JPH03115282A - 新規な4h―キノリジン―4―オン誘導体 - Google Patents
新規な4h―キノリジン―4―オン誘導体Info
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- JPH03115282A JPH03115282A JP12770289A JP12770289A JPH03115282A JP H03115282 A JPH03115282 A JP H03115282A JP 12770289 A JP12770289 A JP 12770289A JP 12770289 A JP12770289 A JP 12770289A JP H03115282 A JPH03115282 A JP H03115282A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は免疫グロブリンB(以下1gεという)抗体産
生抑制作用を有し、rgHに起因する疾患、例えばある
種の気管支喘息、鼻炎、皮膚炎、過敏症等の治療剤とし
て有用な新規な4H−キノリジン−4−オン誘導体に関
するものである。
生抑制作用を有し、rgHに起因する疾患、例えばある
種の気管支喘息、鼻炎、皮膚炎、過敏症等の治療剤とし
て有用な新規な4H−キノリジン−4−オン誘導体に関
するものである。
従来の技術
免疫グロブリン(以下1gという)は生体の免疫反応を
司るたん白としてよく知られている。近年、この免疫グ
ロブリンクラスの1つであるIgaが種々のアレルギー
性疾患、例えばある種の気管支喘息、鼻炎、皮膚炎、過
敏症等の原因物質であることが明らかになって以来、I
gB抗体産生を抑制する化合物は、それらの疾患の原因
療法的な治療剤として有用であるとしてその出現が嘱望
されている。
司るたん白としてよく知られている。近年、この免疫グ
ロブリンクラスの1つであるIgaが種々のアレルギー
性疾患、例えばある種の気管支喘息、鼻炎、皮膚炎、過
敏症等の原因物質であることが明らかになって以来、I
gB抗体産生を抑制する化合物は、それらの疾患の原因
療法的な治療剤として有用であるとしてその出現が嘱望
されている。
これまで、IgB抗体産生を抑制する化合物としていく
つかの化合物が見出され、報告されている。
つかの化合物が見出され、報告されている。
しかしながら、いずれも免疫前、免疫時あるいは免疫直
後に投与して、免疫応答誘導期でのIgB抗体産生に対
する抑制効果が認められているのみで、その後の長期に
わたる持続的なIgB抗体産生に対する抑制作用につい
ては確認されていない〔日本特許公開公報昭54−13
0516号、同町62−76号等〕。
後に投与して、免疫応答誘導期でのIgB抗体産生に対
する抑制効果が認められているのみで、その後の長期に
わたる持続的なIgB抗体産生に対する抑制作用につい
ては確認されていない〔日本特許公開公報昭54−13
0516号、同町62−76号等〕。
本発明のような4H−キノリジン−4−オン誘導体とし
て、式 で表される化合物が既に知られている〔薬学雑誌89巻
、2号、203〜208ページ(1969年)〕。
て、式 で表される化合物が既に知られている〔薬学雑誌89巻
、2号、203〜208ページ(1969年)〕。
しかしながら、これらの化合物は単に合成上の興味から
合成されたもので、その薬理作用については全く開示さ
れていない。
合成されたもので、その薬理作用については全く開示さ
れていない。
また、式
で表される化合物が抗腫瘍活性を示すことが報告されて
いるが、他の作用、特にIgB抗体産生抑制作用につい
ては全く開示されていない(薬学雑誌97巻、9号、1
039〜1045ページ、1977年)。
いるが、他の作用、特にIgB抗体産生抑制作用につい
ては全く開示されていない(薬学雑誌97巻、9号、1
039〜1045ページ、1977年)。
さらに、一般式
(式中のR11はカルボキシ基、アミド化されたカルボ
キシ基、シアン基、チオカルバモイル基またはテトラゾ
リル基、R17は水素またはアリール基、R12は水素
、ヒドロキシ基、低級アルキル基または低級アルコキシ
基、R13は水素、ヒドロキシ基、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、適当な置換
基を有していてもよいアリール基、アリールチオ基、ア
ロイル基、アル(低級)アルキル基、アレーンスルホニ
ル基、適当な置換基を有していてもよいアリールアミノ
基またはアリールオキシ基をそれぞれ意味し、R12お
よびR1″はキノリジノン環のいかなる位置にも位置す
ることができ、かつ互いに結合して、CH,C)I、C
H2−、−CH=CH−または−CH=CH−CH=C
H−を形成することができる)で表される化合物および
一般式 (式中の1121はカルボキシ基、テトラゾリルカルバ
モイル基またはアミン基を有するトリアゾリルカルバモ
イル基、R22は水素または低級アルコキシ基、R23
は水素、アロイル基、アリール基、カルボキシ基または
保護されたカルボキシ基、R24は水素またはヒドロキ
シ基をそれぞれ意味し、ただし、(i)R23が水素の
場合、R24はヒドロキシ基を、(ii)R”がアリー
ル基の場合、R21はアミノ基を有するトリアゾリル基
を、(iii) R”がアロイル基の場合、R22は
低級アルコキシ基を意味する)で表される化合物が、ラ
ットを用いた水浸拘束ストレス潰瘍実験および受身皮膚
アナフィラキシ−反応に対して抑制作用を有することが
報告されているが、IgB抗体産生に対する抑制作用に
ついては全く開示されていない(日本特許公開公報昭6
0−222482号、同町62−77385号)。
キシ基、シアン基、チオカルバモイル基またはテトラゾ
リル基、R17は水素またはアリール基、R12は水素
、ヒドロキシ基、低級アルキル基または低級アルコキシ
基、R13は水素、ヒドロキシ基、低級アルキル基、低
級アルコキシ基、低級アルケニルオキシ基、適当な置換
基を有していてもよいアリール基、アリールチオ基、ア
ロイル基、アル(低級)アルキル基、アレーンスルホニ
ル基、適当な置換基を有していてもよいアリールアミノ
基またはアリールオキシ基をそれぞれ意味し、R12お
よびR1″はキノリジノン環のいかなる位置にも位置す
ることができ、かつ互いに結合して、CH,C)I、C
H2−、−CH=CH−または−CH=CH−CH=C
H−を形成することができる)で表される化合物および
一般式 (式中の1121はカルボキシ基、テトラゾリルカルバ
モイル基またはアミン基を有するトリアゾリルカルバモ
イル基、R22は水素または低級アルコキシ基、R23
は水素、アロイル基、アリール基、カルボキシ基または
保護されたカルボキシ基、R24は水素またはヒドロキ
シ基をそれぞれ意味し、ただし、(i)R23が水素の
場合、R24はヒドロキシ基を、(ii)R”がアリー
ル基の場合、R21はアミノ基を有するトリアゾリル基
を、(iii) R”がアロイル基の場合、R22は
低級アルコキシ基を意味する)で表される化合物が、ラ
ットを用いた水浸拘束ストレス潰瘍実験および受身皮膚
アナフィラキシ−反応に対して抑制作用を有することが
報告されているが、IgB抗体産生に対する抑制作用に
ついては全く開示されていない(日本特許公開公報昭6
0−222482号、同町62−77385号)。
発明が解決しようとする問題点
IgBはある種の条件下で抗原感作によりその産生が誘
導され、その産生はその後長期にわたり持続することが
マウスを用いた動物実験で確認されている〔イムノロジ
ー(Immunology) 、’ 21巻、11〜1
5ページ、1971年〕。
導され、その産生はその後長期にわたり持続することが
マウスを用いた動物実験で確認されている〔イムノロジ
ー(Immunology) 、’ 21巻、11〜1
5ページ、1971年〕。
臨床上でも、気管支喘息などの疾患患者においては、特
異抗原に対するTgε抗体の持続的産生が認められる例
が多いことが報告されている。
異抗原に対するTgε抗体の持続的産生が認められる例
が多いことが報告されている。
従って、IgBに起因する疾患の治療に用いるIgB抗
体産生抑制剤は免疫応答誘導期でのIgB抗体産生のみ
ならず、その後の持続的なrglE抗体産生をも抑制す
るものでなければならない。
体産生抑制剤は免疫応答誘導期でのIgB抗体産生のみ
ならず、その後の持続的なrglE抗体産生をも抑制す
るものでなければならない。
また、免疫グロブリンクラスの中にはIgEのほかに各
種のグロブリンがあり、これらは生体防禦において重要
な働きをするものがほとんどである。
種のグロブリンがあり、これらは生体防禦において重要
な働きをするものがほとんどである。
例えば、免疫グロブリンの中では最も大量に産生される
免疫グロブリンG(IgG)などが感染防禦において重
要な働きをすることはよく知られている。
免疫グロブリンG(IgG)などが感染防禦において重
要な働きをすることはよく知られている。
IgE抗体がある種の気管支喘息、鼻炎、皮膚炎、過敏
症などのアレルギー性疾患の惹起抗体であることが明ら
かにされて以来、Ig8抗体産生抑制剤に関する研究が
多く行われているが、これまでIgB抗体産生を抑制す
ると報告されている化合物はすべて、免疫前、免疫時あ
るいは免疫直後に投与され、免疫応答誘導期でのIgB
抗体産生を抑制することが確認されているのみで、持続
性のIgB抗体産生に対する抑制作用は確認されていな
い。
症などのアレルギー性疾患の惹起抗体であることが明ら
かにされて以来、Ig8抗体産生抑制剤に関する研究が
多く行われているが、これまでIgB抗体産生を抑制す
ると報告されている化合物はすべて、免疫前、免疫時あ
るいは免疫直後に投与され、免疫応答誘導期でのIgB
抗体産生を抑制することが確認されているのみで、持続
性のIgB抗体産生に対する抑制作用は確認されていな
い。
また、IgB抗体産生に対する抑制作用と他のIg抗体
産生に対する抑制作用との選択性も低いものがほとんど
である。
産生に対する抑制作用との選択性も低いものがほとんど
である。
本発明の目的は、従来の■gE抗体産生抑制剤とは異な
り、感染防禦等に重要なIgG抗体等の産生にはあまり
影響を与えず、しかも持続性のIgB抗体産生に対して
作用する選択的なIgB抗体産生抑制作用を有し、rg
Eに起因する種々の疾患治療剤として有用な新規な4H
−キノリジン−4−オン誘導体を提供することである。
り、感染防禦等に重要なIgG抗体等の産生にはあまり
影響を与えず、しかも持続性のIgB抗体産生に対して
作用する選択的なIgB抗体産生抑制作用を有し、rg
Eに起因する種々の疾患治療剤として有用な新規な4H
−キノリジン−4−オン誘導体を提供することである。
問題点を解決するための手段
本発明者らは選択的IgB抗体産生抑制作用を有し、I
gBに起因する疾患治療剤として有用な化合物を見出す
べく鋭意研究を重ねた結果、ある種の4H−キノリジン
−4−オン誘導体において良好な結果が得られ、その目
的を達成できることを見出し、本発明を成すに至った。
gBに起因する疾患治療剤として有用な化合物を見出す
べく鋭意研究を重ねた結果、ある種の4H−キノリジン
−4−オン誘導体において良好な結果が得られ、その目
的を達成できることを見出し、本発明を成すに至った。
すなわち、本発明は一般式
(式中のRは炭素数1〜6のアルキル基である〉で表さ
れる4H−キノリジン−4−オン透導体を提供するもの
である。
れる4H−キノリジン−4−オン透導体を提供するもの
である。
本発明の一般式(I)で表される化合物は新規化合物で
あり、以下のような方法により製造することができる。
あり、以下のような方法により製造することができる。
すなわち、一般式
(式中のRは前記と同じ意味をもつ)で表される2−ピ
リジル酢酸エステル誘導体と、式で表される化合物とを
反応させ、 一般式 (式中のRは前記と同じ意味をもつ)で表される2−メ
チルチオ−4H〜キノリジン−4−オン誘導体を得、こ
の化合物に、式 で表される化合物を反応させることにより製造すること
ができる。
リジル酢酸エステル誘導体と、式で表される化合物とを
反応させ、 一般式 (式中のRは前記と同じ意味をもつ)で表される2−メ
チルチオ−4H〜キノリジン−4−オン誘導体を得、こ
の化合物に、式 で表される化合物を反応させることにより製造すること
ができる。
本発明の!!!造方決方法発原料として用いられる一般
式(II)の化合物は2−ピリジル酢酸と、一般式 %式%() (式中のRは前記と同じ意味をもつ)で表されるアルコ
ール誘導体とを用い、常法に従い反応することによって
製造することができる〔コンペンジウム オブ オルガ
ニック シンセティック メソッド(Compendi
um of Organic SyntheticMe
thods; [:d、 by I、T、 1larr
’1son and S、HarrisonWiley
−1nterscience New York)第1
巻、272〜279ページ、1971年〕。
式(II)の化合物は2−ピリジル酢酸と、一般式 %式%() (式中のRは前記と同じ意味をもつ)で表されるアルコ
ール誘導体とを用い、常法に従い反応することによって
製造することができる〔コンペンジウム オブ オルガ
ニック シンセティック メソッド(Compendi
um of Organic SyntheticMe
thods; [:d、 by I、T、 1larr
’1son and S、HarrisonWiley
−1nterscience New York)第1
巻、272〜279ページ、1971年〕。
また、もう一方の出発原料として用いられる式(III
)の化合物はシアン酢酸エチル、二硫化炭素ふよびジメ
チル硫酸を用い、文献記載の方法に従って製造すること
ができる〔ヘミッシエ ベリヒテ(Chem、 Bar
、) 、95巻、2861〜2870ページ、1962
年〕。
)の化合物はシアン酢酸エチル、二硫化炭素ふよびジメ
チル硫酸を用い、文献記載の方法に従って製造すること
ができる〔ヘミッシエ ベリヒテ(Chem、 Bar
、) 、95巻、2861〜2870ページ、1962
年〕。
本発明の製造方法を好適に実施するには、一般式(I[
)の化合物とこれと等モルの式(III)の化合物を不
活性溶媒中あるいは無溶媒で、100〜120℃で2〜
10時間反応させ、常法に従って処理して一般式(IV
)の化合物を得る。次いでこれに等モルまたは過剰モル
の一般式(V)の化合物を加え、不活性有機溶媒中ある
いは無溶媒で、室温から140℃で2〜48時間反応さ
せ、常法に従って処理することにより一般式(1)の化
合物を得る。
)の化合物とこれと等モルの式(III)の化合物を不
活性溶媒中あるいは無溶媒で、100〜120℃で2〜
10時間反応させ、常法に従って処理して一般式(IV
)の化合物を得る。次いでこれに等モルまたは過剰モル
の一般式(V)の化合物を加え、不活性有機溶媒中ある
いは無溶媒で、室温から140℃で2〜48時間反応さ
せ、常法に従って処理することにより一般式(1)の化
合物を得る。
本発明の一般式(1)の化合物はジニトロフェニル化し
たアスカリスたん白(DNP−As)に対してアトブチ
イブ セカンダリ−イミューン レスポンス(adop
tive 5econdary immune res
ponse)を示しているBALB/c系マウスの肺細
胞を用いた、試験管内(in vitro)での1g産
生量測定試験〔セルラーイムノロジー(Cellula
r I+++munology) 、58巻、188〜
201 ページ、1981年〕にふいて顕著なrgE抗
体産生抑制作用を示す。
たアスカリスたん白(DNP−As)に対してアトブチ
イブ セカンダリ−イミューン レスポンス(adop
tive 5econdary immune res
ponse)を示しているBALB/c系マウスの肺細
胞を用いた、試験管内(in vitro)での1g産
生量測定試験〔セルラーイムノロジー(Cellula
r I+++munology) 、58巻、188〜
201 ページ、1981年〕にふいて顕著なrgE抗
体産生抑制作用を示す。
本発明の一般式(I)の化合物を実際の治療に用いる場
合、適当な医薬品添加剤、例えば、賦形剤、結合剤、滑
沢剤、崩壊剤、溶解補助剤、安定化剤等を加えて常法に
従い種々の剤型、例えば散剤、錠剤、カプセル剤、シロ
ップ剤、注射剤などを調製し、経口的あるいは非経口的
に投与する。
合、適当な医薬品添加剤、例えば、賦形剤、結合剤、滑
沢剤、崩壊剤、溶解補助剤、安定化剤等を加えて常法に
従い種々の剤型、例えば散剤、錠剤、カプセル剤、シロ
ップ剤、注射剤などを調製し、経口的あるいは非経口的
に投与する。
本発明の一般式(I)の化合物の投与量は対象となる患
者の年令、性別、疾患の度合および治療条件などによっ
て決定される。1日投与量は、経口投与の場合、概ね0
.1〜50 mg / kg 、非経口投与の場合、概
ね0.01〜5mg/kgである。
者の年令、性別、疾患の度合および治療条件などによっ
て決定される。1日投与量は、経口投与の場合、概ね0
.1〜50 mg / kg 、非経口投与の場合、概
ね0.01〜5mg/kgである。
発明の効果
本発明の一般式(I)で表される4H−キノリジン−4
−オン誘導体はDNP−^Sに対してadoptive
secondary immune response
を示しているBALB/c系マウスの肺細胞を用いた1
g産生量測定試験で、10−6〜10−’ g/mj2
の濃度で約40〜90%程度のIgε抗体産生抑制作用
を示す。
−オン誘導体はDNP−^Sに対してadoptive
secondary immune response
を示しているBALB/c系マウスの肺細胞を用いた1
g産生量測定試験で、10−6〜10−’ g/mj2
の濃度で約40〜90%程度のIgε抗体産生抑制作用
を示す。
実施例
本発明の内容を以下の参考例および実施例を用いてさら
に詳細に説明する。なお、各参考例および実施例中の化
合物の融点はすべて未補正である。
に詳細に説明する。なお、各参考例および実施例中の化
合物の融点はすべて未補正である。
参考例 1
2−ピリジル酢酸エチル(1,42g) 、メチル2−
シアノ−3,3−ビスメチルチオアクリラート(1,7
5g)の混合物を120℃で10時間加熱した。反応液
にメタノール(8ml)を加え、析出結晶をろ取、メタ
ノールより再結晶して、3−シアノ−1−エトキシカル
ボニル−2−メチルチオ−4日−キノリジン−4−オン
(1,19g)を淡黄色結晶として得た。
シアノ−3,3−ビスメチルチオアクリラート(1,7
5g)の混合物を120℃で10時間加熱した。反応液
にメタノール(8ml)を加え、析出結晶をろ取、メタ
ノールより再結晶して、3−シアノ−1−エトキシカル
ボニル−2−メチルチオ−4日−キノリジン−4−オン
(1,19g)を淡黄色結晶として得た。
’H−NMR(CDCl2)
δ: 1.44(t、 3H)、 2.76(s、 3
)1)、 4.48(q。
)1)、 4.48(q。
2)1)、 7.30(m、 LH)、 7.80(m
、 2N)、 9.27(d、 IH) 参考例 2 2.5−ビス(ヒドロキシメチル)ピラジン2.5−ジ
メチルピラジン(20,0g) 、N−クロロスクシン
イミド(54,3gL 2.2”−アゾビス(イソブ
チロニトリル) (1,40g)の9=1四塩化炭素−
クロロホルム(185mg)溶液に加熱還流撹拌下、さ
らに2.2°−アゾビス(インブチロニトリル) (1
,40g)を加えた。同温度で1.5時間撹拌した後、
0℃で1時間放置し、さらに4コ1ヘキサン−ジエチル
エーテル(100ml)を加え、同温度で1時間放置し
た。析出した沈澱物をろ別し、4:1ヘキサン−ジエチ
ルエーテル(50rnlX3)により洗浄し、ろ液と洗
液を合わせて減圧下に濃縮して淡黄色シロップ(37,
5g>を得た。これに炭酸水素ナトリウム(31,0g
)の水(370m12)溶液を加え、加熱還流下で2時
間撹拌した。放冷後反応混合物を減圧下に濃縮し、残留
物をシリカゲルフラッシコ力ラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒:クロロホルム/メタノール=5/1)により
精製し、白色結晶の2−ヒドロキシメチル−5−メチル
ピラジン1.13 g(4,9%)および淡黄色結晶の
2.5−ビス(ヒドロキシメチル)ピラジン(127m
g、 0.5%)を得た。
、 2N)、 9.27(d、 IH) 参考例 2 2.5−ビス(ヒドロキシメチル)ピラジン2.5−ジ
メチルピラジン(20,0g) 、N−クロロスクシン
イミド(54,3gL 2.2”−アゾビス(イソブ
チロニトリル) (1,40g)の9=1四塩化炭素−
クロロホルム(185mg)溶液に加熱還流撹拌下、さ
らに2.2°−アゾビス(インブチロニトリル) (1
,40g)を加えた。同温度で1.5時間撹拌した後、
0℃で1時間放置し、さらに4コ1ヘキサン−ジエチル
エーテル(100ml)を加え、同温度で1時間放置し
た。析出した沈澱物をろ別し、4:1ヘキサン−ジエチ
ルエーテル(50rnlX3)により洗浄し、ろ液と洗
液を合わせて減圧下に濃縮して淡黄色シロップ(37,
5g>を得た。これに炭酸水素ナトリウム(31,0g
)の水(370m12)溶液を加え、加熱還流下で2時
間撹拌した。放冷後反応混合物を減圧下に濃縮し、残留
物をシリカゲルフラッシコ力ラムクロマトグラフィー(
溶出溶媒:クロロホルム/メタノール=5/1)により
精製し、白色結晶の2−ヒドロキシメチル−5−メチル
ピラジン1.13 g(4,9%)および淡黄色結晶の
2.5−ビス(ヒドロキシメチル)ピラジン(127m
g、 0.5%)を得た。
H−NMR(CDCI、)
δ: 2J5(bs、 2H)、 4.87(s、 4
)1)、 8.60(s。
)1)、 8.60(s。
2)1)
参考例 3
2−アセトキシメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン
2.5−ビス(ヒドロキシメチル)ピラジン(3,81
g)、トリエチルアミ7 <3.80tn!!、) の
塩化メチレン(27,2mj )溶液に0℃撹拌下、無
水酢酸(2,57mg )を加え、室温で2時間撹拌し
た。反応終了後、反応系を直接濃縮し、得られた茶褐色
シロップをシリカゲルフラッシコ力ラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒:塩化メチレン/ジエチルエーテル=1
:1)により精製し、白色結晶の2,5−ビス(アセト
キシメチル)ピラジン(2,47g。
g)、トリエチルアミ7 <3.80tn!!、) の
塩化メチレン(27,2mj )溶液に0℃撹拌下、無
水酢酸(2,57mg )を加え、室温で2時間撹拌し
た。反応終了後、反応系を直接濃縮し、得られた茶褐色
シロップをシリカゲルフラッシコ力ラムクロマトグラフ
ィー(溶出溶媒:塩化メチレン/ジエチルエーテル=1
:1)により精製し、白色結晶の2,5−ビス(アセト
キシメチル)ピラジン(2,47g。
40.4%)および淡黄色シロップの2−アセトキシメ
チル−5−ヒドロキシメチルピラジン(2,13g+
39.7%)を得た。
チル−5−ヒドロキシメチルピラジン(2,13g+
39.7%)を得た。
’)I−NMR(CDCI、)
δ: 2.1g(s、 3H)、 3.05(bs、
IH)、 4.86(s。
IH)、 4.86(s。
2H)、 5.27(s、 2H)、 8.59(s、
LH)。
LH)。
[63(s、 1N)
参考例 4
2−アミノメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン2−
アセトキシメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン(7
,30g)のクロロホルム(7,30tne)溶液に氷
冷撹拌下、塩化チオニル(7,30mjりを加え、室温
で15分間撹拌した。反応終了後、反応系を直接濃縮し
、得られた残渣を冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水(
100mj2)中に性別し、クロロホルムにより抽出(
50m1x3)L、合わせた有機層を飽和食塩水により
洗浄(30mjり 、無水硫酸ナトリウムで乾燥濃縮し
、赤褐色シロップの2−アセトキシメチル−5−クロロ
メチルピラジン(8,66g、 100%up)を得た
。これにアジ化ナトリウム(9,67g)の2:1アセ
トニトリル−水(135mA)溶液を加熱還流下で2時
間撹拌した。反応終了後、反応系を直接濃縮し、その容
積が173程度となった時点で水(50ml)により希
釈し、クロロホルムより抽出(50−X3)し、合わせ
た有機層を飽和食塩水により洗浄(30rnl)、無水
硫酸ナトリウムで乾燥濃縮し、赤褐色シロップの5−ア
セトキシメチル−2−アジドメチルピラジンを得た。こ
の5−アセトキシメチル−2−アジドメチルピラジンと
10%Pd−C(291mg>のエタノール(30,0
mg )溶液を室温で3気圧水素雰囲気下で1時間撹拌
した。反応終了後、触媒をろ別し、ケーキをエタノール
により洗浄(10m12X3)、合わせたろ液、洗液を
濃縮し、赤橙色シロップの2−アミノメチル−5−ヒド
ロキシメチルピラジン(2,08g、 100%up)
を得た。これに対してクロロホルム−ジエチルエーテル
による再結晶を行い、橙色結晶の2−アミノメチル−5
−ヒドロキシメチルピラジン(1,10g、 73.2
%)を得た。
アセトキシメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン(7
,30g)のクロロホルム(7,30tne)溶液に氷
冷撹拌下、塩化チオニル(7,30mjりを加え、室温
で15分間撹拌した。反応終了後、反応系を直接濃縮し
、得られた残渣を冷却した飽和炭酸水素ナトリウム水(
100mj2)中に性別し、クロロホルムにより抽出(
50m1x3)L、合わせた有機層を飽和食塩水により
洗浄(30mjり 、無水硫酸ナトリウムで乾燥濃縮し
、赤褐色シロップの2−アセトキシメチル−5−クロロ
メチルピラジン(8,66g、 100%up)を得た
。これにアジ化ナトリウム(9,67g)の2:1アセ
トニトリル−水(135mA)溶液を加熱還流下で2時
間撹拌した。反応終了後、反応系を直接濃縮し、その容
積が173程度となった時点で水(50ml)により希
釈し、クロロホルムより抽出(50−X3)し、合わせ
た有機層を飽和食塩水により洗浄(30rnl)、無水
硫酸ナトリウムで乾燥濃縮し、赤褐色シロップの5−ア
セトキシメチル−2−アジドメチルピラジンを得た。こ
の5−アセトキシメチル−2−アジドメチルピラジンと
10%Pd−C(291mg>のエタノール(30,0
mg )溶液を室温で3気圧水素雰囲気下で1時間撹拌
した。反応終了後、触媒をろ別し、ケーキをエタノール
により洗浄(10m12X3)、合わせたろ液、洗液を
濃縮し、赤橙色シロップの2−アミノメチル−5−ヒド
ロキシメチルピラジン(2,08g、 100%up)
を得た。これに対してクロロホルム−ジエチルエーテル
による再結晶を行い、橙色結晶の2−アミノメチル−5
−ヒドロキシメチルピラジン(1,10g、 73.2
%)を得た。
H−NMR(020)
δ: 3.95(s、 2)1)、 4.77(s、
21()、 8.57(s。
21()、 8.57(s。
1)1)、 8.61(s、 IH)
実施例 1
3−シアノ−1−エトキシカルボニル−2−メチルチオ
−4H−キノリジン−4−オン(168mg)と2−ア
ミノメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン(97,1
mg )のアセトニトリル(1,10m4り溶液を80
℃で3時間撹拌した。反応終了後、析出結晶をアセトニ
トリルを用い熱時再結晶し、赤橙色結晶の3−シアノ−
1=エトキシカルボニル−2−(3−ヒドロキシメチル
ピラジニル)メチルアミノ−4H−キノリジン−4−オ
ン(79,9mg、 36.2%)を得た。
−4H−キノリジン−4−オン(168mg)と2−ア
ミノメチル−5−ヒドロキシメチルピラジン(97,1
mg )のアセトニトリル(1,10m4り溶液を80
℃で3時間撹拌した。反応終了後、析出結晶をアセトニ
トリルを用い熱時再結晶し、赤橙色結晶の3−シアノ−
1=エトキシカルボニル−2−(3−ヒドロキシメチル
ピラジニル)メチルアミノ−4H−キノリジン−4−オ
ン(79,9mg、 36.2%)を得た。
’H−NMR(CDCl2)
δ: 1.46(t、 3H)、 3.50(br、
LH)、 4.48(q。
LH)、 4.48(q。
2H)、 4.89(s、 2’H)、
5.3Hd、 2H)、 6.97(t、 1
B)、 7.57(dt、 1)1)、 8.30(
d、 Ift)。
5.3Hd、 2H)、 6.97(t、 1
B)、 7.57(dt、 1)1)、 8.30(
d、 Ift)。
8.66(s、 1N)、 8.68(s、 1)1
)、 9.10(d。
)、 9.10(d。
IH)、 9.61(br、 1)1)IR(KBr)
: 3400.3300.2205. 1700.
1645゜1625 cm−’ 元素分析値’ (C+sH+Js04として)0%
H% N% 計算値 60.15 4.52 18.46実
測値 59.83 4.62 18J6抗体産
生抑制率 濃 度 rgB
1gG10眉/−45% 16%
: 3400.3300.2205. 1700.
1645゜1625 cm−’ 元素分析値’ (C+sH+Js04として)0%
H% N% 計算値 60.15 4.52 18.46実
測値 59.83 4.62 18J6抗体産
生抑制率 濃 度 rgB
1gG10眉/−45% 16%
Claims (2)
- (1)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中のRは炭素数1〜6のアルキル基である)で表さ
れる4H−キノリジン−4−オン誘導体および薬理学的
に許容される塩。 - (2)式 ▲数式、化学式、表等があります▼ で表される特許請求の範囲第1項記載の4H−キノリジ
ン−4−オン誘導体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12770289A JPH085878B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 新規な4h―キノリジン―4―オン誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12770289A JPH085878B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 新規な4h―キノリジン―4―オン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03115282A true JPH03115282A (ja) | 1991-05-16 |
JPH085878B2 JPH085878B2 (ja) | 1996-01-24 |
Family
ID=14966593
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12770289A Expired - Lifetime JPH085878B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | 新規な4h―キノリジン―4―オン誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH085878B2 (ja) |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP12770289A patent/JPH085878B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH085878B2 (ja) | 1996-01-24 |
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