JPH03141668A - 基板電位発生装置 - Google Patents

基板電位発生装置

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JPH03141668A
JPH03141668A JP1167802A JP16780289A JPH03141668A JP H03141668 A JPH03141668 A JP H03141668A JP 1167802 A JP1167802 A JP 1167802A JP 16780289 A JP16780289 A JP 16780289A JP H03141668 A JPH03141668 A JP H03141668A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
charge pump
circuit
capacitor
pump circuit
substrate potential
Prior art date
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Pending
Application number
JP1167802A
Other languages
English (en)
Inventor
Tetsuji Hoshida
星田 哲司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野) この発明は絶縁ゲート型電界効果トランジスタ(121
F MOSFETという)を基本素子とした集積回路、
特にダイナミック回路の基板電位発生装置に囚するもの
である。
〔従来の技術〕
従来、この基板電位発生装置として第4図に示す構造の
ものがbつだ。図において、(1)は複数個のインバー
タをシリアルに接続した自助発振器。
121 、 +9) 、 15)はコンデンサで、それ
ぞれ自励発振器の出力及び外部人力信号RAS 、 C
ASに向期し発生される信号が、その片側の電極に接続
されている。
(6)はRASバッファ回路で、外部RAS信号(Ex
t、RAS)に開明して、RAM内部で使用される踵々
のクロックを発生するものである。d2はCASバッフ
ァRAM内部で使用される種々のクロックを発生するた
めのものである。+71 、181はMOSFETで構
成されるバッファ回路で、各々のゲートにRASバッフ
ァで発生されるEx t 、 RASと同位用のRAS
信号、及び逆位…のRAS信号が入力されている。+1
3 、 +141はMOSFETで構成されるバッファ
回路で、各々のゲートにCASバッファで発生されるE
xt、CASと同位用のCAS信号、及び逆位相のCA
S信号が人力されている。+31 、 +41はMOS
FETで構成される整流回路で、コンデンサ(2)の片
方の71!極に接続され、自・助発振器11)の発生信
号によってtゼ励されるチャージポンプ回路を構成しこ
いる。・to) 、 III) +;t MOSFET
によって構成される整流回路でコンデンサ(9)の片側
の電極に接続され、Ext、RAS信号に同期して発生
する内部信号によって駆動されるチャージポンプ回路を
構成している。u0uηはMOSFETによって構成さ
れる整流回路でコンデンサu9の片側の電極に接続され
、Ext、CAS信号に同期して発生する内部信号によ
って駆動されるチャージポンプ回路を構成している。(
5)は基板電位発生装置の出力端である。
次に動作について説明する。第4図の回路中の3つのチ
ャージポンプ回路においてRAM待機時はExt、RA
S、Ext、CASは4Hルベルの状態を維持するため
、ドの2つのチャージポンプ回路は駆動せず、自動発振
器に接続されるチャージポンプ回路のみが動作する。こ
れは待機時消火電力をできるだけ小さ(するためには有
効な手段である。まず、このRAM待機時における基板
電位発生装置の動作について、第4図の回路の各7−ド
の電位変化を示した第5図を用いて説明する。今、自励
免@器(1)がOVからVccの振幅で発振していると
する。この時、コンデンサ(2)のg!結合でノード囚
の電位も変化する。この場合、ノード囚の電位がMOS
FET(3)のしきい値電圧(VT)t2を上になろう
とすると、MOSFET+31が導通し、メート囚のH
レベルはVT[vlにクランプされる。従って、ノード
囚はこの電位から−VccD]だけ負の方向に変化する
ため、ノード人の晟低電位はVT−VCC[:l/] 
Kなる。従って、基板電位発生装置遣の出力端(5)は
、ノード(AlよりMO8FE Tt41のしさい値電
圧VTだけ高い電圧までになり、バッファとCASバッ
ファは動作しないため、チャージポンプ電流は第4図の
iIのみとなる。
に、RAMtb作時においては、載板電位発生装置″I
tのチャージポンプ回路は、3つとも動作するため、チ
ャージポンプ電流iは t−=tl+を鵞+i3 で表わされ、大きなチャージポンプ電流が得られるため
基板電流増大による基板電位の低下を補償することがで
きる。
近来、≠導体4壇回路の微細化が進むにつれてMOSF
ETのドレイン近傍の誦電″/#頗域で発生する正孔の
基板への拡散により生じる基板電派が増大し、これによ
って問題となってきた基板電位の低ドは、前記に述べた
RASバッファ、CASバッファで発生する内部信号に
よって動作するチャージポンプ回路を、設けることによ
って補償されるようになってきた。一方、微細化が進む
につれて基板電位発生装置のコンデンサを構成する酸比
膜厚も薄くなる傾向にあり、当然のことながらその耐圧
も低くなってくる。
〔発明が解決しようとrる課題] 従来の基板電位発生装置はα上のように構成されていた
ので、第4図に示す展板電位発生回路がRAM待機状態
を長時間維持し、この時動作しないチャージポンプ回路
のコンデンサ(9)及びlの両電極間にかかる電位変化
を第4図を用いご説明する。
RASバッファ及びCASバッファll111の電極に
は、それぞれ、MOSFET(71及びMOSFET[
13のしきい@電圧VT(VlとするとVCC−VT(
Vlの電位がかかる。−方、整流回路側の電極の電位(
Bl及び(0は基板からのリーク電流により負のレベル
へ向かう。この電位を−VB及び−Voとすると、コン
デンサの両電極間にはそれぞれvcc−v’r”vk3
及びvcc−v’r+Vcの電位がかかり、この電位が
コンデンサの酸化膜の耐圧を超えると、酸化膜破壊を起
こしてしまい、基板電位発生装置として動作しなくなる
ばかりか、RAM動作の誤動作を引き起こす原因となる
という問題点を有していた。
この発明は上記のような問題点を除、去するためになさ
れたもので、酸化膜破壊を防止するとともに破壊モード
に強い基板電位発生装置を得ることを目的とrる。
〔課題を解決するための手段および作用〕この発明に係
る基板電位発生装置は間欠動作を行うチャージポンプ回
路のコンデンサと整流回路の接続点と電圧源との間に高
抵抗を設け、RAM待機時間が長く続く場合は勿論その
他各条件ておいてもチャージポンプ回路中のコンデンサ
の両電極間に加わる電位を抑え、酸化膜の破壊を防止す
る破壊モードに強い安定な基板電位発生装置を得る。
〔実施例〕
以下、この発明の一実施例を図について説明rる。第1
図において、(101) 、 (102)はRAM待機
時にコンデンサ(9)及びd9の1!極間に加わる電位
を小ざくするために電圧源とコンデンサ(91、(15
1の整流回路に接続される方の電極との間に設けられた
高抵抗である。なお、その池の符号は前記従来のものと
同一であるので説明は省略する。
次て動作について第2図を用いて説明する。
RAM待機時に3いてはExt、RAS及びExt、C
ASはπレベルを維持している。自・功発振巷(1)の
出力−〇はこれらの外部人力信号に関係なく一定周期で
でている。又、RAS系の(言号が入力されるMO3F
ET+71と(8)で構成されるバッファ回路の出力φ
lはV。。−VT[V]となる。同様にCAS系の信号
が入力されるMO3F’ETf131と(141で構成
されるバッファ回路の出力φ2もV。(−VT (V 
1となる。この時このφ1及びφ2が人力されるチャー
ジポンプ回路のコンデンサ+9) 、 115)の襲流
回路側の電位は第2図のノードB、ノードCに示すよう
に、RAM待4吠聾を続けると、MO3FETu01 
、 +16)のしきい値電圧vTレベルになる。これは
、ノード(Bl及びノード(Oの電位がそれぞれ高抵抗
(101)、(102)を介して、上昇し、MO3FE
TtlO)、 +161のしきい1iil電圧V’rL
2L上になろうとすると−MOSFET(101、06
1が導通しノード(a及び(Cルヘルハ■T[vlにク
ランプされるためである。従って、RAM待機状四にコ
ンデンサ+9) 、 051の両電極間に加わる電位は
V。c−2VTとなり、コンデンサ(9)においては■
T+VB[vl 、コンデンサu9においては、VT+
VC[V]  もの電位が従来の基板電位発生装置の場
合よりも小ざくすることができるため、チャージポンプ
回路のコンデンサの破壊が起りに(い基板凰位発生装、
1を得ることができる。
なお、上記実施例では、RAS及びCAS糸の信号で間
欠動作するチャージポンプ回路構成の場合について示し
たが、手導体4j!壇回路内の他の内部信号において間
欠動作するチャージポンプ回路によって基板電位発生装
置を4を成している場合にもI釣用できる。その一実施
例を第3図に示す。この池の実施例では基板電位発生装
置を2つに汁け、リングオシレータ1の出力をチャージ
ポンプ回路の人力とする方は、定常的に動作する低哨置
電力形の基板バイアス発生回路で、もう一方は、基板電
位レベル検知回路によって基板電位が基準電圧VBef
より浅くなった時に、内部信号−Aによって間欠動作を
行う基板バイアス発生回路である。スタンバイ電流の低
減および基板電位の安定化を目的としてこのような基板
電位発生装置もあられれてきているが、この場合も、間
欠動作をするチャージポンプ回路のコンデンサと整流回
路との接続点と、電圧源との間に高抵抗を設けることに
より、より安定な基板電位出力端(買を得ることができ
る。
又、基板電位を深くするために、間欠動作をするチャー
ジポンプ回路の人力信号を昇圧する回路を設けているよ
うな装置においては、虫に有効である。
〔発明の効果〕
は上のようにこの発明によれば、間欠動作をするチャー
ジポンプ回路のコンデンサと整流回路の接続へと電圧源
との間に高抵抗を設けてコンデンサの両電極間に加わる
電位が小さくなるような回路構成にしたので、コンデン
サの電極間の酸化膜破壊が起りにくいという効果がある
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の一実施例による基板電位発生装置の
回路図、第2図は第1図のRAM待機時における各信号
及びノード電位の関係図、第3図はこの発明の曲の実施
例である展板電位発生装置の応用例を示すブロック図、
第4図は従来の基板電位発生装置の回路図、第5図は8
4図のRAM待機時における各信号及びノード電位の関
係図である。 図中、(1)は自動発振器、+21 、 t9)、 1
J5)はコンデンサ、+31 +41 +71 +81
110) (ID 03) +141 +161 +1
71はMOSFET 、 +51は基板電位出力端、(
6)はRASバッファ回路、tlZはCA38271回
路、(101)、(102)は高抵抗を示す。 なお、図中同一符号は同一、または泪当部号を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  少なくとも2つ以上のチャージポンプ回路によって構
    成されている基板電位発生装置内蔵の半導体集積回路に
    おいて、その内少なくとも1つのチャージポンプ回路は
    間欠動作するものであり、このチャージポンプ回路のコ
    ンデンサと整流回路の接続点と、電圧源とに高抵抗手段
    を設けたことを特徴とする基板電位発生装置。
JP1167802A 1989-06-28 1989-06-28 基板電位発生装置 Pending JPH03141668A (ja)

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JP1167802A JPH03141668A (ja) 1989-06-28 1989-06-28 基板電位発生装置

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