JPH0313565A - 真空蒸着装置 - Google Patents
真空蒸着装置Info
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- JPH0313565A JPH0313565A JP14683189A JP14683189A JPH0313565A JP H0313565 A JPH0313565 A JP H0313565A JP 14683189 A JP14683189 A JP 14683189A JP 14683189 A JP14683189 A JP 14683189A JP H0313565 A JPH0313565 A JP H0313565A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- raw material
- heater
- crucible
- parts
- aperture
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 title 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims abstract description 16
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 15
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 abstract description 33
- 239000013078 crystal Substances 0.000 abstract description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 abstract description 5
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 abstract description 3
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 abstract 1
- 235000003642 hunger Nutrition 0.000 abstract 1
- 238000012856 packing Methods 0.000 abstract 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 abstract 1
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- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は蒸発源を使用する真空蒸着装置に関するもので
ある。
ある。
真空蒸着装置の性能は蒸Ｒ源の性能に大きく左右される
。
。
蒸発源の性能を向上させる手段として、例えば、特開昭
６２−１６９３２１号公報が開示され、ヒータをルツボ
開口部で折曲げ、開ロ部不近の温度を高めることによっ
て、蒸発原料の突沸などによる成長結晶の防止を図るこ
とが述べられている。
６２−１６９３２１号公報が開示され、ヒータをルツボ
開口部で折曲げ、開ロ部不近の温度を高めることによっ
て、蒸発原料の突沸などによる成長結晶の防止を図るこ
とが述べられている。
しかしながら、上記技術は、蒸発源のルツボ内の原料の
量が、充填時と、蒸発して減少した場合は全く興なり、
原料液面とヒータ性能との関係について配慮されておら
ず、原料なルツボ開口部−杯まで入れると、原料が過加
熱されて、かえって、結晶中の欠陥が増加するし、原料
が枯渇する前になると、折り曲げ部までに低温部ができ
て、前記公知例で目標とした効果が低下するという欠点
があった。
量が、充填時と、蒸発して減少した場合は全く興なり、
原料液面とヒータ性能との関係について配慮されておら
ず、原料なルツボ開口部−杯まで入れると、原料が過加
熱されて、かえって、結晶中の欠陥が増加するし、原料
が枯渇する前になると、折り曲げ部までに低温部ができ
て、前記公知例で目標とした効果が低下するという欠点
があった。
本発明は、初期原料充填時から、原料が枯渇するまで、
−貫して、蒸発物質に対して低温部を作らず、安定して
、原料を与える蒸発源を得ることによって、性能の良い
真空蒸着装置を得ることを目的とする。
−貫して、蒸発物質に対して低温部を作らず、安定して
、原料を与える蒸発源を得ることによって、性能の良い
真空蒸着装置を得ることを目的とする。
上記目的を達成する方法として、最も単純に思いつくの
は、ヒータを輪切りにして複数個設けて、個々に温度制
御する方法であるが、現実曇こ物を製作する場合は、個
々のヒータの絶縁、リード線のフィードスルが多大の面
積を占有するなど、ハード的に困難があるばかりでなく
、個々のヒータをどのように制御するかというソフト面
での困難さがあり、産業用としては現実性がない。
は、ヒータを輪切りにして複数個設けて、個々に温度制
御する方法であるが、現実曇こ物を製作する場合は、個
々のヒータの絶縁、リード線のフィードスルが多大の面
積を占有するなど、ハード的に困難があるばかりでなく
、個々のヒータをどのように制御するかというソフト面
での困難さがあり、産業用としては現実性がない。
本発明では、ヒータの加熱容器を階段的に、ルツボ底か
らルツボ出口に向けて太き（すること螢こよって目的を
達成した。
らルツボ出口に向けて太き（すること螢こよって目的を
達成した。
一般にルツボ出口部の温度を高めるような構造をトップ
ヒートと呼んでいるのでこの呼び方を使用する。
ヒートと呼んでいるのでこの呼び方を使用する。
原料の量の多少にかかわらず、常に、トップヒートの状
態が損われないように、本発明で使用する蒸発源のヒー
タでは、ルツボ関口部近傍で、ヒータを折り曲げるとと
もに、直線部ヒータは長さが違うように構成することに
よって、温度が階段状に変化するようにしたので、初期
原料充填時は、ヒータの折り曲げ部がトップヒートとし
て作用し、原料を消費して、原料の表面がルツボの底近
くになると、すく０直前の階段状加熱部がトップヒート
して効くこのようにして原料の多少にかかわらず、終始
トップヒートの状態を維持することによって、突沸など
の欠陥の発生がない蒸発源とすることができ、これによ
って性能の良い真空蒸着装置を得ることができる。
態が損われないように、本発明で使用する蒸発源のヒー
タでは、ルツボ関口部近傍で、ヒータを折り曲げるとと
もに、直線部ヒータは長さが違うように構成することに
よって、温度が階段状に変化するようにしたので、初期
原料充填時は、ヒータの折り曲げ部がトップヒートとし
て作用し、原料を消費して、原料の表面がルツボの底近
くになると、すく０直前の階段状加熱部がトップヒート
して効くこのようにして原料の多少にかかわらず、終始
トップヒートの状態を維持することによって、突沸など
の欠陥の発生がない蒸発源とすることができ、これによ
って性能の良い真空蒸着装置を得ることができる。
以下、本発明の一実施例を図によって説明する。
！１！３図は蒸発源の断面を示すもので、原料ｌはルツ
ボｌに、充填されて、ヒータｎによって加熱される。ル
ツボはツバ２Ｃを有し、開口部２人を形成している。４
人はヒータの折り曲げ部を示している。
ボｌに、充填されて、ヒータｎによって加熱される。ル
ツボはツバ２Ｃを有し、開口部２人を形成している。４
人はヒータの折り曲げ部を示している。
５３１図は本発明の一実施例を示すもので、ヒータ認は
、折り曲げ部１２Ａを有し、ヒータの直線部に長いもの
と、短いものが交互に形成されていて、ルツボの底から
開口部に至って、階段状に加熱容量が増加しである。
、折り曲げ部１２Ａを有し、ヒータの直線部に長いもの
と、短いものが交互に形成されていて、ルツボの底から
開口部に至って、階段状に加熱容量が増加しである。
第２図は、本発明の他の実施例の一例で、ヒータをｎで
表わしてあり、折り曲げ２２Ａが、前述の１２Ａと異っ
ている。
表わしてあり、折り曲げ２２Ａが、前述の１２Ａと異っ
ている。
Ｎ４図に第１図に対応する従来技術の例を、第５図は′
！Ｊ２図に対応する従来技術の例であり、記号はそれぞ
れ同じ記号が使用しである。
！Ｊ２図に対応する従来技術の例であり、記号はそれぞ
れ同じ記号が使用しである。
本発明（こよれば、ルツボ内の原料が、十分多電充填し
である時は、ヒータの折り返し部が作用して原料の底部
より表面をより高温にするよう作用し、原料の量が減り
でくると、ヒータの直線部の粗密によって、原料の底部
より表面部をより高温にするように作用するので、原料
が消費される全域に亘って、トップヒートの状態を形成
できるので、原料の突沸などによる結晶欠陥が防止でき
る。
である時は、ヒータの折り返し部が作用して原料の底部
より表面をより高温にするよう作用し、原料の量が減り
でくると、ヒータの直線部の粗密によって、原料の底部
より表面部をより高温にするように作用するので、原料
が消費される全域に亘って、トップヒートの状態を形成
できるので、原料の突沸などによる結晶欠陥が防止でき
る。
従って、かかる蒸発源を組込んだ、真空蒸着装置では、
良質な結晶膜が、原料充填初期から、原料枯渇直前まで
安定して得られる。
良質な結晶膜が、原料充填初期から、原料枯渇直前まで
安定して得られる。
本発明によれば、原料の各表面レベルに対して確実にト
ップヒート化できるので、長期間に亘って、安定した結
晶が得られる真空蒸着ｇｔ［が得られる。
ップヒート化できるので、長期間に亘って、安定した結
晶が得られる真空蒸着ｇｔ［が得られる。
第１図は、本発明の一実施例の蒸発源のふ観図、第２図
は、第１図のヒータの部分詳細図、ｇＪ３図は、′Ｍ１
図の蒸発源の縦断面図、第４図は、従来の蒸発源のふ観
図、第５図は、第４図のヒータの部分詳細図である。 ■・・−・・原料、２・・・・・・ルツボ、認・・・・
・・ヒータ、ｎ第４図 イｆ目
は、第１図のヒータの部分詳細図、ｇＪ３図は、′Ｍ１
図の蒸発源の縦断面図、第４図は、従来の蒸発源のふ観
図、第５図は、第４図のヒータの部分詳細図である。 ■・・−・・原料、２・・・・・・ルツボ、認・・・・
・・ヒータ、ｎ第４図 イｆ目
Claims (1)
- １．蒸発金属を入れるルツボの外周部にヒータを配置し
た蒸発源を使用する真空蒸着装置において、 前記ヒータは一体でつづら折り形状に形成されつづら折
り形状の直線部がルツボ縦方向となるように配置され、
かつルツボ開口部外周位置にてヒータが外方あるいは内
方に折曲げられ、直線部の長さが不均一に形成されてい
る蒸発源を装備することを特徴とする真空蒸着装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14683189A JPH0313565A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 真空蒸着装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14683189A JPH0313565A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 真空蒸着装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0313565A true JPH0313565A (ja) | 1991-01-22 |
Family
ID=15416508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14683189A Pending JPH0313565A (ja) | 1989-06-12 | 1989-06-12 | 真空蒸着装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0313565A (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006075755A1 (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Youtec Co., Ltd. | 蒸発源及び蒸着装置 |
| KR100829736B1 (ko) * | 2002-02-07 | 2008-05-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 진공 증착장치의 가열용기 |
| US20090142489A1 (en) * | 2006-08-04 | 2009-06-04 | Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation | Linear deposition sources for deposition processes |
| WO2009136670A1 (en) * | 2008-05-05 | 2009-11-12 | Yas Co., Ltd. | Heater for vacuum thermal deposition |
| CN102313632A (zh) * | 2011-07-06 | 2012-01-11 | 华霆（合肥）动力技术有限公司 | 一种电池组热管理系统风场的测试方法 |
| CN103726022A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-04-16 | 上海和辉光电有限公司 | 一种有机材料加热蒸镀源 |
| CN104278236A (zh) * | 2013-07-03 | 2015-01-14 | 三星显示有限公司 | 沉积源 |
| CN104419898A (zh) * | 2013-08-30 | 2015-03-18 | 三星显示有限公司 | 蒸镀源 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62169321A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Hitachi Ltd | 真空蒸着用蒸発源 |
-
1989
- 1989-06-12 JP JP14683189A patent/JPH0313565A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62169321A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Hitachi Ltd | 真空蒸着用蒸発源 |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100829736B1 (ko) * | 2002-02-07 | 2008-05-15 | 삼성에스디아이 주식회사 | 진공 증착장치의 가열용기 |
| WO2006075755A1 (ja) * | 2005-01-17 | 2006-07-20 | Youtec Co., Ltd. | 蒸発源及び蒸着装置 |
| JPWO2006075755A1 (ja) * | 2005-01-17 | 2008-06-12 | 株式会社ユーテック | 蒸発源及び蒸着装置 |
| US20090142489A1 (en) * | 2006-08-04 | 2009-06-04 | Soonchunhyang University Industry Academy Cooperation Foundation | Linear deposition sources for deposition processes |
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| CN104278236A (zh) * | 2013-07-03 | 2015-01-14 | 三星显示有限公司 | 沉积源 |
| CN104419898A (zh) * | 2013-08-30 | 2015-03-18 | 三星显示有限公司 | 蒸镀源 |
| CN103726022A (zh) * | 2013-11-22 | 2014-04-16 | 上海和辉光电有限公司 | 一种有机材料加热蒸镀源 |
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