JPH03130246A - 1―インダノン誘導体の製造法 - Google Patents
1―インダノン誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPH03130246A JPH03130246A JP2268287A JP26828790A JPH03130246A JP H03130246 A JPH03130246 A JP H03130246A JP 2268287 A JP2268287 A JP 2268287A JP 26828790 A JP26828790 A JP 26828790A JP H03130246 A JPH03130246 A JP H03130246A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- phenyl
- hydrogen
- indanone
- manufacturing
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 13
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical class C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 10
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 title description 3
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims abstract description 31
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- AFVDWGITABCILM-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-3h-inden-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(C)(C)CC2=C1 AFVDWGITABCILM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 11
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 10
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 9
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 claims abstract description 7
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 239000011968 lewis acid catalyst Substances 0.000 claims abstract description 5
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 5
- GMDYDZMQHRTHJA-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-ol Chemical compound CC(C)C(O)C1=CC=CC=C1 GMDYDZMQHRTHJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 239000002841 Lewis acid Substances 0.000 claims abstract description 3
- 150000007517 lewis acids Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 19
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 19
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 17
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 14
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 13
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical group F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 12
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 7
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 claims description 7
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 7
- 125000002496 methyl group Chemical class [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 6
- 239000012279 sodium borohydride Substances 0.000 claims description 5
- 229910000033 sodium borohydride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 claims description 4
- BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1-phenylpropan-1-one Chemical group CC(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 BSMGLVDZZMBWQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 claims 3
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 239000000043 antiallergic agent Substances 0.000 abstract description 2
- 239000003814 drug Substances 0.000 abstract description 2
- LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N teixobactin Chemical compound C([C@H](C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H](CCC(N)=O)C(=O)N[C@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H]([C@@H](C)CC)C(=O)N[C@@H](CO)C(=O)N[C@H]1C(N[C@@H](C)C(=O)N[C@@H](C[C@@H]2NC(=N)NC2)C(=O)N[C@H](C(=O)O[C@H]1C)[C@@H](C)CC)=O)NC)C1=CC=CC=C1 LMBFAGIMSUYTBN-MPZNNTNKSA-N 0.000 abstract 1
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 8
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 8
- 229910002090 carbon oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 7
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012043 crude product Substances 0.000 description 6
- 239000000284 extract Substances 0.000 description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 6
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000000047 product Substances 0.000 description 5
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N [Cr].[Co] Chemical compound [Cr].[Co] WAIPAZQMEIHHTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 3
- 150000008365 aromatic ketones Chemical class 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 3
- 239000012280 lithium aluminium hydride Substances 0.000 description 3
- -1 lithium aluminum hydride Chemical compound 0.000 description 3
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 3
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 3
- XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 3-phenylpropionic acid Chemical compound OC(=O)CCC1=CC=CC=C1 XMIIGOLPHOKFCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N boron trifluoride Chemical compound FB(F)F WTEOIRVLGSZEPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005810 carbonylation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 2
- 229960001680 ibuprofen Drugs 0.000 description 2
- KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N isobutylbenzene Chemical compound CC(C)CC1=CC=CC=C1 KXUHSQYYJYAXGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LSACYLWPPQLVSM-UHFFFAOYSA-N isobutyric acid anhydride Chemical compound CC(C)C(=O)OC(=O)C(C)C LSACYLWPPQLVSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000137 polyphosphoric acid Polymers 0.000 description 2
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- 238000007363 ring formation reaction Methods 0.000 description 2
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 2
- HLHOCGZSPWTARW-UHFFFAOYSA-N (3-chloro-2-methylpropyl)benzene Chemical compound ClCC(C)CC1=CC=CC=C1 HLHOCGZSPWTARW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLVILBSSXMZZCB-UHFFFAOYSA-N 1-[4-(2-methylpropyl)phenyl]ethanol Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)O)C=C1 VLVILBSSXMZZCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SRDOJGMYVZZEOJ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-4-(2-methylpropyl)benzene Chemical compound COC1=CC=C(CC(C)C)C=C1 SRDOJGMYVZZEOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 2,2-Dimethyloxirane Chemical compound CC1(C)CO1 GELKGHVAFRCJNA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKGZQQSGOMGCJP-UHFFFAOYSA-N 2,2-diethyl-3h-inden-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(CC)(CC)CC2=C1 NKGZQQSGOMGCJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVDVPOYBSSFMQI-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethyl-1-phenylbutan-1-one Chemical compound CCC(C)(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 MVDVPOYBSSFMQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MFMMTKQCDWDWEG-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2-dimethyl-1,3-dihydroinden-5-yl)acetic acid Chemical compound C1=C(CC(O)=O)C=C2CC(C)(C)CC2=C1 MFMMTKQCDWDWEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 2-[2,4-di(pentan-2-yl)phenoxy]acetyl chloride Chemical compound CCCC(C)C1=CC=C(OCC(Cl)=O)C(C(C)CCC)=C1 NGNBDVOYPDDBFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910015900 BF3 Inorganic materials 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001335 aliphatic alkanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000002168 alkylating agent Substances 0.000 description 1
- 229940100198 alkylating agent Drugs 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003110 anti-inflammatory effect Effects 0.000 description 1
- 239000000010 aprotic solvent Substances 0.000 description 1
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 206010003246 arthritis Diseases 0.000 description 1
- 230000000975 bioactive effect Effects 0.000 description 1
- FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N butyrophenone Chemical compound CCCC(=O)C1=CC=CC=C1 FFSAXUULYPJSKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000006315 carbonylation Effects 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000003518 caustics Substances 0.000 description 1
- 239000012295 chemical reaction liquid Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 239000013058 crude material Substances 0.000 description 1
- 239000012024 dehydrating agents Substances 0.000 description 1
- 150000008050 dialkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N dicarbon monoxide Chemical group [C]=C=O VILAVOFMIJHSJA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N dimethyl sulfate Chemical compound COS(=O)(=O)OC VAYGXNSJCAHWJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 239000003759 ester based solvent Substances 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000000543 intermediate Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N methane;hydrate Chemical compound C.O VUZPPFZMUPKLLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000012264 purified product Substances 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 description 1
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M tetrabutylazanium;iodide Chemical compound [I-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC DPKBAXPHAYBPRL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005292 vacuum distillation Methods 0.000 description 1
- XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N valerophenone Chemical compound CCCCC(=O)C1=CC=CC=C1 XKGLSKVNOSHTAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C49/00—Ketones; Ketenes; Dimeric ketenes; Ketonic chelates
- C07C49/587—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring
- C07C49/657—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing six-membered aromatic rings
- C07C49/665—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing six-membered aromatic rings a keto group being part of a condensed ring system
- C07C49/67—Unsaturated compounds containing a keto groups being part of a ring containing six-membered aromatic rings a keto group being part of a condensed ring system having two rings, e.g. tetralones
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C33/00—Unsaturated compounds having hydroxy or O-metal groups bound to acyclic carbon atoms
- C07C33/18—Monohydroxylic alcohols containing only six-membered aromatic rings as cyclic part
- C07C33/20—Monohydroxylic alcohols containing only six-membered aromatic rings as cyclic part monocyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/45—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by condensation
- C07C45/46—Friedel-Crafts reactions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/49—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reaction with carbon monoxide
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
- C07C45/00—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds
- C07C45/61—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups
- C07C45/67—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton
- C07C45/68—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms
- C07C45/70—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form
- C07C45/71—Preparation of compounds having >C = O groups bound only to carbon or hydrogen atoms; Preparation of chelates of such compounds by reactions not involving the formation of >C = O groups by isomerisation; by change of size of the carbon skeleton by increase in the number of carbon atoms by reaction with functional groups containing oxygen only in singly bound form being hydroxy groups
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ある特定の2.2−ジオルガノ−1−インダ
ノンを製造するための新規な方法に関する。
ノンを製造するための新規な方法に関する。
2.2−ジメチル−1−インダノンや2.2−ジエチル
−1−インダノン等の種々のインダノン類は医薬品製造
の際の高価で有用な中間体である0例えば2,2−ジメ
チル−1−インダノンは、抗アレルギー薬である4−(
6°−クロロ−2”、2°−ジメチルインデン−1′−
イリデン)−メチルピペリジン、抗炎症・抗関節炎症薬
である2、2−ジメチルインダン−5−酢酸、及びクマ
リンのような他の生体作用化合物、などの合成に使用さ
れている。
−1−インダノン等の種々のインダノン類は医薬品製造
の際の高価で有用な中間体である0例えば2,2−ジメ
チル−1−インダノンは、抗アレルギー薬である4−(
6°−クロロ−2”、2°−ジメチルインデン−1′−
イリデン)−メチルピペリジン、抗炎症・抗関節炎症薬
である2、2−ジメチルインダン−5−酢酸、及びクマ
リンのような他の生体作用化合物、などの合成に使用さ
れている。
以下の説明は、 37CFR1,56,1,97,及び
1.98に記載のタームに従って開示されている。
1.98に記載のタームに従って開示されている。
1979年8月28日付けで取得したベイン(Payn
e)による米国特許第4,166.131号明細書は、
無機酸の存在下にて対応した2、2−ジアルキル−3−
フェニル(又は置換フェニル)プロピオン酸を環化する
ことによる。あるいはフリーデル−クラフッ触媒(例え
ば塩化アルミニウム)を使用してこのような酸の酸塩化
物を環化することによる2、2−ジアルキル−1−イン
ダノンの製造について開示している。具体的には、ポリ
リン酸を触媒として使用したα、α−ジメチルジヒドロ
ケイ皮酸の環化による2、2−ジメチル−1−インダノ
ンの製造について開示している。
e)による米国特許第4,166.131号明細書は、
無機酸の存在下にて対応した2、2−ジアルキル−3−
フェニル(又は置換フェニル)プロピオン酸を環化する
ことによる。あるいはフリーデル−クラフッ触媒(例え
ば塩化アルミニウム)を使用してこのような酸の酸塩化
物を環化することによる2、2−ジアルキル−1−イン
ダノンの製造について開示している。具体的には、ポリ
リン酸を触媒として使用したα、α−ジメチルジヒドロ
ケイ皮酸の環化による2、2−ジメチル−1−インダノ
ンの製造について開示している。
1968年5月28日付けで取得したブルーソン(Br
uson)らによる米国特許第3,385,895号明
細書は、塩化アルミニウム又は臭化アルミニウムの存在
下にて、ある特定のハロゲン化脂肪族エーテルを一酸化
炭素及び芳香族化合物(例えばベンゼン)と反応させる
ことによる。2,2−ジメチルインダノンのようなβ−
ジ置換−α−インダノンの製造について開示している。
uson)らによる米国特許第3,385,895号明
細書は、塩化アルミニウム又は臭化アルミニウムの存在
下にて、ある特定のハロゲン化脂肪族エーテルを一酸化
炭素及び芳香族化合物(例えばベンゼン)と反応させる
ことによる。2,2−ジメチルインダノンのようなβ−
ジ置換−α−インダノンの製造について開示している。
ブルーソンらによるコーユ組、」睨m、、 32.33
56−3362(1967)”においても[(IIのプ
ロセスが開示されており、ここでは。
56−3362(1967)”においても[(IIのプ
ロセスが開示されており、ここでは。
塩化アルミニウムの存在下にて、塩化ネオフィルや2−
クロロ−2−メチル−3−フェニルプロパン等のハロゲ
ン化炭化水素をベンゼン及び−酸化炭素と反応させて、
2.2−ジメチル−1−インダノンのようなβ−ジ置換
−α−インダノンを得ている。
クロロ−2−メチル−3−フェニルプロパン等のハロゲ
ン化炭化水素をベンゼン及び−酸化炭素と反応させて、
2.2−ジメチル−1−インダノンのようなβ−ジ置換
−α−インダノンを得ている。
1974年3月13日付けで取得したコバヤシらによる
特公昭49−10949号明細書(C,A、 82:1
25165g)は。
特公昭49−10949号明細書(C,A、 82:1
25165g)は。
塩化アルミニウム等のフリーデル−クラフッ触媒の存在
下にて、l、2−エポキシド(例えばイソブチレンオキ
シド)、−酸化炭素、及びベンゼンを反応させて2,2
−ジメチル−1−インダノン等のインダノン類を生成さ
せている。
下にて、l、2−エポキシド(例えばイソブチレンオキ
シド)、−酸化炭素、及びベンゼンを反応させて2,2
−ジメチル−1−インダノン等のインダノン類を生成さ
せている。
ワーリング(Ilarrick) らによるmJ
Am Chem鋭虹、 1.4095−4100(1
962)’は、無水11Fにより2.2−ジメチル−3
−フェニルプロピオン酸を環化して2.2−ジメチル−
1−インダノンを得ることを開示している。
Am Chem鋭虹、 1.4095−4100(1
962)’は、無水11Fにより2.2−ジメチル−3
−フェニルプロピオン酸を環化して2.2−ジメチル−
1−インダノンを得ることを開示している。
1980年2月27日付は提出の特開昭55−2714
7号明細書は、フッ化水素触媒の存在下にて、アリール
置換アルコール〔例えば1− (4’−イソブチルフェ
ニル)エタノール(IBPE) ]を−酸化炭素及び水
と反応させることによる。アリール置換カルボン酸(例
えばイブプロフェン)の形成について開示している。さ
らに、対応するケトンを還元することによるアリール置
換アルコールの合成についても一般的に開示されている
。
7号明細書は、フッ化水素触媒の存在下にて、アリール
置換アルコール〔例えば1− (4’−イソブチルフェ
ニル)エタノール(IBPE) ]を−酸化炭素及び水
と反応させることによる。アリール置換カルボン酸(例
えばイブプロフェン)の形成について開示している。さ
らに、対応するケトンを還元することによるアリール置
換アルコールの合成についても一般的に開示されている
。
1985年9月15日付は取得のチェコスロヴアキア特
許第C5219,752号明細書は、水素化リチウムア
ルミニウムを還元剤として使用して4−インブチルアセ
トフェノン(IBAP)をIBPHに還元する工程を含
んでなる。イソブチルベンゼンからイブプロフェンを製
造するプロセスについて開示している。
許第C5219,752号明細書は、水素化リチウムア
ルミニウムを還元剤として使用して4−インブチルアセ
トフェノン(IBAP)をIBPHに還元する工程を含
んでなる。イソブチルベンゼンからイブプロフェンを製
造するプロセスについて開示している。
ナイチンゲール(Nightingale)らによる″
ム虹し工hム、■、 1089−1093(1949)
”は、その1090ページにおいて、 n−ブチロフェ
ノン、4−メチル−n−ブチロフェノン、及び2.4−
ジメチル−n−ブチロフェノン等を含む種々の芳香族ケ
トンを水素化して対応するカルビノールを得ること。
ム虹し工hム、■、 1089−1093(1949)
”は、その1090ページにおいて、 n−ブチロフェ
ノン、4−メチル−n−ブチロフェノン、及び2.4−
ジメチル−n−ブチロフェノン等を含む種々の芳香族ケ
トンを水素化して対応するカルビノールを得ること。
について開示している。
本発明によれば、フェニル基上の任意の置換基がヒドロ
キシ又はオルガノであって、対応した(ジオルガノ置換
メチル)フェニル(又は置換フェニル)カルビノールで
あるアルコールを、ルイス酸触媒の存在下で一酸化炭素
と反応させることによって、2.2−ジオルガノ−1−
インダノンが得られる。
キシ又はオルガノであって、対応した(ジオルガノ置換
メチル)フェニル(又は置換フェニル)カルビノールで
あるアルコールを、ルイス酸触媒の存在下で一酸化炭素
と反応させることによって、2.2−ジオルガノ−1−
インダノンが得られる。
本発明による反応は次の式
に従って行われ、このとき
Rは同−又は異なるオルガノ基であって、好ましくは1
−18個(さらに好ましくは1〜4個)の炭素原子を有
するアルキル、又はアリール(さらに好ましくは非置換
のフェニルもしくはナフチル(すなわち、全ての環上炭
素原子が水素原子と結合している)、又は少なくとも1
つの環上炭素原子が後記において規定する水素以外のX
基に結合したフェニルもしくはナフチル〕であり;そし
てXは同−又は異なり、水素、ヒドロキシ 4+。
−18個(さらに好ましくは1〜4個)の炭素原子を有
するアルキル、又はアリール(さらに好ましくは非置換
のフェニルもしくはナフチル(すなわち、全ての環上炭
素原子が水素原子と結合している)、又は少なくとも1
つの環上炭素原子が後記において規定する水素以外のX
基に結合したフェニルもしくはナフチル〕であり;そし
てXは同−又は異なり、水素、ヒドロキシ 4+。
−OR’、 −N(RI)富、又は−5R’ (式中
、RIはオルガノ基であり、好ましくは1〜18個(さ
らに好ましくは1〜4個)の炭素原子を存するアルキル
基、又はアリール基(好ましくはフェニルもしくはナフ
チル)である)である、上記の式において示されている
ように1本発明の方法のアルコール出発原料におけるカ
ルビノール炭素原子に結合した環炭素原子に隣接したベ
ンゼン環の炭素原子は、インダノンが形成されるために
は水素原子に結合していなければならない、さらに、上
記式において示されているベンゼン環はナフタレン環で
あってもよく、前述したように“X”置換基はあっても
なくてもよい、アルコール出発化合物は2−メチル−1
−フェニル−1−プロパツールが最も好ましくく、この
場合生成物は2.2−ジメチル−1−インダノンである
。
、RIはオルガノ基であり、好ましくは1〜18個(さ
らに好ましくは1〜4個)の炭素原子を存するアルキル
基、又はアリール基(好ましくはフェニルもしくはナフ
チル)である)である、上記の式において示されている
ように1本発明の方法のアルコール出発原料におけるカ
ルビノール炭素原子に結合した環炭素原子に隣接したベ
ンゼン環の炭素原子は、インダノンが形成されるために
は水素原子に結合していなければならない、さらに、上
記式において示されているベンゼン環はナフタレン環で
あってもよく、前述したように“X”置換基はあっても
なくてもよい、アルコール出発化合物は2−メチル−1
−フェニル−1−プロパツールが最も好ましくく、この
場合生成物は2.2−ジメチル−1−インダノンである
。
本発明の方法において触媒として使用されるルイス酸は
1例えば、フッ化水素、ポリリン酸。
1例えば、フッ化水素、ポリリン酸。
フン化水素と三フフ化ホウ素の混合物、又は塩化アルミ
ニウムと塩化ナトリウムの混合物等である。
ニウムと塩化ナトリウムの混合物等である。
好ましい触媒はフッ化水素である。
反応を起こさせるときには、原料アルコール。
−酸化炭素、及び触媒を耐蝕性の反応器中に仕込み1木
理合物の温度を1例えば約−50°C〜225°C(好
ましくは約0°C〜175°C)に、−酸化炭素の圧力
を約1100−4000psi (好ましくは約400
〜2000ps Ig)に1例えば約0.1〜24時間
(好ましくは約1〜6時間)保持する。
理合物の温度を1例えば約−50°C〜225°C(好
ましくは約0°C〜175°C)に、−酸化炭素の圧力
を約1100−4000psi (好ましくは約400
〜2000ps Ig)に1例えば約0.1〜24時間
(好ましくは約1〜6時間)保持する。
HFを触媒として使用する場合、触媒は、当接術者によ
く知られている処理技術を利用して、液体としてもある
いは気体としても仕込むことができる0反応を実施する
場合には、窒素のような不活性ガスを使用して、充分な
HPを反応液体と接触した状態に保持することができる
。一般には、過剰のHPが使用され9例えば1反応ゾー
ン中に最初に存在する原料アルコールの1モル当たす、
約10〜100モル(好ましくは約25〜約75モル)
使用される。
く知られている処理技術を利用して、液体としてもある
いは気体としても仕込むことができる0反応を実施する
場合には、窒素のような不活性ガスを使用して、充分な
HPを反応液体と接触した状態に保持することができる
。一般には、過剰のHPが使用され9例えば1反応ゾー
ン中に最初に存在する原料アルコールの1モル当たす、
約10〜100モル(好ましくは約25〜約75モル)
使用される。
本反応は、溶媒の存在下でも行うことができる。
しかしながら2例えばn−ヘキサンやn−オクタン等の
、約5〜12個の炭素原子を有するアルカンを使用する
のが好ましい0本発明の方法に使用することのできる他
の適切な溶媒としては、水+CI−C,CルーC。、塩
素化炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、エステル、
及びジメチルスルホキシドのような非プロトン性溶媒等
がある。溶媒を使用する場合、溶媒対原料アルコールの
重量比を約1:20 、好ましくは約2:10とする。
、約5〜12個の炭素原子を有するアルカンを使用する
のが好ましい0本発明の方法に使用することのできる他
の適切な溶媒としては、水+CI−C,CルーC。、塩
素化炭化水素、芳香族炭化水素、エーテル、エステル、
及びジメチルスルホキシドのような非プロトン性溶媒等
がある。溶媒を使用する場合、溶媒対原料アルコールの
重量比を約1:20 、好ましくは約2:10とする。
本発明の方法に従って2.2−ジオルガノ−1−インダ
ノンを製造するのに使用される原料アルコールは1種々
ある方法のいずれによっても得ることができる。しかし
ながら、1−インダノン生成物を得るためのカルボニル
化反応を、水素化触媒の存在下にて、有効水素を含有し
た還元剤又は水素ガスを使用して対応する(ジオルガノ
置換メチル)フェニル(又は置換フェニル)ケトンを還
元することによる原料アルコールの製造と統合させるの
が好ましい、還元反応は下記の式に示すように進行し、
このとき“(H〕”は、水素含有還元剤(例えば、ホウ
水素化ナトリウムや水素化アルミニウムリチウム)中の
水素、又は水素化触媒の存在下での水素ガスを表わして
いる。
ノンを製造するのに使用される原料アルコールは1種々
ある方法のいずれによっても得ることができる。しかし
ながら、1−インダノン生成物を得るためのカルボニル
化反応を、水素化触媒の存在下にて、有効水素を含有し
た還元剤又は水素ガスを使用して対応する(ジオルガノ
置換メチル)フェニル(又は置換フェニル)ケトンを還
元することによる原料アルコールの製造と統合させるの
が好ましい、還元反応は下記の式に示すように進行し、
このとき“(H〕”は、水素含有還元剤(例えば、ホウ
水素化ナトリウムや水素化アルミニウムリチウム)中の
水素、又は水素化触媒の存在下での水素ガスを表わして
いる。
上記式において示されている還元反応は9例えハ、1亥
ケトンをアルコール エタノール、 t−ブタノール等)又はエーテル(例え
ばテトラヒドロフランやジエチルエーテル等)中に溶解
して得た溶液を冷却しておき,これに有効水素を含有し
た還元剤(例えば、ホウ水素化ナトリウム9ホウ水素化
カリウム、水素化アルミニウムリチウム等)を徐々に加
えることによって行うことができる.次いで本溶液を加
温して室温にし,例えば約0.5〜3.0時間加熱還流
する。
ケトンをアルコール エタノール、 t−ブタノール等)又はエーテル(例え
ばテトラヒドロフランやジエチルエーテル等)中に溶解
して得た溶液を冷却しておき,これに有効水素を含有し
た還元剤(例えば、ホウ水素化ナトリウム9ホウ水素化
カリウム、水素化アルミニウムリチウム等)を徐々に加
えることによって行うことができる.次いで本溶液を加
温して室温にし,例えば約0.5〜3.0時間加熱還流
する。
次に.反応混合物を水と混合し.水不溶性の有機溶媒(
例えば塩化メチレン)を使用して生成物を抽出する.本
溶液をデカントし,硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥
し,そしてロータリー・エバポレーター中で濃縮して所
望の原料アルコールを得る。
例えば塩化メチレン)を使用して生成物を抽出する.本
溶液をデカントし,硫酸マグネシウム等の脱水剤で乾燥
し,そしてロータリー・エバポレーター中で濃縮して所
望の原料アルコールを得る。
これとは別に,上記式において示されている水素化又は
還元は,例えば、適切な溶媒中に溶解したケトンを水素
の存在下にて水素化触媒と接触させることによって行う
こともできる.溶媒としては例えば、メタノール、エタ
ノール、t−ブタノール、水性アルコール、トルエン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は1。4−
ジオキサン等がある.水素化触媒としては例えば、遷移
金属又はこうした遷移金属の還元塩を適切な担体に担持
させたものがある.好ましい遷移金属は,ニッケル(例
えばラネーニッケル)や貴金属(例えばパラジウム、白
金,ロジウム、イリジウム、ルテニウム、及びオスミウ
ム等)であり、適切な担体は,例えば炭素.アルミナ、
シリカ、及びボリーマ樹脂等である.金属対担体の重量
比で表わした担体上の金属濃度範囲は.例えば約blo
o〜l:2(好ましくは約1;50〜1:10)であり
、また触媒系対ケトンの重量比の範囲は1例えば約1
: 500〜1:2(好ましくは約1=30〜1:5)
である0反応を実施する場合、水素の圧力は1例えば約
10〜1200psig(好ましくは約50〜300p
sig)の範囲;反応温度は。
還元は,例えば、適切な溶媒中に溶解したケトンを水素
の存在下にて水素化触媒と接触させることによって行う
こともできる.溶媒としては例えば、メタノール、エタ
ノール、t−ブタノール、水性アルコール、トルエン、
ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、又は1。4−
ジオキサン等がある.水素化触媒としては例えば、遷移
金属又はこうした遷移金属の還元塩を適切な担体に担持
させたものがある.好ましい遷移金属は,ニッケル(例
えばラネーニッケル)や貴金属(例えばパラジウム、白
金,ロジウム、イリジウム、ルテニウム、及びオスミウ
ム等)であり、適切な担体は,例えば炭素.アルミナ、
シリカ、及びボリーマ樹脂等である.金属対担体の重量
比で表わした担体上の金属濃度範囲は.例えば約blo
o〜l:2(好ましくは約1;50〜1:10)であり
、また触媒系対ケトンの重量比の範囲は1例えば約1
: 500〜1:2(好ましくは約1=30〜1:5)
である0反応を実施する場合、水素の圧力は1例えば約
10〜1200psig(好ましくは約50〜300p
sig)の範囲;反応温度は。
例えば約10〜150℃(好ましくは約20〜80℃)
の範囲:そして反応時間は1例えば約0.25〜10.
0時間(好ましくは約1.0〜4.0時間)の範囲であ
る。
の範囲:そして反応時間は1例えば約0.25〜10.
0時間(好ましくは約1.0〜4.0時間)の範囲であ
る。
ある条件下においては、水素化分解を防止するために、
塩基を加えること又は反応器を塩基で不動状化すること
が望ましい場合がある。
塩基を加えること又は反応器を塩基で不動状化すること
が望ましい場合がある。
所望の原料アルコールを前述したような還元によって得
るのに使用されるケトンは、当業界に公知の種々の方法
によって得ることができ石0例えば、所望の1fta基
を含んだベンゼン環からなる芳香族化合物(但し、ケト
炭素原子に結合するのが望ましい環炭素原子には最初は
水素が結合している)を、当業界によ(知られている反
応条件を使用し、フリーデル−クラフッ触媒(例えば、
フッ化水素や塩化アルミニウム)を使用して、カルボニ
ル炭素に所望の基が結合した適切なアシル化剤(例えば
酸塩化物、酸フン化物、又は酸無水物)とフリーデル−
クラフッ反応にて反応させることができる。
るのに使用されるケトンは、当業界に公知の種々の方法
によって得ることができ石0例えば、所望の1fta基
を含んだベンゼン環からなる芳香族化合物(但し、ケト
炭素原子に結合するのが望ましい環炭素原子には最初は
水素が結合している)を、当業界によ(知られている反
応条件を使用し、フリーデル−クラフッ触媒(例えば、
フッ化水素や塩化アルミニウム)を使用して、カルボニ
ル炭素に所望の基が結合した適切なアシル化剤(例えば
酸塩化物、酸フン化物、又は酸無水物)とフリーデル−
クラフッ反応にて反応させることができる。
ベンゼン環上にアルコキシ置換基を有するl−インダノ
ンを製造するには、ベンゼン環炭素原子に結合した対応
するヒドロキシル基を有する芳香族ケトンを、第四アン
モニウム塩のような適切な触媒を使用してアルキル化剤
(例えば硫酸ジアルキル)によりアルキル化すればよい
、こうして得られたアルコキシ置換基含有芳香族ケトン
を還元して対応するアルコールを形成させ2次いでこれ
をカルボニル化して、前述したように1−インダノンを
形成させることができる。
ンを製造するには、ベンゼン環炭素原子に結合した対応
するヒドロキシル基を有する芳香族ケトンを、第四アン
モニウム塩のような適切な触媒を使用してアルキル化剤
(例えば硫酸ジアルキル)によりアルキル化すればよい
、こうして得られたアルコキシ置換基含有芳香族ケトン
を還元して対応するアルコールを形成させ2次いでこれ
をカルボニル化して、前述したように1−インダノンを
形成させることができる。
以下に実施例を挙げて9本発明をさらに詳細に説明する
。
。
実11に
本実施例では、イソブチロフェノンから出発したときの
2.2−ジメチル−1−インダノンの製造について説明
する。
2.2−ジメチル−1−インダノンの製造について説明
する。
インブチロフェノン(50g、 0.34gg)をエタ
ノール(150s+1)中に溶解して得た溶液に、ホウ
水素化ナトリウム(6,5g、 0.17eg)を、窒
素雰囲気下において2時間かけて少量ずつ加えた0反応
混合物を室温で2時間撹拌した。減圧にてエタノールを
除去した0反応混合物を水(100+sl)に加え、塩
化メチレン(3×100ml)で抽出した。有機抽出物
を捕集し、乾燥しく無水Mg5O,)、 ソL rlt
l L72−メチル−1−フェニル−1−プロパツール
を得た(48g、収率94%): 沸点0.1mmニr
62°Ci ’H−IJMR(CDCIり 0.75(
d、 J、7.3)1)、 0.96(d、 J=7.
31()1.98(m、 IH)、 2.90(b
s、 18)、 4.25(d、 J−7,11
1)。
ノール(150s+1)中に溶解して得た溶液に、ホウ
水素化ナトリウム(6,5g、 0.17eg)を、窒
素雰囲気下において2時間かけて少量ずつ加えた0反応
混合物を室温で2時間撹拌した。減圧にてエタノールを
除去した0反応混合物を水(100+sl)に加え、塩
化メチレン(3×100ml)で抽出した。有機抽出物
を捕集し、乾燥しく無水Mg5O,)、 ソL rlt
l L72−メチル−1−フェニル−1−プロパツール
を得た(48g、収率94%): 沸点0.1mmニr
62°Ci ’H−IJMR(CDCIり 0.75(
d、 J、7.3)1)、 0.96(d、 J=7.
31()1.98(m、 IH)、 2.90(b
s、 18)、 4.25(d、 J−7,11
1)。
及び7.31(s、 5H) 。
300cc容量のハステロイCオートクレーブ(Has
telloy Cautoclave)中に、2−メチ
ル−1−フェニル−1−プロパツール(7,5g、 0
.05モル)。
telloy Cautoclave)中に、2−メチ
ル−1−フェニル−1−プロパツール(7,5g、 0
.05モル)。
水(3,8g+ 0.21モル)及びヘキサン(32g
)を仕込んだ、オートクレーブに窒素をパージし+ 5
0psigに脱気し、そして−30°Cに冷却した。フ
ッ化水素(75,0g、 3.25モル)を加え、−酸
化炭素により反応器を600psigに加圧し、so’
cに加熱し、そして3時間撹拌した。フッ化水素を排気
し、内容物を取り出して砕氷上に注ぎ込んだ、pHを調
節して6.0〜6.5になるまで1本部合物に45%水
酸化カリウム水溶液を加えた0木理合物を酢酸エチル(
3×100m1)で抽出した。有機抽出物を合わせて乾
燥しく無水硫酸マグネシウム)、濾過し、そして濃縮し
て粗製物(7,6g)を得た。この粗製物をGLCによ
り分析した結果、イソブチルベンゼンを3.3%。
)を仕込んだ、オートクレーブに窒素をパージし+ 5
0psigに脱気し、そして−30°Cに冷却した。フ
ッ化水素(75,0g、 3.25モル)を加え、−酸
化炭素により反応器を600psigに加圧し、so’
cに加熱し、そして3時間撹拌した。フッ化水素を排気
し、内容物を取り出して砕氷上に注ぎ込んだ、pHを調
節して6.0〜6.5になるまで1本部合物に45%水
酸化カリウム水溶液を加えた0木理合物を酢酸エチル(
3×100m1)で抽出した。有機抽出物を合わせて乾
燥しく無水硫酸マグネシウム)、濾過し、そして濃縮し
て粗製物(7,6g)を得た。この粗製物をGLCによ
り分析した結果、イソブチルベンゼンを3.3%。
2.2−ジメチル−1−インダノンを63.4%、2−
メチル−1−フェニル−!−プロペンt−13,5%。
メチル−1−フェニル−!−プロペンt−13,5%。
及び未同定生成物を約20%含有していることがわかっ
た。
た。
酢酸エチル/ヘキサン(1:9)混合溶媒を使用し。
放射状クロマトグラフィーにより粗製物の一部(0,5
g)を精製した。主要精製物を捕集しく0.32g)。
g)を精製した。主要精製物を捕集しく0.32g)。
2.2−ジメチル−1−インダノンを以下のように特性
付けたSIRに−ト) 1717.3cm−’: ’H
−NMR(CDCIs) 1.20(s、6H)、2.
95(s、 2H)、7.27−7.74(II、 4
H); MS mHz 160.145(100)、
131.128.117゜115、91.89.65.
63.39 。
付けたSIRに−ト) 1717.3cm−’: ’H
−NMR(CDCIs) 1.20(s、6H)、2.
95(s、 2H)、7.27−7.74(II、 4
H); MS mHz 160.145(100)、
131.128.117゜115、91.89.65.
63.39 。
1尤[
反応温度を30℃にし1反応時間を1.5時間にしたこ
と以外は、実施例1に記載の2−メチル−1−フェニル
−1−プロパツールのカルボニル化ヲ行った。2.2−
ジメチル−1−インダノンの収率は約41%であった。
と以外は、実施例1に記載の2−メチル−1−フェニル
−1−プロパツールのカルボニル化ヲ行った。2.2−
ジメチル−1−インダノンの収率は約41%であった。
ス五〇生1
本実施例では、フェノールとイソ酪酸無水物を出発物質
とした場合の6−メドキシー2.2−ジメチル−1−イ
ンダノンの形成について説明する。
とした場合の6−メドキシー2.2−ジメチル−1−イ
ンダノンの形成について説明する。
フェノール(9,4g、 0.1tlG)とイソ酪酸無
水物<IS、8g、 0.1ts)をハステロイCオー
トクレーブに加え、 60psigの窒素で30分漏れ
がないことをチエツクしてから、−30°Cに冷却した
。無水フッ化水素(80g、 4.0tル)を加え、オ
ートクレーブ内容物を57°Cにて3時間加熱した。窒
素スパージを使用し。
水物<IS、8g、 0.1ts)をハステロイCオー
トクレーブに加え、 60psigの窒素で30分漏れ
がないことをチエツクしてから、−30°Cに冷却した
。無水フッ化水素(80g、 4.0tル)を加え、オ
ートクレーブ内容物を57°Cにて3時間加熱した。窒
素スパージを使用し。
苛性アルカリスクラバーを通してフン化水素を排気した
。オートクレーブ内容物を水中に注ぎ込み。
。オートクレーブ内容物を水中に注ぎ込み。
水酸化カリウムで中和してpH7とし、そして酢酸エチ
ル(300+*l)で抽出した。酢酸エチル溶液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、@圧にて濃縮して粗製の4
−ヒドロキシイソブチロフェノン(16,9g)を得た
。 GLC分析によれば、この粗製物は、 90.3%
のp−異性体と8.5%の0−異性体を含有していた。
ル(300+*l)で抽出した。酢酸エチル溶液を無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、@圧にて濃縮して粗製の4
−ヒドロキシイソブチロフェノン(16,9g)を得た
。 GLC分析によれば、この粗製物は、 90.3%
のp−異性体と8.5%の0−異性体を含有していた。
減圧蒸留によって本粗製物を精製した。
水酸化ナトリウム(6,9g、 0.17モル)を水(
75ml)に溶解し、この溶液に4−ヒドロキシイソブ
チロフェノン(25,1g、 0.15yル)を加えた
。硫酸ジメチル(22,6g、 0.18モル)とヨウ
化テトラブチルアンモニウム(0,55g、 1.5t
a)を加え9反応混合物を3時間加熱還流した0反応混
合物を室温に冷却し、塩化メチレン(3X150+l1
l)で抽出した。有機抽出物を合わせて水(100ml
)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、
そして濃縮して77.4%の純度にて4−メトキシイソ
ブチロフェノン(23,2g。
75ml)に溶解し、この溶液に4−ヒドロキシイソブ
チロフェノン(25,1g、 0.15yル)を加えた
。硫酸ジメチル(22,6g、 0.18モル)とヨウ
化テトラブチルアンモニウム(0,55g、 1.5t
a)を加え9反応混合物を3時間加熱還流した0反応混
合物を室温に冷却し、塩化メチレン(3X150+l1
l)で抽出した。有機抽出物を合わせて水(100ml
)で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、
そして濃縮して77.4%の純度にて4−メトキシイソ
ブチロフェノン(23,2g。
収率65%)を得た。この粗製物を蒸留によって精製し
た(0.05a++wHgにて沸点88〜92°C)。
た(0.05a++wHgにて沸点88〜92°C)。
4−メトキシイソブチロフェノン(14,6g、 0.
082t3)をエタノ−1喧150m1)中に溶解して
得た溶液に、ホウ水素化ナトリウム(2,6g、 0.
069t3)を。
082t3)をエタノ−1喧150m1)中に溶解して
得た溶液に、ホウ水素化ナトリウム(2,6g、 0.
069t3)を。
窒素雰囲気下にて少量ずつ1時間かけて加えた。
反応混合物を室温で2時間撹拌した。減圧にてエタノー
ルを除去した0反応混合物を水(200+*l)に加え
、10%HCI (50ml)で酸性にした0木理合物
を塩化メチレン(3X100ml)で抽出し、有機抽出
物を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濃
縮して90%の純度にて1− (4’−メトキシフェニ
ル)−2−メチル−1−プロパツールt−1f、−(1
2,5g、収率76%)。
ルを除去した0反応混合物を水(200+*l)に加え
、10%HCI (50ml)で酸性にした0木理合物
を塩化メチレン(3X100ml)で抽出し、有機抽出
物を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、そして濃
縮して90%の純度にて1− (4’−メトキシフェニ
ル)−2−メチル−1−プロパツールt−1f、−(1
2,5g、収率76%)。
300cc容量のハステロイCオートクレーブ中に。
1−(4“−メトキシフェニル)−2−メチル−1−プ
ロパツール(5,75g、 0.032u)、水(2,
1g、 0.13モル)、及びヘキサン(32g)を仕
込んだ、オートクレーブに窒素を2回パージし、 20
psjgに脱気し。
ロパツール(5,75g、 0.032u)、水(2,
1g、 0.13モル)、及びヘキサン(32g)を仕
込んだ、オートクレーブに窒素を2回パージし、 20
psjgに脱気し。
そして−20’Cに冷却した。フン化水素(75,0g
。
。
3.25u)を加え、−酸化炭素で反応器を450ps
igに加圧した。内容物を室温で1時間撹拌した。フン
化水素を排気し、内容物を取り出して砕氷中に注ぎ込ん
だ。本混合物に、 I)l(が6.5〜7.0になるま
で45%水酸化カリウム水t8液を加えた。本混合物を
酢酸エチル(3X150a+1)で抽出し2有機抽出物
を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そ
して’alt!して粗製物を得た(5.0g)、この粗
製物をGLCにより分析した結果、4−メトキシイソブ
チルベンゼンを19%、6−メドキシー2.2〜ジメチ
ル−1−インダノンを9%、2.2−ジメチ71/−3
−(4°−メトキシフェニル)−プロパン酸を6%、α
−イソプロピル−4−メトキシベンゼン酢酸を3%、及
び他の未同定生成物を含有していることがわかった。
igに加圧した。内容物を室温で1時間撹拌した。フン
化水素を排気し、内容物を取り出して砕氷中に注ぎ込ん
だ。本混合物に、 I)l(が6.5〜7.0になるま
で45%水酸化カリウム水t8液を加えた。本混合物を
酢酸エチル(3X150a+1)で抽出し2有機抽出物
を合わせて無水硫酸マグネシウムで乾燥し、濾過し、そ
して’alt!して粗製物を得た(5.0g)、この粗
製物をGLCにより分析した結果、4−メトキシイソブ
チルベンゼンを19%、6−メドキシー2.2〜ジメチ
ル−1−インダノンを9%、2.2−ジメチ71/−3
−(4°−メトキシフェニル)−プロパン酸を6%、α
−イソプロピル−4−メトキシベンゼン酢酸を3%、及
び他の未同定生成物を含有していることがわかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、フェニル基上の任意の置換基がヒドロキシ又はオル
ガノであって、対応した(ジオルガノ置換メチル)フェ
ニル(又は置換フェニル)カルビノールであるアルコー
ルを、ルイス酸触媒の存在下で一酸化炭素と反応させる
ことを含む、2,2−ジオルガノ−1−インダノンの製
造法。 2、前記反応が、次の式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Rは同一又は異なり、1〜18個の炭素原子を
有するアルキル、非置換のフェニル、非置換のナフチル
、少なくとも1つの環上炭素原子が後記において規定す
る水素以外のX基に結合したフェニル、又は少なくとも
1つの環上炭素原子が後記において規定する水素以外の
X基に結合したナフチルであり;Xは同一又は異なり、
水素、ヒドロキシ、−R^1、−OR^1、−N(R^
1)_2、又は−SR^1(式中、R^1は同一又は異
なり、1〜18個の炭素原子を有するアルキル基、フェ
ニル、又はナフチルである)である〕に従って行われる
、請求項1記載の製造法。 3、Rが1〜4個の炭素原子を有するアルキルであり、
Xがすべて水素である、請求項2記載の製造法。 4、前記1−インダノンが2,2−ジメチル−1−イン
ダノンであり、前記アルコールが2−メチル−1−フェ
ニル−プロパノールである、請求項3記載の製造法。 5、前記ルイス酸触媒がフッ化水素である、請求項1記
載の製造法。 6、(a)対応した(ジオルガノ置換メチル)フェニル
(又は置換フェニル)ケトンを、水素化触媒の存在下に
て、有効水素を含有した還元剤もしくは水素ガスと反応
させて、対応した(ジオルガノ置換メチル)フェニル(
又は置換フェニル)カルビノールであるアルコールを得
ること;及び (b)フェニル基上の任意の置換基がヒド ロキシ又はオルガノである前記アルコールを、ルイス酸
触媒の存在下で一酸化炭素を反応させること; を含む2,2−ジオルガノ−1−インダノンの製造法。 7、前記ケトンの前記還元及び前記アルコールと一酸化
炭素との前記反応が、それぞれ次の式▲数式、化学式、
表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、Rは同一又は異なり、1〜18個の炭素原子を
有するアルキル、非置換のフエニル、非置換のナフチル
、少なくとも1つの環上炭素原子が後記において規定す
る水素以外のX基に結合したフェニル、又は少なくとも
1つの環上炭素原子が後記において規定する水素以外の
X基に結合したナフチルであり;Xは同一又は異なり、
水素、ヒドロキシ、−R^1、−OR^1、−N(R^
1)_2、又は−SR^1(式中、R^1は同一又は異
なり、1〜18個の炭素原子を有するアルキル基、フェ
ニル、又はナフチルである)である〕に従って行われる
、請求項6記載の製造法。 8、Rが1〜4個の炭素原子を有するアルキルであり、
Xがすべて水素である、請求項7記載の製造法。 9、前記1−インダノンが2,2−ジメチル−1−イン
ダノンであり、前記ケトンがイソブチロフェノンであり
、そして前記アルコールが2−メチル−1−フェニル−
1−プロパノールである、請求項8記載の製造法。 10、前記還元が、有効水素を含有した還元剤の存在下
で行われる、請求項8記載の製造法。 11、前記還元剤がホウ水素化ナトリウムである、請求
項10記載の製造法。 12、前記ルイス酸がフッ化水素である、請求項6記載
の製造法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/417,376 US5012007A (en) | 1989-10-05 | 1989-10-05 | Method for producing 1-indanone derivatives |
US417376 | 1989-10-05 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03130246A true JPH03130246A (ja) | 1991-06-04 |
Family
ID=23653771
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2268287A Pending JPH03130246A (ja) | 1989-10-05 | 1990-10-05 | 1―インダノン誘導体の製造法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5012007A (ja) |
EP (1) | EP0421759B1 (ja) |
JP (1) | JPH03130246A (ja) |
DE (1) | DE69019910T2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532123A (ja) * | 2016-08-15 | 2019-11-07 | ジボダン エス エー | 有機化合物 |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5179229A (en) * | 1992-04-24 | 1993-01-12 | Hoechst Celanese Corporation | Preparation of 2,2-diorgano-3-arylpropionic acids and esters thereof |
DE10210623A1 (de) | 2002-03-11 | 2003-09-25 | Haarmann & Reimer Gmbh | Alkoxy-substituierte Indane und deren Herstellung |
DE102008040736B4 (de) | 2008-07-25 | 2019-03-28 | Symrise Ag | Verfahren zur Herstellung Alkoxy-substituierter 1-Indanone |
CN112853384B (zh) * | 2020-12-31 | 2022-07-12 | 北京工业大学 | 一种卤素离子为电催化剂合成布洛芬中间体的方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3466333A (en) * | 1964-12-10 | 1969-09-09 | Olin Mathieson | Process for preparing beta-disubstituted alpha-indanones |
US3466332A (en) * | 1965-02-11 | 1969-09-09 | Olin Mathieson | Beta-disubstituted alpha-indanones and the process for preparing them from aryl-substituted aliphatic halides |
US3385895A (en) * | 1966-04-01 | 1968-05-28 | Olin Mathieson | Preparation of substituted alphaindanones from halogenated aliphatic ethers |
JPS4910949A (ja) * | 1972-05-30 | 1974-01-30 | ||
JPS5527147A (en) * | 1978-08-16 | 1980-02-27 | Mitsubishi Petrochem Co Ltd | Preparation of carboxylic acid having aryl substituent |
JPS632942A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-07 | Sumikin Chem Co Ltd | アルキル,ホルミルテトラリンの製造方法 |
JPS632943A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-07 | Sumikin Chem Co Ltd | 1−アルキル,4−ホルミルナフタレンの製造方法 |
-
1989
- 1989-10-05 US US07/417,376 patent/US5012007A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-10-03 DE DE69019910T patent/DE69019910T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-10-03 EP EP90310823A patent/EP0421759B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1990-10-05 JP JP2268287A patent/JPH03130246A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019532123A (ja) * | 2016-08-15 | 2019-11-07 | ジボダン エス エー | 有機化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0421759B1 (en) | 1995-06-07 |
DE69019910T2 (de) | 1995-11-16 |
US5012007A (en) | 1991-04-30 |
EP0421759A2 (en) | 1991-04-10 |
EP0421759A3 (en) | 1992-02-26 |
DE69019910D1 (de) | 1995-07-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2012505163A (ja) | 2−アルキル−3−アロイル−5−ニトロ−ベンゾフランの調製方法 | |
PL163884B1 (pl) | Sposób wytwarzania fluoksetyny PL PL PL | |
JPH03130246A (ja) | 1―インダノン誘導体の製造法 | |
EP0348223B1 (en) | Novel process for the preparation of serinol | |
EP0881215B1 (en) | Process for the preparation of 4-methylenepiperidines | |
IE54216B1 (en) | Stereospecific synthesis of 5-phenyl-2s-pentanol | |
JPS6144834A (ja) | 2,2,2‐トリフロロエタノールおよび1,1,1,3,3,3‐ヘキサフロロイソプロピルアルコールの合成方法 | |
US5777170A (en) | Process for the preparation of a naphthylbutanone | |
US4922010A (en) | Processes for preparing 2-substituted propionic acid and derivatives thereof | |
EP1000005B1 (en) | Process for the preparation of 1-(3,4-dimethoxyphenyl)ethanol | |
US4169858A (en) | Process for preparing a ketone | |
JP3396097B2 (ja) | 4−イソプロピルシクロヘキサンカルボン酸エステル誘導体の製法 | |
JP2001335529A (ja) | 2−(1−ヒドロキシアルキル)シクロアルカノンの製造方法 | |
JP2004506628A (ja) | ビタミンeの調製に用いるための中間体 | |
JP2762106B2 (ja) | 3―ヒドロキシピロリジンの製造方法 | |
JP3357147B2 (ja) | 5−フェニルペンタン酸の製造方法 | |
JP3008296B2 (ja) | ジアリールグリコール酸の製造方法 | |
CN118103344A (zh) | 制备酰基衍生物的方法 | |
JPH0742246B2 (ja) | α−(3−(1−フエニルエテニル)フエニル)プロピオン酸及びそのアルキルエステル | |
JPH1135530A (ja) | N−シクロプロピルアニリン類の製造方法 | |
JPH09143104A (ja) | 2,6−ジメチルナフタレンおよび2,7−ジメチルナフタレンの製造方法、ならびにそれらの中間体の製造方法 | |
EP0307751A2 (en) | 3-mono- and 3,5-disubstituted-4-acetoxy and -4-hydroxystyrenes and process for their production | |
JP3234838B2 (ja) | 2,4,5−トリフルオロ−3−ヒドロキシ安息香酸の製造方法 | |
JPH1149722A (ja) | ビフェニル誘導体の製造法 | |
JPH08277256A (ja) | 光学活性な(s)−2−ベンジルオキシカルボニルアミノ−1−(4−メトキシフェニル)エタノール、およびその製造方法 |