JPH03123741A - スチレン重合防止剤 - Google Patents

スチレン重合防止剤

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JPH03123741A
JPH03123741A JP26138089A JP26138089A JPH03123741A JP H03123741 A JPH03123741 A JP H03123741A JP 26138089 A JP26138089 A JP 26138089A JP 26138089 A JP26138089 A JP 26138089A JP H03123741 A JPH03123741 A JP H03123741A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
styrene
polymerization
nitrosophenol
agent
solution
Prior art date
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Pending
Application number
JP26138089A
Other languages
English (en)
Inventor
Norimasa Kobayashi
小林 徳正
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kurita Water Industries Ltd
Original Assignee
Kurita Water Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野〕 本発明は新規なスチレン重合防止剤に関するものである
。さらに詳しくいえば、本発明は、スチレンやエチルベ
ンゼンなどに溶解しやすく、かつ酸素の存在しない条件
下でも浸れたスチレン重合防止効果を有し、スチレン蒸
留工程に添加することにより、スチレンの重合を効果的
に防止しうるスチレン重合防止剤に関するものである。
[従来の技術] スチレンは、ポリスチレン、ABS樹脂、AS樹脂、A
CS樹脂、AES樹脂、AAS樹脂などの合成樹脂やS
BRなどの合成ゴムの単量体として、あるいは各種有機
薬品の原料などとして極めて重要な化合物であることが
知られている。
従来、高純度スチレンの製造方法としては、般にエチル
ベンゼンを脱水素したのち、反応生成物を蒸留して、生
成したスチレンを未反応原料や副生成物から分離、精製
する方法がとられている。
そして、スチレン、置換スチレン、ジビニルベンゼンな
どのスチレン類は、極めて重合しやすい性質を有するこ
とから、前記蒸留工程においては、スチレンの重合物付
着によるラインの閉塞や重合によるスチレンの歩留りの
低下を防止するために、通常重合防止剤の存在下に蒸留
が行われる。
このような重合防止剤としては、これまで種々の化合物
が検討され、実用されてきたが、これらの中で、フェノ
ール類、ニトロフェノール類及びニトロソフェノール類
が代表的なものとして知らンを含有する被蒸留処理流体
に溶解しにくいといれている。
しかしながら、p−tert−ブチルカテコールで代表
されるフェノール類は、酸素が共存せず、しかも高温の
蒸留工程においては、十分な重合防止効果が得られない
という欠点を有し、また、2.4−ジニトロフェノール
で代表すれるニトロフェノール類は一般に重合防止効果
が前記フェノール類より優れているものの、十分な効果
を得るためには、多量の添加が必要であり、その結果人
体に対する毒性や蒸留残渣焼却時の有害ガス生成などの
問題が生じるおそれがある。さらに、この化合物では重
合防止効果に上限があり、それ以上加えても効果が改善
されないという問題もある。
一方、ニトロソフェノール類としては、代表的なものと
して、2−メチル−4−ニトロソフェノールが知られて
おり、このものは極めて優れた重合防止効果を有し、少
量の添加でも良好な効果が得られ、人体に対する毒性の
問題や蒸留残渣焼却時の有害ガス発生の問題も軽減され
るが、メチルう欠点を有している。
このように、従来のスチレン重合防止剤はなんらかの欠
点を有し、必ずしも十分に満足しうるちのではなかった
[発明が解決しようとする課題] 本発明は、このような従来のスチレン重合防止剤が有す
る欠点を克服し、ニトロソフェノール類のもつ優れた重
合防止効果を維持するとともに、スチレンやエチルベン
ゼンに溶解しやすく、蒸留工程への添加が容易で、スチ
レン蒸留工程に添加することにより、スチレンの重合を
効果的に防止しうるスチレン重合防止剤を提供すること
を目的としてなされたものである。
[課題を解決するための手段] 本発明者は、前記の好ましい性質を有するスチレン重合
防止剤を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、水酸基に対
してオルソ位に炭素数2以上のアルキル基を有する置換
p−ニトロソフェノールにより、その目的を達成しうろ
ことを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成する
に至った。
すなわち、本発明は、一般式 %式%() (式中のRは炭素数2以上のアルキル基である)で表さ
れるニトロンフェノール系化合物から成るスチレン重合
防止剤を提供するものである。
以下、本発明の詳細な説明する。
本発明のスチレン重合防止剤として用いられる前記一般
式(I)で表されるニトロソフェノール系化合物におけ
るRは、炭素数2以上のアルキル基であり、直鎖状であ
ってもよいし、分枝鎖を有するものであってもよく、ま
た環状であってもよい。このようなものとしては、エチ
ル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基
、5ec−ブチル基、tert−ブチル基、イソブチル
基、各種ペンチル基、各種ヘキシル基、シクロヘキシル
基、各種ヘプチル基などが挙げられる。
本発明の化合物の場合、Rが炭素数7を超えるアルキル
基となると1分子当たりの効果はほとんど変わらず、分
子量が大きくなる分だけ添加量が多くなるので実用上は
得策でなくなる。従って炭素数2〜7のアルキル基が、
好ましい。
該ニトロソフェノール系化合物の好ましい具体例として
は、2−エチル−4−ニトロソフェノール、2−n−7
’口ピル−4−ニトロソフェノール、2−イソプロピル
−4−ニトロソフェノール、2−n−7’チル−4−ニ
トロソフェノール、2−see−ブチル−4−ニトロン
フェノール、2−tert−ブチル−4−ニトロンフェ
ノール、2−インブチル−4−ニトロンフェノール、2
−ペンチルー4−ニトロソフェノール、2−へキンルー
4−ニトロソフェノール、2−シクロへキシル−4−二
トロンフェノール、2〜(1,1ジメチルプロピル)−
4−二トロンフェノール、2−(2−メチルペンチル)
−4−二トロンフェノール、2−(2−エチルブチル)
−4−ニトロソフェノール、2−(3,3−ジメチルブ
チル)4−ニトロンフェノール、2−n−ヘプチル4−
ニトロソフェノールなどが挙げられる。
これらのニトロソフェノール系化合物は、それぞれ単独
で用いてもよいし、2種以上を組み合わせて用いてもよ
く、また、本発明の目的を損なわない範囲で、所望に応
じ従来公知の重合防止剤、例えばp−tert−ブチル
カテコール、2.4−ジニトロフェノール、2−メチル
−4−二トロンフェノールなどと併用してもよい。
本発明重合防止剤の一般式のRの炭素数が1又はOの場
合はスチレンに対する溶解性が悪く重合防止効果が低下
する。
本発明の重合防止剤を使用するに際しては、例えば粗ス
チレンやエチルベンゼンなどを溶媒とし、濃度1〜10
重量%程度の溶液を調製したのち、従来の重合防止剤と
同様に、各蒸留塔入口に分注してもよいし、最初の蒸留
塔入口にまとめて注入してもよい。注入濃度は蒸留工程
における温度などの条件により異なるが、通常は被処理
液中のスチレンに対し100〜1500ppm程度で十
分である。
本発明の重合防止剤は、スチレン以外にα−メチルスチ
レン、ベンゼン核にハロゲン原子やアルキル基が導入さ
れた置換スチレン、ジビニルベンゼンなどのスチレン類
にも適用できる。
[実施例] 次に、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれらの例によってなんら限定されるものでは
ない。
実施例1 試薬特級スチレンモノマーを水酸化ナトリウム水溶液で
洗浄したのち、脱塩水で洗浄し、酸化バリウムで脱水し
てから、60°Cで減圧蒸留したものを試験用スチレン
として用いた。
このスチレンlOmQを耐熱ガラスびんに入れ、サラに
、2−tert−ブチル−4−ニトロソフェノールを溶
媒のスチレンに溶解して、第1表に示す添加濃度になる
ように加えた。
次に、このびんを、高純度窒素ガスを流しているグロー
ブボックス内に1時間以上置いてから、スチレン液を窒
素ガスで5分間激しくバブリングし、密栓した。次に、
このびんを110°C恒温室中に3時間放置して加熱処
理したのち、冷却し、次いで内容物をメタノール250
酎中に少量ずつ注ぎ重合物を析出させた。この析出物を
1晩放置してから細断したのち、IG4ガラスフィルタ
ーでろ過し、11000で1時間乾燥した。冷却後、秤
量し、計算によって重合率(仕込んだスチレンに対する
ポリマーの生成量を百分率で表す)を求めた。その結果
を第1表に示す。
実施例2 実施例1において、2−tert−ブチル4−ニトロソ
フェノールの代わりに、2−エチル−4−二トロンフェ
ノールを用い、第1表に示す添加濃度になるようにスチ
レンに添加した以外は、実施例1と全く同様に実施した
。その結果を第1表に示す。
実施例3 実施例1において、2−tert−ブチル4−ニトロソ
フェノールの代わりに、2−ヘキシル−4−二トロンフ
ェノールを用い、第1表に示す添加濃度になるようにス
チレンに添加した以外は、実施例1と全く同様に実施し
た。その結果を第1表に示す。
実施例4 実施例1において、2−tert−ブチル−4−ニトロ
ンフェノールの代わりに2−n−へブチル−4−ニトロ
ソフェノールを用い、第1表に示す添加濃度になるよう
にスチレンに添加した以外は、実施例1と全く同様に実
施した。その結果を第1表に示す。
比較例1 実施例1において、2−tert−ブチル−4−ニトロ
ンフェノールの代わりに、p−tert−ブチルカテコ
ールを用い、第1表に示す添加濃度になるようにスチレ
ンに添加した以外は、実施例1と全く同様に実施した。
その結果を第1表に示す。
比較例2 実施例1において、2−tert−プチル−4−ニトロ
ンフェノールの代わりに、2.4−ジニトロフェノール
を用い、第1表に示す添加濃度になるようにスチレンに
添加した以外は、実施例1と全く同様に実施した。その
結果を第1表に示す。
なお、2,4−ジニトロフェノールを溶媒のスチレンに
溶解する際、比較的溶けにくかった。
比較例3 実施例1において、2−tert−ブチル−4−ニトロ
ンフェノールの代わりに、2−メチル−4−ニトロソフ
ェノールを用い、かつ溶媒のスチレンに溶解しにくいの
で、n−ヘキサノールに溶解して第1表に示す添加濃度
になるようにスチレンに添加した以外は、実施例1と同
様に実施した。その結果を第1表に示す。
比較例4 実施例1において、2−tert−ブチル−4−ニトロ
ンフェノールを添加せずに、重合防止剤無添加で、実施
例1と同様に実施した。その結果を第1表に示す。
この表から、本発明の重合防止剤は、公知の重合防止剤
2−メチル−4−ニトロソフェノールよりも優れたスチ
レン重合防止効果を有することが分かる。
〔発明の効果] 本発明の重合防止剤はスチレンやエチルベンゼンなどに
溶解しやすいので、例えばエチルベンゼンの脱水素反応
生成物を蒸留してスチレンを分離精製する際に、該反応
生成物に容易に添加することができ、かつ酸素が存在し
ない条件下でも非常に優れたスチレン重合防止効果を有
することから、該重合防止剤を用いることにより、前記
蒸留工程における汚れ防止とスチレンの歩留り低下防止
を効率的に行うことができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは炭素数2以上のアルキル基である)で表さ
    れるニトロソフェノール系化合物から成るスチレン重合
    防止剤。
JP26138089A 1989-10-05 1989-10-05 スチレン重合防止剤 Pending JPH03123741A (ja)

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