引取速度)を第1表にまとめて示す。
(以下余白)
〔発明の効果〕
畝上の如く、本発明によれば、シンジオタクチック構造
を有するスチレン系重合体またはその組成物からなるシ
ート、フィルムを、厚みむらが4%以内の厚み均一性に
優れたものを、生産性よく製造することができる。
を有するスチレン系重合体またはその組成物からなるシ
ート、フィルムを、厚みむらが4%以内の厚み均一性に
優れたものを、生産性よく製造することができる。
したがって、本発明の方法は、磁気テープ、写真フィル
ム、FPC。、コンデンサーフィルムなどの各種産業用
フィルムを効率よく得る方法として有効な利川が期待さ
れる。
ム、FPC。、コンデンサーフィルムなどの各種産業用
フィルムを効率よく得る方法として有効な利川が期待さ
れる。
Claims (1)
- (1)シンジオタクチック構造を有し、かつ300℃、
剪断速度200/秒での溶融粘度が1×10^2〜1×
10^6ポアズであるスチレン系重合体又はその組成物
を、加熱溶融してシート状に押出した後、得られたシー
ト状物に結晶化温度より30℃低い温度以上、融点より
30℃高い温度以下で静電印荷して冷却、固化し、次い
で該シート状物を延伸することを特徴とする延伸フィル
ム又はシートの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287548A JP2863223B2 (ja) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | 延伸フィルム又はシートの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1287548A JP2863223B2 (ja) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | 延伸フィルム又はシートの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03149206A true JPH03149206A (ja) | 1991-06-25 |
JP2863223B2 JP2863223B2 (ja) | 1999-03-03 |
Family
ID=17718764
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1287548A Expired - Fee Related JP2863223B2 (ja) | 1989-11-06 | 1989-11-06 | 延伸フィルム又はシートの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2863223B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0691750A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06100711A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH0699485A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06107813A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06106616A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06107812A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH0724911A (ja) * | 1993-07-08 | 1995-01-27 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系フィルム |
JPH0732468A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-03 | Toyobo Co Ltd | 熱収縮性ポリスチレン系フィルム |
WO1996017889A1 (fr) * | 1994-12-07 | 1996-06-13 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Composition de resine de polystyrene et feuille de polystyrene orientee |
-
1989
- 1989-11-06 JP JP1287548A patent/JP2863223B2/ja not_active Expired - Fee Related
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JPH0691750A (ja) * | 1992-09-11 | 1994-04-05 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06100711A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH0699485A (ja) * | 1992-09-21 | 1994-04-12 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
JPH06107813A (ja) * | 1992-09-28 | 1994-04-19 | Toyobo Co Ltd | シンジオタクチックポリスチレン系二軸延伸フィルム |
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JPH0732468A (ja) * | 1993-07-16 | 1995-02-03 | Toyobo Co Ltd | 熱収縮性ポリスチレン系フィルム |
WO1996017889A1 (fr) * | 1994-12-07 | 1996-06-13 | Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. | Composition de resine de polystyrene et feuille de polystyrene orientee |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2863223B2 (ja) | 1999-03-03 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |