JPH03132054A - ウエハ搬送装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体装置の製造分野において、特に半導体ウ
ェハ搬送装置の改良に関する。

〔従来の技術〕

従来、この種のウェハ搬送装置は、ウェハカセットから
ウェハを一枚ずつ取出す供給部、ウェハのオリエンテー
ションフラット（以下オリフラと略す）方向を合わせる
オリフラ合せ部、処理ステーションに対しウェハをロー
ドする搬送部、処理済みウェハをアンロードしてカセッ
トに収納するアンロード収納部などから構成されている
。その場合、ウェハカセットはそれぞれ供給、収納専用
であるため少なくとも二個、近年の情報ではカセット二
個分すなわち５０枚のウェハを一貫処理できるよう、供
給用二個、収納用二個、計四個のカセットを常設する装
置が多い、一方、ウェハからの半導体チップ取得率（歩
留り）を上げるためウェハの大口径化が着々進んでおり
、６インチから８インチへの移行も始まりつつある。こ
の状況においてスペースファクターを改善するためにカ
セットの共用化、すなわち処理ずみウェハを供給元のカ
セットの元のポケットに戻す方式が見直されつつある。

なお、この種の装置として関連するものには例えば、特
願昭６１−５４４２０号などが挙げられる。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は処理ステーションに対しウェハをロード
、アンロードする機能も含めた、ウェハ搬送機能全体の
系統化９合理化の点について配慮されておらず、ウェハ
交換時間やスペーサファクターの面で不充分という問題
があった。

本発明の目的はウェハ交換換時間が短かく、スペースフ
ァクターの良いウェハ搬送装置を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するために、本発明においては搬送アー
ムをウェハの対向する二辺をピックアップして出入りす
る外アームと、前記二辺に挟まれた辺あるいは中央をピ
ックアップして出入りする内アームとの二つから構成す
るようにしたものである。

〔作用〕

すなわち、処理ステーションに対してウェハを交換する
際は、処理済みウェハを内アームでアンロードしたのち
直ちに外アームに保持した処理前ウェハをロードするこ
とにより短時間でウェハ交換を終える。次にアームがカ
セットに正対して内アームに保持したウェハをカセット
内に収納し、また次に処理すべきウェハを引出す。次に
アームがオリフラ合せステーションに正対して内アーム
に保持したウェハを投入し１代って外アームが伸長して
オリフラ合せされたウェハを保持し、処理ステーション
でのウェハ処理終了を待つ。上記各ステーションが搬送
アームの回りに配置される場合は搬送アームの旋回動に
より、直線配置される場合は、同様に直線動により各ス
テーションと順次正対できるため、ウェハ搬送機能とし
ての系統的１合理的構成が実現され、スペースファクタ
ーの良いウェハ搬送装置が提供される。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例として縮小投影露光装置のウェ
ハ搬送装置を図により説明する。搬送アーム１はウェハ
の対向する二辺をピックアップできるよう先端に真空吸
着部を有し、かつ左右同期して出入り可能に直線案内駆
動された外アーム２ａ、２ｂと、ウェハの前記二辺に挟
まれた辺あるいは中央をピックアップできるよう真空吸
着部を有し、出入り可能に直線案内駆動されて内アーム
３とから成り、下半にアーム全体を回転及び上下駆動す
る機構（図示せず）を有する。一方力セットテーブル４
には各々２５枚のウェハを収納できるカセット５ａ、５
ｂが設置され、前記内アーム３によって全てのウェハが
順次正対して引出され、かつ露光終了後に元の位置に戻
されるように各カセットの上下案内駆動機構が、また力
セラ（・５ａ位置にカセット５ｂがスライドして入るよ
うカセットの水平駆動機構（共に図示せず）が設けられ
ている。他方オリフラ合せテーブル６には供給されたウ
ェハを上昇して支持し、真空吸着して回転させる回転テ
ーブル７と、回転に同期してウェハ外縁の光学像を検出
することによりオリフラ方向を検出し、回転テーブル７
の相当量回転によりオリフラ方向を合わせるよう構成さ
れたオリフラ検出器８が設けられている。次に露光ステ
ージ９には外アームで搬送されたウェハを一時支持し。

アーム後退後に下降してウェハチャック１０に渡すべく
ウェハ上下機能を持った３個１組のピン１１が設けられ
ており、真空吸着されたウェハを載せて露光光学系（図
示せず）の下に導入し、原画の露光とステージのステッ
プ移動の緑返しによリウエハ上に原画像の配列を得るべ
く構成されている。

次にウェハの搬送動作について説明する。まず第１図、
第２図のようにカセットの最下段ポケットからまだ露光
されていないウェハ１２ａを取出すべくカセット５ａが
上昇して内アーム３に正対し、以下アーム進入、カセッ
ト下降、ウェハ吸着。

アーム後退の順でウェハを内アーム３に吸着して引出す
。次に搬送アーム１全体が９０度回転してオリフラ合せ
テーブル６に正対し、内アーム３すなわちウェハの進入
、吸着解除２回転テーブル７の上昇、ウェハ吸着、アー
ム後退の順でウェハがオリフラ合せテーブル６に搬送さ
れる。ウェハ１２ｂは回転テーブル７とオリフラ検出器
８の動作によりオリフラ合せされたのち搬送アーム１の
下降、外アーム２ａ、２ｂの進入２回転テーブル７の下
降の順で外アームに吸着され、搬送アーム１が上昇して
再び９０度回転することにより露光ステージ９上に搬送
される。第３図、第４図において露光ステージ９上に搬
送されたウェハ１２ｃはカセット５ａの最初のウェハで
あり、直ちに搬送アーム１の下降、外アームの吸着解除
、ピン１１の上昇ウェハ支持、外アームの後退、ピン１
１（ウェハ１２ｃ）の下降、ウェハチャック１０への吸
着の順で搬送され、次でステージは露光動作に、搬送ア
ーム１は１８０度回転して次のウェハの搬送動作に移る
。ところで２枚目以降のウェハをステージに搬送する場
合、まず露光済みのウェハをアンロードする必要がある
。第３図。

第４図の点線はアンロード途中のウェハ１２ｄを示し、
まずピン１１による露光済みウェハ１２ｄの押上げ、内
アーム３の進入、ピン１１の下降。

内アームへのウェハ吸着、内アーム（ウェハ１２ｄ）の
後退すなわちアンロードののち、前記未露光ウェハ１２
ｃのロード動作を行い、搬送アーム１の１８０度回転の
後で内アームに吸着して露光済みウェハをカセット５ａ
の元のポケット位置に戻し、それから次のウェハの搬送
動作に移る。

以上は搬送アーム１の回りに各ステーションを配置した
ものであるが、第Ｓ図は各ステーションを直線上に配置
し、搬送アーム１をリニアガイド１３上に設けてウェハ
を直線的に搬送する例である。これは半導体工場の自動
化対応の一例として、露光装置外より供給されるウェハ
を一担カセットに収納し、露光終了後に装置外に搬出す
る場合などに省スペースの面で有用である。

〔発明の効果〕

以上、本発明によれば、内アームによって露光済みウェ
ハをアンロードしたのち、直ちに外アームに保持された
未露光ウェハをロードできるのでウェハ交換時間が短か
くて済み、また、内アームによってカセットからのウェ
ハの出入れ、オリフラステージへの供給ができるのでス
ペースファクターの良いウェハ搬送装置が提供できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例である縮小投影露光装置のウ
ェハ搬送装置の平面図、第２図は第１図のＩ−１線縦断
面図、第３図は第１図と異なる状態の平面図、第４図は
第３図のＡ矢視図、第５図は他の実施例であるウェハ搬
送装置の平面図を示す。 １・・・搬送アーム、２ａ、２ｂ・・・外アーム、３・
・・内アーム、４・・カセットテーブル、５ａ、５ｂ・
・・カセット、６・・・オリフラ合せテーブル、９・・
・露光ステージ、１０・・・ウェハチャック、１１・・
・ピン、１２　ａ　、　　ｌ　２　ｂ　、　　１２　ｃ
　、　　１２　ｄ−ウェハ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、処理ステーションに対し半導体ウェハをロード、ア
   ンロードするウェハ搬送装置において、搬送アームはウ
   ェハの対向する二辺をピックアップして出入りする外ア
   ームと、前記二辺に狭まれた辺あるいは中央をピックア
   ップして出入りする内アームとから成り、処理済みウェ
   ハを内アームでアンロードしたのち直ちに外アームに保
   持した処理前ウェハをロードするように構成したことを
   特徴とするウェハ搬送装置。