JPH03149194A - ウエハ移載装置 - Google Patents
ウエハ移載装置Info
- Publication number
- JPH03149194A JPH03149194A JP1282373A JP28237389A JPH03149194A JP H03149194 A JPH03149194 A JP H03149194A JP 1282373 A JP1282373 A JP 1282373A JP 28237389 A JP28237389 A JP 28237389A JP H03149194 A JPH03149194 A JP H03149194A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- vacuum
- vacuum chuck
- suction
- transfer device
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000012546 transfer Methods 0.000 title claims abstract description 20
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 63
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Manipulator (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、半導体製造における半導体ウェハの移載に用
いるウェハ移Ｉ！装置に関する。
いるウェハ移Ｉ！装置に関する。
従来の技術としては、特開昭６１−１４０１４８に記載
のように、ウェハ吸着機構を移動手段によりウェハ裏面
に近接させ、 １個の真空チャックによってウェハ裏面
を吸着し、保持するウェハ移載装置が知られている。 【発明が解決しようとするａＩＩ及び目的１しかし、か
かる従来のウェハ移載装置は、第５ＩＩＩ （ａ）に示
す通り、ウエハｌＯの裏面と真空チャックｌｃの真空吸
Ｗ面１１ｃが同一平面になることが前提となっている。 そのため第５図（ｂ）仁示すように、ウェハｌＯの裏面
と真空チャックｌｃの真空曖着面ｌｉｅが平行でない場
合には、真空チャックＩＣがウェハｌＯの裏面に近接し
ても隙間が生じ、正確な吸着、安定した保持ができない
という課題を有していた。 そこで本発明は従来のこのような！ｌＨを解決するため
に、ウェハの状態に関わらず常にウェハを正値に吸着し
、安定して保持するウェハ移載１１厘を提供することを
目的とする。 ［ｊ１層を解決するための手段１ 上記課層を解決するため、本発明のウェハ移載装置は、
真空チャックによるウェハ吸Ｉｌｌ構と、前記ウェハ吸
着機構の移動手段を有し、前記ウェハ吸着機構によりウ
ェハを暖着保持し、ウェハ移載を行なうウェハ移載ｍａ
＋にお１１て、 ２ｍの前記真空チャックを回転軸を介
して、位置保持ｍ講を有する回転板に取り付けたことを
特徴とする特＊実施例１ 以下に本発明の実施例をＷｉ［にもとづいて説明する。 第１図（ａ）、第１１１ＩＩ （ｂ）において、２個の
真空チャックｌａ、ｌｂは真空チャック支持部材２に固
定されており、さらにこの真空チャック支持部材２は、
回転軸３を介して回転板４に固定されて、ウェハ吸着機
構を構成している。このウェハ吸着機構は、回転軸３及
び軸受け６により、吸着機構支持部材７に対して円滑に
回転できる。 また回転板４と吸着機構支持部材７は、スプリング８に
よって連結されており、スプリング８の復元力により定
位置に戻るような位置保持機構を構成している。 第２図において、例えば上記ウェハ吸着機構が移動手段
によりウェハ１０の裏面に近接する場合、ウェハ１０の
裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸１１１１ｉ１１
ａ、 ｌｌｂは、必ずしも同−平画になるとは限らない
、この時ウェハ吸Ｎ１ｍ横が固定されていれば、ウェハ
ｌＯの裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸ＩＦｉｉ
ｉｌｌａ、 ｌｌｂの間には隙間が生じ、ウェハ１０の
裏面を吸着できない。 そこで、ウェハ吸着機構を回転軸３及び軸受け６によフ
て、吸着機構支持部材７に対して円滑に回転できるよう
にする。 第３図・第４ｗｉは、本発明におけるウェハ吸着の状態
を説明するものである。例えば第３１１Ｉに示すように
上記ウェハ吸着機構が移動手段によりウェハ１０の裏面
に近接Ｃた隙にウェハｌｏの裏面と真空チャック１ａの
真空吸Ｍ面１１ａが同一平面にない場合、まず一方の真
空チャックｌａの一部がウェハ１０の裏面に接触する。 この状態で移動手段により移動方向ｘ１にウェハ吸着機
構を微量ずつ移動させる。このとき、ウェハ１０に接触
した部分は、ウェハ１０がストッパーの働きをするため
移動方向Ｘ１方向へは移動できず、ウェハ吸着機構を構
成する真空チャック支持部材２と回転板４は回転軸３を
中心として、回転方向ｒ１に回転を始める。このウェハ
吸着機構の円滑な回転遍勤により他方の真空チャックｌ
ｂも回転軸３を中心として回転方向ｒ１の回転移動をし
ながらウェハ１０の裏面に接触し、第４図に示すように
ウェハ１０の裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸１
１７［１１ａ、 ｌｌｂは同−平画とな）たところでウ
ェハ１０の裏面を真空吸着し保持できる。このようにす
ると、ウェハ収納溝が変形している様な精度の悪いウェ
ハ収納ボックス内のウェハのハンドリング及び、ウェハ
収納ボックスの位置精度が悪い場合のウェハハンドリン
グに有効である。 また。真空保持の際、真空吸Ｉｆ面１ａ、ｌｂの真空状
態を検出する手段（例えば真空センサ）を用いることに
より、より確実な真空吸着保持ができる。 さらに、本発明は、ウェハ１０の真空吸ｎ後のウェハ吸
着ａ槙の位置を、初期位置に修正、保持する位置保持機
構を有する。第３５ｉ１において、真空チャック１ａの
一部とウェハ１０の裏面の接触後、ウェハ吸ｚｔｔａ横
は、前述の通り、回転方向ｒ１に回転を始め、ウェハ吸
着機構を構成する回転板４は、回転軸３を中心として吸
着機構支持部材７に対して回転方向ｒ１に回転移動し、
第４＠に示すとおりウェハｌＯを真空吸着し保持する。 このとき回転板４と吸着機構支持部材７を連結するとこ
ろのスプリング８が回転板４の回転移動置に合わせ変位
し、復元力が生ずる。この復元力は回転板４を回転方向
ｒ１と相対する回転方向ｒ２へ回転させるように作用し
、ウェハ吸Ｓａ祷を祷成する回転＠４と、同転輸３を介
して固定された真空チャック支持部材２、さらに真空チ
ャック支持部材２に固定された真空チャック１ａ、１ｂ
の位置をＭ期位置に修正、保持する。 以上のように、スプリングの復元力を利用した単純な構
造の位置補正ｎ＃Ｒを構成することにより機構口体のメ
ンテナンスが不要となり、４ＲＭ性を高めることが出来
ると同時に、ウェハの上方に位訳する機構部は、単純で
あるために防塵対策上からもきわめて有効である。 ［５１明の効果１ 本発明のウェハ移載装置は以上説明したように、２個の
真空チャックを有する支持部に円滑に機能する回転Ｉ１
１ｔｉＩを持たせたことにより、ウェハの裏面と真空チ
ャックの吸Ｉ１面が同一平面になくても確実なウェハの
吸着、保持できるため、ウェハ収納溝が変形している様
な精度の悪いウェハ収納ボックス、あるいはウェハ収納
ボックスの位置精度の悪い場合におけるウェハハンドリ
ングに有効であ る。 また、上記の２個の真空チャックを初期位置に修正、保
持する位置保持機構は、スプリングの復元力を利用した
単純な構造なため、メンテナンスが不要となり、（ｄ頼
性を品めることができると同時に、ウェハの上方に位置
する機構部の防塵対策を容易にできるという効果がある
。
のように、ウェハ吸着機構を移動手段によりウェハ裏面
に近接させ、 １個の真空チャックによってウェハ裏面
を吸着し、保持するウェハ移載装置が知られている。 【発明が解決しようとするａＩＩ及び目的１しかし、か
かる従来のウェハ移載装置は、第５ＩＩＩ （ａ）に示
す通り、ウエハｌＯの裏面と真空チャックｌｃの真空吸
Ｗ面１１ｃが同一平面になることが前提となっている。 そのため第５図（ｂ）仁示すように、ウェハｌＯの裏面
と真空チャックｌｃの真空曖着面ｌｉｅが平行でない場
合には、真空チャックＩＣがウェハｌＯの裏面に近接し
ても隙間が生じ、正確な吸着、安定した保持ができない
という課題を有していた。 そこで本発明は従来のこのような！ｌＨを解決するため
に、ウェハの状態に関わらず常にウェハを正値に吸着し
、安定して保持するウェハ移載１１厘を提供することを
目的とする。 ［ｊ１層を解決するための手段１ 上記課層を解決するため、本発明のウェハ移載装置は、
真空チャックによるウェハ吸Ｉｌｌ構と、前記ウェハ吸
着機構の移動手段を有し、前記ウェハ吸着機構によりウ
ェハを暖着保持し、ウェハ移載を行なうウェハ移載ｍａ
＋にお１１て、 ２ｍの前記真空チャックを回転軸を介
して、位置保持ｍ講を有する回転板に取り付けたことを
特徴とする特＊実施例１ 以下に本発明の実施例をＷｉ［にもとづいて説明する。 第１図（ａ）、第１１１ＩＩ （ｂ）において、２個の
真空チャックｌａ、ｌｂは真空チャック支持部材２に固
定されており、さらにこの真空チャック支持部材２は、
回転軸３を介して回転板４に固定されて、ウェハ吸着機
構を構成している。このウェハ吸着機構は、回転軸３及
び軸受け６により、吸着機構支持部材７に対して円滑に
回転できる。 また回転板４と吸着機構支持部材７は、スプリング８に
よって連結されており、スプリング８の復元力により定
位置に戻るような位置保持機構を構成している。 第２図において、例えば上記ウェハ吸着機構が移動手段
によりウェハ１０の裏面に近接する場合、ウェハ１０の
裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸１１１１ｉ１１
ａ、 ｌｌｂは、必ずしも同−平画になるとは限らない
、この時ウェハ吸Ｎ１ｍ横が固定されていれば、ウェハ
ｌＯの裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸ＩＦｉｉ
ｉｌｌａ、 ｌｌｂの間には隙間が生じ、ウェハ１０の
裏面を吸着できない。 そこで、ウェハ吸着機構を回転軸３及び軸受け６によフ
て、吸着機構支持部材７に対して円滑に回転できるよう
にする。 第３図・第４ｗｉは、本発明におけるウェハ吸着の状態
を説明するものである。例えば第３１１Ｉに示すように
上記ウェハ吸着機構が移動手段によりウェハ１０の裏面
に近接Ｃた隙にウェハｌｏの裏面と真空チャック１ａの
真空吸Ｍ面１１ａが同一平面にない場合、まず一方の真
空チャックｌａの一部がウェハ１０の裏面に接触する。 この状態で移動手段により移動方向ｘ１にウェハ吸着機
構を微量ずつ移動させる。このとき、ウェハ１０に接触
した部分は、ウェハ１０がストッパーの働きをするため
移動方向Ｘ１方向へは移動できず、ウェハ吸着機構を構
成する真空チャック支持部材２と回転板４は回転軸３を
中心として、回転方向ｒ１に回転を始める。このウェハ
吸着機構の円滑な回転遍勤により他方の真空チャックｌ
ｂも回転軸３を中心として回転方向ｒ１の回転移動をし
ながらウェハ１０の裏面に接触し、第４図に示すように
ウェハ１０の裏面と真空チャックｌａ、ｌｂの真空吸１
１７［１１ａ、 ｌｌｂは同−平画とな）たところでウ
ェハ１０の裏面を真空吸着し保持できる。このようにす
ると、ウェハ収納溝が変形している様な精度の悪いウェ
ハ収納ボックス内のウェハのハンドリング及び、ウェハ
収納ボックスの位置精度が悪い場合のウェハハンドリン
グに有効である。 また。真空保持の際、真空吸Ｉｆ面１ａ、ｌｂの真空状
態を検出する手段（例えば真空センサ）を用いることに
より、より確実な真空吸着保持ができる。 さらに、本発明は、ウェハ１０の真空吸ｎ後のウェハ吸
着ａ槙の位置を、初期位置に修正、保持する位置保持機
構を有する。第３５ｉ１において、真空チャック１ａの
一部とウェハ１０の裏面の接触後、ウェハ吸ｚｔｔａ横
は、前述の通り、回転方向ｒ１に回転を始め、ウェハ吸
着機構を構成する回転板４は、回転軸３を中心として吸
着機構支持部材７に対して回転方向ｒ１に回転移動し、
第４＠に示すとおりウェハｌＯを真空吸着し保持する。 このとき回転板４と吸着機構支持部材７を連結するとこ
ろのスプリング８が回転板４の回転移動置に合わせ変位
し、復元力が生ずる。この復元力は回転板４を回転方向
ｒ１と相対する回転方向ｒ２へ回転させるように作用し
、ウェハ吸Ｓａ祷を祷成する回転＠４と、同転輸３を介
して固定された真空チャック支持部材２、さらに真空チ
ャック支持部材２に固定された真空チャック１ａ、１ｂ
の位置をＭ期位置に修正、保持する。 以上のように、スプリングの復元力を利用した単純な構
造の位置補正ｎ＃Ｒを構成することにより機構口体のメ
ンテナンスが不要となり、４ＲＭ性を高めることが出来
ると同時に、ウェハの上方に位訳する機構部は、単純で
あるために防塵対策上からもきわめて有効である。 ［５１明の効果１ 本発明のウェハ移載装置は以上説明したように、２個の
真空チャックを有する支持部に円滑に機能する回転Ｉ１
１ｔｉＩを持たせたことにより、ウェハの裏面と真空チ
ャックの吸Ｉ１面が同一平面になくても確実なウェハの
吸着、保持できるため、ウェハ収納溝が変形している様
な精度の悪いウェハ収納ボックス、あるいはウェハ収納
ボックスの位置精度の悪い場合におけるウェハハンドリ
ングに有効であ る。 また、上記の２個の真空チャックを初期位置に修正、保
持する位置保持機構は、スプリングの復元力を利用した
単純な構造なため、メンテナンスが不要となり、（ｄ頼
性を品めることができると同時に、ウェハの上方に位置
する機構部の防塵対策を容易にできるという効果がある
。
第１図（ａ−）は、本発明のウェハ移載装置の上ＷＩ
Ｉ！ｉｉ＋、 第１図（ｂ）は本発明のウェハ移載装
置の縦断１１図。 第２図は、ウェハと真空吸着部の位置関係の説明図。 第３図、第４図は、本発明のウェハ移載装置のｌａ、
ｌｂ、 ｌｃ・・・真空チャック２・・・真空チャ
ック支持部材 ３・・・回転軸 ４・・・回転板 ６・・・軸受け ７・・１１機構支持部材 ８・・・スプリング １０−−−ウェハ １１ａ、ｌｌｂ、 ｌｌｃ−・−真空吸ｉ面以上 出願人 セーＣコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木露三郎（他Ｉ名》 「１−□８ ｙ〜−一ン 窮り図（α） 寡１図（ｂ） １０ １１ｃ １α １０１１ｃ １α ＼＼Ｉ／Ｉ １１ｂ ｌｂ 第３図 第４図 １０ １１ｃ、 ｌｃ。
Ｉ！ｉｉ＋、 第１図（ｂ）は本発明のウェハ移載装
置の縦断１１図。 第２図は、ウェハと真空吸着部の位置関係の説明図。 第３図、第４図は、本発明のウェハ移載装置のｌａ、
ｌｂ、 ｌｃ・・・真空チャック２・・・真空チャ
ック支持部材 ３・・・回転軸 ４・・・回転板 ６・・・軸受け ７・・１１機構支持部材 ８・・・スプリング １０−−−ウェハ １１ａ、ｌｌｂ、 ｌｌｃ−・−真空吸ｉ面以上 出願人 セーＣコーエプソン株式会社 代理人弁理士 鈴木露三郎（他Ｉ名》 「１−□８ ｙ〜−一ン 窮り図（α） 寡１図（ｂ） １０ １１ｃ １α １０１１ｃ １α ＼＼Ｉ／Ｉ １１ｂ ｌｂ 第３図 第４図 １０ １１ｃ、 ｌｃ。
Claims (1)
- 真空チャックによるウェハ吸着機構と、前記ウェハ吸
着機構の移動手段を有し、前記ウェハ吸着機構によりウ
ェハを吸着保持し、ウェハ移載を行なうウェハ移載装置
において、２個の前記真空チャックを回転軸を介して位
置保持機構を有する回転板に取り付けたことを特徴とす
るウェハ移載装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1282373A JPH03149194A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | ウエハ移載装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1282373A JPH03149194A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | ウエハ移載装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03149194A true JPH03149194A (ja) | 1991-06-25 |
Family
ID=17651559
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1282373A Pending JPH03149194A (ja) | 1989-10-30 | 1989-10-30 | ウエハ移載装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03149194A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100688548B1 (ko) * | 2005-05-19 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송 장치 |
| WO2010072586A3 (en) * | 2008-12-22 | 2010-10-07 | Delaval Holding Ab | An arrangement for gripping at least one teat cup |
-
1989
- 1989-10-30 JP JP1282373A patent/JPH03149194A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100688548B1 (ko) * | 2005-05-19 | 2007-03-02 | 삼성전자주식회사 | 웨이퍼 이송 장치 |
| WO2010072586A3 (en) * | 2008-12-22 | 2010-10-07 | Delaval Holding Ab | An arrangement for gripping at least one teat cup |
| US8578881B2 (en) | 2008-12-22 | 2013-11-12 | Delaval Holding Ab | Arrangement for gripping at least one teat cup |
| EP3155898A1 (en) * | 2008-12-22 | 2017-04-19 | DeLaval Holding AB | An arrangement for gripping at least one teat cup |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US8757345B2 (en) | Magnetic rotational hardstop for robot | |
| JPH07297118A (ja) | 基板および基板保持方法ならびにその装置 | |
| JPH03149194A (ja) | ウエハ移載装置 | |
| KR102107780B1 (ko) | 웨이퍼 정렬 장치 및 방법 | |
| JPS61168298A (ja) | 電子部品の姿勢変更が可能な電子部品装着装置 | |
| JPS61167802A (ja) | 電子部品の姿勢変更が可能な電子部品装着システム | |
| JP3220332B2 (ja) | 磁気ディスクのエア吸着保持機構 | |
| JPH055756U (ja) | 基板搬送装置 | |
| JPS6359559B2 (ja) | ||
| JP3076379B2 (ja) | マスク落下防止マスクカセット | |
| JPH0446108Y2 (ja) | ||
| JPH0250455A (ja) | 半導体ウェハの搬送装置 | |
| JPH0423317Y2 (ja) | ||
| US20220254677A1 (en) | Magnetic stopper for a rotary motion system | |
| CN113500620B (zh) | 一种电动夹爪机构 | |
| KR102435481B1 (ko) | 기판 클램핑장치 | |
| JP2535628Y2 (ja) | ウエハー吸着装置 | |
| JPH08255821A (ja) | シリコンウェハー搬送装置 | |
| JPS59228720A (ja) | 整合装置 | |
| JPS6279923A (ja) | ロボツトのハンド | |
| JPH10316241A (ja) | ウェハ搬送装置 | |
| JPH09277161A (ja) | ポリッシング対象物搬送用ハンド | |
| JPS6378092A (ja) | 回転テ−ブル | |
| JPS6292337A (ja) | ウエハ保持装置 | |
| JPH06132381A (ja) | 基板ピックアップ装置 |