JPH03114733A - コア‐シエルポリマーを含有する組成物を用いる立体像形成法 - Google Patents

コア‐シエルポリマーを含有する組成物を用いる立体像形成法

Info

Publication number
JPH03114733A
JPH03114733A JP2103206A JP10320690A JPH03114733A JP H03114733 A JPH03114733 A JP H03114733A JP 2103206 A JP2103206 A JP 2103206A JP 10320690 A JP10320690 A JP 10320690A JP H03114733 A JPH03114733 A JP H03114733A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
core
layer
shell
radiation
photocurable
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2103206A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH0661850B2 (ja
Inventor
Roxy N Fan
ロクシー・ニー・フアン
Michael Fryd
マイクル・フライド
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
EIDP Inc
Original Assignee
EI Du Pont de Nemours and Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by EI Du Pont de Nemours and Co filed Critical EI Du Pont de Nemours and Co
Publication of JPH03114733A publication Critical patent/JPH03114733A/ja
Publication of JPH0661850B2 publication Critical patent/JPH0661850B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/0037Production of three-dimensional images
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C64/00Additive manufacturing, i.e. manufacturing of three-dimensional [3D] objects by additive deposition, additive agglomeration or additive layering, e.g. by 3D printing, stereolithography or selective laser sintering
    • B29C64/10Processes of additive manufacturing
    • B29C64/106Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material
    • B29C64/124Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified
    • B29C64/129Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask
    • B29C64/135Processes of additive manufacturing using only liquids or viscous materials, e.g. depositing a continuous bead of viscous material using layers of liquid which are selectively solidified characterised by the energy source therefor, e.g. by global irradiation combined with a mask the energy source being concentrated, e.g. scanning lasers or focused light sources
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C9/00Stereo-photographic or similar processes
    • G03C9/08Producing three-dimensional images
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/148Light sensitive titanium compound containing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S430/00Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
    • Y10S430/15Lithographic emulsion

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は光硬化による三次元物体の造形に関し、さらに
詳しくはコアまたはコア−シェルポリマーを含有する光
硬化性組成物を利用しそして良好な保存安定性および照
射中における光硬化の深さを自己制限することを特徴と
する方法に関する。
光硬化による三次元模型製作用造形装置は種々提案され
ている。ヨーロッパ特許臼Vat4250.121号(
Scitex Corporation、 Ltd、+
1987年6月6日付)にはこの技術分野に関するHu
ll等による種々の方法を含む文献が要約されている。
付加的な背景としては、1988年6月21日にFud
imに特許された米国特許第4,752,498号に記
載されているものがある。
これらの方法は固化させようとしている領域あるいは体
積を順次に照射することによって段階的に三次元物体の
立体領域を形成することに関する。種々のマスキング技
術の他に、直接レーザー描画法、すなわち、光硬化性ポ
リマーを3− 所望のパターンに従ってレーザービームで照射し、三次
元模型を一層ずつ重ねていく方法の使用も記載されてい
る。
しかしながら、これらの方法はすべて、ベクトル走査の
利点を、露光状態を一定に保ち、剛性の三次元物体の本
体部を通じて各層毎のすべての硬化部分の最終厚さをほ
ぼ一定にする手段と組合わせて利用する実用的な方法を
認識していない。
さらに、上記従来方法は、方法、装置のパラメータを制
御して実用的かつ有利に利用する特殊な操作範囲内の非
常に重要な相互関係も認識していない。このような操作
範囲としては、材料の光硬化応答性に依存した一定露光
レベルの範囲、光硬化の解像度、深さに依存する最大加
速度でのビームの最短移動距離の範囲ならびに光硬化性
組成物の感光度に依存する最大ビーム強さの範囲がある
たとえば、5citex特許は均一な露光を達成するた
めにホトマスクあるいはマスク走査を使用することを示
唆しているが、ベクトル走査の場合に露光を一定に保つ
ための解決は示唆していない。ホトマスクを使用すると
、時間、費用が過剰にかかるし、マスク走査も以下に示
す多数の理由のためにベクトル走査に比して望ましいも
のではない。すなわち、 造形しようとしている物体が全体積のほんの小さな部分
である場合でも全域を走査する必要がある、 たいていの場合に記憶すべきデータ量ががなり増加する
、 記憶したデータの取り扱いが全体として難しい、 CADベースのベクトル・データをマスク・データに変
換する必要がある。
一方、ベクトル走査の場合には、剛性物体の形状に対応
する領域のみを走査すればよく、記憶すべきデータ量も
少ないし、データもより容易に取り扱うことができ、r
CADベース機の90%を越える機種がベクトル・デー
タを発生、利用している」(Lascrs & 0pt
ronicsの1989年1月第8巻第1号56頁)。
その利点にも関らずレーザー・ベクトル走査がこれまで
広く利用されてこなかった主たる理由は、レーザーのよ
うな現在のたいていの放射線源のために利用できる偏向
装置の光学部材、たとえば鏡の慣性に関する問題を持っ
ているということである。このような偏向装置は性質上
電気機械的であるから、いかなるビーム速度を達成する
際にもそれに伴なう加速度には限界がある。この避ける
ことのできない速度の不均一性は許容できない厚みの変
化を生じさせる。特に、高強度での露光が直前に行われ
ていない層部分の場合には、高いビーム速度を使用する
必要があり、したがって、長い加速時間が必要となり、
これがまた不均一な厚さの原因となる。低強度のレーザ
ーを使用する場合には、固体物体の造形に時間がかかり
ずぎるので、良い結果が得られない。さらに、本発明に
ついての以下の説明で明らかにするように少なくとも前
述の深さ、露光レベルの関係が観察されないかぎりベク
トル走査の有用性はさらに低下する。
立体像形成の分野における関連技術では組成物自体に関
する限り非常に一般的な用語を除いて、特に配慮はなさ
れていない。
即ち、通常使用される組成物には多数の種々の問題が存
在する。その主なものとしては深さ方向へ光硬化が過剰
になり通常それに伴って幅方向への光硬化が不十分とな
りまた厚さが不均一となることである。これらの問題は
剛性物体の片持ち部分または他の部分(この部分は基板
上に直接存在しない)で特にひどくなる。別の=7− 主な問題は沈降による光硬化性組成物の保存安定性に関
する。
従って本発明の目的は光硬化の深さを制限すると同時に
光硬化の幅を増加してそれによりすべての方向において
解像度のバランスがより良く保たれるようにしそして同
時に保存安定性がかなり改良されるようにするために光
硬化性組成物中に適当なコアまたはコアーシェル照射偏
向物質を導入することにより上記の問題を解決すること
にある。以後「コア−シェルポリマー」なる用語は最も
広い意味を有し、また本質的にシェルを含まないコアか
ら構成されるポリマーを包含する。
ヨーロッパ特許出願第250,121号(Scitex
Corp、、 Ltd、)には収縮を減するため照射透
過粒子を含有する固化しうる液体を用いる三次元模型製
作装置が開示されている。
米国特許第4,753,865号(Frydら)には付
加型合しうるエチレン系不飽和モノマー、開始系ポリマ
ー、結合剤およびミクロゲルを含有し、好ましくは結合
剤およびミクロゲルが実質的に単一の相をなすものであ
る固体の光重合性組成物が記載されている。
本発明は光硬化の深さを制限すると同時に光硬化の幅を
増加してそれによりすべての方向において解像度のバラ
ンスがより良く保たれるようにするために照射偏向物質
としてコア−シェルポリマーを含有する光硬化性組成物
を利用することにより活性放射線を好ましくは直接描画
用レーザーによって与えられるようなビーム形態で用い
て一層ずつ三次元に光硬化した立体物体を直接造形する
方法に関する。このようにして形成した一体となった三
次元物体または部材の一体性も大きく改良されている。
ポリマー構造中に含まれるモノマーおよびコア/シェル
比を選択することにより顕著な保存安定性が達成される
本発明は次のとおりに要約することができる。
(a、)光硬化性液体の層を形成させ、(b)活性放射
線に露光することにより光硬化性液体の層の少なくとも
一部を光硬化させ、(c)活性放射線に予め露光した層
の上に光硬化性液体の新しい層を導入しそして (d)活性放射線に露光することにより新しい液体の層
の少なくとも一部を光硬化させる工程からなり、 ここで光硬化性組成物はエチレン系不飽和モノマー 光
開始剤および放射線偏向物質(radiation d
eflecting matter)からなることが必
要であり、そして前記偏向物質はコア/シェル比および
第1屈折率ををするコア−シェルポリマーであり、前記
組成物の残りは第2屈折率を有し、また第1屈折率と第
2屈折率との差の絶対値は0ではなく、さらにコア/シ
ェル重量比が好ましくは2:1またはそれより大きいも
のである前記光硬化性液体組成物の連続層から一体とな
った三次元物体を正確に造形する方法。
好ましくは前記組成物はまた可塑剤を含有し、そしてさ
らにより好ましくは可塑剤は不活性である。
本発明はエチレン系不飽和モノマー、光開始剤および放
射線偏向物質からなる光硬化性組成物を用い、かつ前記
偏向物質は第1屈折率を有し、該組成物の残りは第2屈
折率を有し、また第1屈折率と第2屈折率との差の絶対
値は0ではないものとしかつ活性放射線を好ましくは直
接描画用レーザーによって与えられるようなビーム形態
で用いることによって、−層ずつ三次元に光硬化した立
体物体を直接造形する方法に関する。好ましくは前記組
成物はまた可塑剤を11− 含有する。
前述のように、光硬化による三次元模型製作用造形装置
が多く提供されている。ヨーロッパ特許出願第250,
121号(Scitex Corp、 Ltd、、19
87年6月6日付)にはこの技術分野に関するHull
等による種々の方法を含む文献が要約されている。さら
に従来技術が米国特許第4,752,498号に記載さ
れている。
好ましい態様では本発明を実施するための装置をブロッ
ク図で第1図に図示した。本装置およびその操作を下記
に示す。
第1図に示した活性放射線装置lO好ましくは高出力レ
ーザーを使用して一定の強度を有する活性放射線ビーム
12を供給する。この放射線ビーム12を変調器14に
通過させ、そこでその強度を変調することが出来る。変
調ビーム12′は次いで2枚の鏡20および22を組立
てたベクトルスキャナーのような偏向装置16を通過し
、各鏡は2 それぞれ異なったモータ24および26により別々に駆
動される。
モータ24により駆動されて鏡20が回転することによ
りビームはX方向に偏向され、一方鏡22の回転により
ビームはY方向に偏向され、モしてX方向はY方向に垂
直である。即ち放射線ビーム12″は容器44中の光硬
化性組成物の表面46に存在する所定の部分に向って制
御可能に偏向される。それによって光硬化性組成物40
の表面46に最も近い薄層48が層48の最大厚さに等
しI71深さまで光硬化される。ビームの複合運動はベ
クトル型運動であることが好ましく、ビームはベクトル
方式で運動するかまたは走査されると言われる。電気機
械的な偏向装置16の慣性により、薄層48上でのビー
ム12″の速度も偏向装置16の慣性および電気機械的
特性により制限される。
モータ24および26によるそれぞれ2枚の鏡20およ
び22の偏向は第2コンピユータ制御装置34で制御さ
れ、一方造形中の立体物体の形状に対応する画像データ
は第1コンピユータ制御装置30中に記憶される。
第2コンピユータ制御装置34は変調装置14、偏向装
置16および第1コンピユータ制御装置30と、それぞ
れ制御/フィードバックライン50.54および58を
経由して接続されている。コンピュータ制御装置30中
に記憶されている画像データはコンピュータ制御装置3
4に供給され、処理後モータ24および26を回転させ
、それに応じて鏡20および22を動かしてビームが薄
層48上の所定の位置に向うように偏向させる。
鏡20と22の相互の運動に関する電気的フィードバッ
クは偏向装置によりライン54を経由して第2コンピユ
ータ制御装置34に与えられる。
光硬化性液体の連続層を導入しレーザーのような活性放
射線に露光する方法は一般に2つの方法による。第1の
方法では容器中に液体層めが存在し光硬化性液体を追加
して導入する必要はない。このような場合可動テーブル
またはフロアが液体を支える。まずテーブルまたはフロ
アはその上に存在する光硬化性液体の一部分およびテー
ブルまたはフロアの端部の周辺および/またはその下方
の容器中に存在する液体の部分で上昇される(例えばテ
ーブルは液体が使用される時テーブルの下方に流れるよ
うに存在する)。テーブルより上方の液層部分が露光お
よび光硬化された後、テーブルは降下して光硬化性液体
の別の層が前の層の上面に流れ込み、続いて新しく塗布
された液層上の所定の領域が露光される。必要ならば最
終の三次元物品の形状により、2つ以上の液体層の厚さ
を光硬化することができる。このテーブルまたはフロア
を降下させて露光する操作は所望の三次元物品が形成さ
れるまで継続する。
5− 第2の方法は可動テーブルまたはフロアを使用する必要
はないか、露光ステップの後光硬化性液体の新たな量が
容器中に導入され、前に露光された光硬化した液体と光
硬化性材料との両方を含む層上に新たな液体層を形成さ
せるものである。液体を導入する方法では臨界は存在し
ないが、むしろ連続した液体層を光硬化する能力が存在
する。
第1図では、最初に可動テーブル41は表面46から一
定の短い距離で光硬化性組成物40の中に位置決めされ
、そして薄層48は表面46とテーブル41との間にお
かれる。テーブルの位置決めは配置装置42によりなさ
れるが、その位置は次に第1コンピユータ制御装置30
によりその中に記憶されたデータに従って制御される。
剛性物体の形状の第1層に対応する画像データはコンピ
ュータ制御装置30からコンピュータ制御装置34に供
給され、そこで偏向装置16から得られたフ16 イードバックデータとともに処理され、そしてそれを制
御するため変調装置14に供給され、その結果ビームが
薄層48の所定の位置にベクトル方式で動く場合でも露
光は一定に保たれる。
剛性物体の第1層が完成されると可動テーブル41は第
1コンピユータ制御装置30からの指令によって配置装
置42により短い所定の距離だけ降下される。コンピュ
ータ装置30からの同様の指令に従って層形成装置例え
ばドクターナイフ43は表面46を平滑化の目的で掃引
する。次に同様の操作で剛性物体が完成されるまで第2
、第3およびその次の層を造形する。
上記および以下の説明において、好ましくはビームの形
態、さらに好ましくはレーザービームの形態である活性
放射線はしばしば光と称されるが他のものをも意味する
。これはここに記載された特定の実施例にかんがみて説
明をより明確にするためになされたものであって本発明
の範囲を限定するものではない。しかしながら好ましい
活性放射線は紫外(UV)、可視および赤外(IR)光
を含む光である。これらの3つの波長域の光の中では紫
外線がさらに好ましい。
立体像形成のための光硬化性組成物の配合はその走査が
スペクトル型、ラスク型および他のいかなる型であるか
を問わず所望とする効果と特徴を受は入れるために非常
に重要であり、以下の説明においては特に断らない限り
どの型の走査をも意味する。しかしながら、種々の型の
走査のうちベクトル型が好ましい型の走査である。
立体像形成のための光硬化性組成物は少なくとも1種の
光硬化性上ツマ−またはオリゴマーおよび少なくとも1
種の光開始剤を含有すべきである。本発明の目的にとっ
てモノマーおよびオリゴマーと言う用語は実質的に同じ
意味を有しそれらは相互に交換して使用されることがあ
る。
単独でまたは他のモノマーと組み合わせて使用できる適
当なモノマーとしてはt−ブチルアクリレートおよびメ
タクリレート、1.5−ベンタンジオールジアクリレー
トおよびジメタクリレート、N、、N−ジエチルアミノ
エチルアクリレートおよびメタクリレート、エチレング
リコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1.
4−ブタンジオールジアクリレートおよびジメタクリレ
ート、ジエチレングリコールジアクリレートおよびジメ
タクリレート、ヘキサメチレングリコールジアクリレー
トおよびジメタクリレート、l、3−プロパンジオール
ジアクリレートおよびジメタクリレート、デカメチレン
グリコールジアクリレートおよびジメタクリレート、1
.4−シクロヘキサンジオールジアクリレートおよびジ
メタクリレート、2,2−ジメチロールプロパンジアク
リレートおよびジメタクリ−19= レート、グリセロールジアクリレートおよびジメタクリ
レート、トリプロピレングリコールジアクリレートおよ
びジメタクリレート、グリセロールトリアクリレートお
よびトリメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレートおよびトリメタクリレート、ペンタエリス
リトールトリアクリレートおよびトリメタクリレート、
ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリアクリ
レートおよびトリメタクリレートおよび米国特許第3.
380,831号に開示されたような同様の化合物、2
,2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)−プロパンジアク
リレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートお
よびテトラメタクリレート、2.2−ジ(p−ヒドロキ
シフェニル)−プロパンジメタクリレート、トリエチレ
ングリコールジアクリレート、ポリオキシエチル−2,
2−ジ(p−ヒドロキシフェニル)プロパンジアクリレ
ート のジー(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)エーテル、ビスフェノール−Aのジー(2−メタク
リルオキシエチル)エーテル、ビスフェノール−Aのジ
ー(3−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エ
ーテル、ビスフェノール−Aのジー(2−アクリルオキ
シエチル)エーテル、1.4−ブタンジオールのジー(
3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エー
テル、トリエチレングリコールジメタクリレート、ポリ
オキシプロピルトリメチロールプロパントリアクリレー
ト、ブチレングリコールジアクリレートおよびジメタク
リレート、1.2.4−ブタントリオールトリアクリレ
ートおよびトリメタクリレ−1−12,2,4−トリメ
チル−1,3−ベンタンジオールジアクリレートおよト
リメタクリレート、■−フェニルエチレン1.2−ジメ
タクリレート、ジアリルフマレート、7、チレン、l、
4−ベンゼンジオールジメタクリレート、1.4−ジイ
ソプロペニルベンゼンおよヒl、3.5− )ジイソプ
ロペニルベンゼンが挙ケられる。
分子量が少なくとも300であるエチレン系不飽和化合
物例えばアルキレンまたは炭素数2〜15のアルキレン
グリコールから製造されたポリアルキレングリコールア
クリレートまたは1〜10個のエーテル結合を有するポ
リアルキレンエテルグリコールおよび米国特許第2,9
27,022号に開示された化合物例えば特に端末結合
として存在する場合複数の付加重合しうるエチレン系結
合を有する化合物もまた有用である。特に好ましいモノ
マーとしてはエトキシル化トリメチロールプロパントリ
アクリレート、エチル化ペンタエリスリトールトリアク
リレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペン
タアクリレート、1.10−デカンジオールジメチルア
クリレート、ビスフェノール−Aオリゴマーのジ−(3
−アクリルオキシ−2−ヒドロキシプロピル)エーテル
、ビスフェノール−Aオリゴマーのジー(3−メタクリ
ルオキシ−2−ヒドロキシルアルキル)エーテル、ウレ
タンジアクリレートおよびメタクリレートおよびそのオ
リゴマー コブロラクトンアクリレートおよびメタクリ
レート、プロポキシル化ネオペンチルグリコールジアク
リレートおよびメタクリレートおよびその混合物が挙げ
られる。
本発明において単独でまたは組み合わせて使用される有
用な光開始剤の例は米国特許第2.760,863号に
示されており、ビシナルケトアルドニルアルコール例え
ばベンゾイン、ピバロイン、アクロインエーテル例えば
ベンゾインメチルおよびエチルエーテル、ベンジルジメ
チルケタール;α−メチルベンゾイン、α−アリルベン
ゾイン、σ−フェニルベンゾインヲ含むα−炭化水素−
置換一芳香族アシロイン、1−ヒ3 ドロキシルシクロへキシルフェノールケトン、ジェトキ
シフェノールアセトフェノン、2−メチル−1−(4−
(メチルチオ)フェニル〕2−モルホリノープロパノン
−1が含まれる。
開始剤としては米国特許第2,850,445号、同第
2,875,047号、同第3,097,096号、同
第3.074,974号、同第3,097,097号お
よび同第3.145,104号に開示されている光還元
性染料および還元剤並びに7エナジン、オキサジン、キ
ノン類の染料、ミヒラーケトン、ベンゾフェノン、アク
リルオキシベンゾフェノン、米国特許第3.427,1
61号、同第3.479,185号および同第3.54
9,367号に開示されているようなロイコ染料を含む
水素供与体を有する2、4.5−1−リフェニルイミダ
ゾリルダイマーおよびその混合物を使用できる。
米国特許第4,162,162号に開示されているよう
な増感剤もまた光開始剤とともに有用である。
4 前記の光開始剤または光開始剤系は光硬化性組成物の全
重量に基づてい0.05〜10重量%で存在する。
熱的に不活性であるが185°C以下で活性線光に露光
すると遊離基を生成する適当な他の光開始系としては共
役した炭素環式環系内に二つの環内炭素原子を有する化
合物である置換されたまたは未置換の多核キノン類例え
ば9.10−アントラキノン、2−メチルアントラキノ
ン、2−エチルアントラキノン、2−t−ブチルアント
ラキノン、オクタメチルアントラキノン、■、4−ナフ
トキノン、9.10−フエナントラキノン、ベンズアン
トラセン−7,12−ジオン、2,3−ナフタセン−5
,12−ジオン、2−メチル−1,4−ナフトキノン、
■、4−ジメチル−アントラキノン、2,3−ジメチル
アントラキノン、2−フェニルアントラキノン、2.3
−ジフェニルアントラキノン、レテネキノン、7,8,
9.10−テトラヒドロナフタセン−5,12−ジオン
および1.2,3,4−テトラヒドロペンズアントラセ
ン−7,12−ジオンが挙げられる。また、α−アミノ
芳香族ケトン、トリクロロメチル置換シクロへキサジェ
ノンおよびトリアジンまたは塩素化アセトフェノン誘導
体のようなハロゲン化化合物、第三アミンの存在下での
チオキサントン、およびチタノセンがある。
光硬化の好ましいメカニズムはフリーラジカル重合であ
るが光硬化の他のメカニズムの適用も本発明の範囲内に
ある。前記の他のメカニズムとしてはカチオン重合、ア
ニオン重合、縮重合、付加重合などが挙げられるがこれ
に限定されるわけではない。
他の成分例えば顔料、染料、エキステンダー熱抑制剤、
層間の一般には界面の固着促進剤例えばオルガノシラン
カップリング剤、分散剤、界面活性剤、可塑剤、被覆補
助剤例えばポリエチレンオキシドなどもまた光硬化性組
成物がその本質的な特性を保持する限り該組成物中に存
在させてもよい。
本明細書において、光硬化性組成物と光硬化した組成物
とは明確に区別されるべきである。
前者は未だ照射されていないものを意味し、後者は照射
されてずでに光硬化したものを意味する。
本発明はエチレン系不飽和モノマー、光開始剤および放
射線偏向物質としてのコアまたはコア−シェルポリマー
からなり、該偏向物質は第1屈折率を有し、該組成物の
残りは第2屈折率を有し、また第1屈折率と第2屈折率
との差の絶対値は0ではなく、そしてコア/シェル比が
2:1またはそれより大きい範囲内、より好ましくは2
:1〜7:1および9:1より大きい比を包含する範囲
である光硬化性組成物を用いる立体像形成技術のために
企画されたものである。後者の範囲にはシェルを含有し
ないポリマーが包含される。
組成物が放射線ビームに対して透明である場合は光硬化
の深さは光硬化性の幅よりも相当大きいがこれは主に使
用されるビーム例えばレザービームなどが良好に平行さ
れそして焦束されるからである。組成物の環境中で放射
線に対して透明な不活性粒子状物質を添加すると重合ま
たは一般には光硬化により収縮度が減少しそして単位体
積当たり収縮される活性組成物の量が減じるため感光度
がしばしば増加するというような一定のよく認識された
利点が得られる。
光硬化の深さが大きいという点は基板により支持されて
いる領域内ならば非常に大きな問題という程ではないが
、これは深さが基板の表面上の液体層の厚さにより主に
決定されるからである。しかしながら、液体の厚さが非
常に大きな場合片持ちの支持されていない領域では先便
l 化の深さがもはや基板により制御または限定されないた
めこれは重大な欠陥となる。実際にはこの点が普通の二
次元像形成と立体即ち三次元像形成との間の差を最も顕
著に示す領域である。
これは制御不可能な露光のバラツキがある場合に、特に
重要であり、それにより厚さのバラツキおよび解像度の
低下がもたらされる。従って厚さを制御する方法が必要
とされる。
光硬化の深さの制御が欠ける外にも解像度をどう考察す
るべきかというもう一つの問題がある。非常に限定され
た場合を除き解像度または許容範囲の一部はすべての次
元で比較され得るべきであることが強く望まれている。
上記したような稀な場合を除き最終的な解像度が必ず劣
ったものとみなされるため一方の次元で高い解像度を有
し他方の次元で非常に劣った解像度を有しても大した意
味をなさない。透明な組成物の場合は深さ対幅の比率は
高く、シたがって幅方向の解像度は結果的に深さ方向の
解像度よりも高くなる。実際のところ解像度は寸法に対
して逆比例し、従って深さ対幅の比率が例えば5である
場合、他の因子が積極的な割合を果たさない時には幅の
解像度は深さの解像度より5倍優れている。即ち、透明
度の高い組成物は一般に望ましくないことになる。深さ
対幅の比率の範囲は7:l−1:lが好ましく3:l〜
1:1がより好ましい。
光硬化性組成物の透明度を減少させる即ち換言すれば不
透明度とも呼ばれる光学濃度を増加させるという課題は
むしろ簡単な仕事のように考えられそしてもし感光度お
よび他の重要なパラメータを考慮しなければその通りで
ある。例えば組成物中に照射吸収物質を添加すると幅に
対して相当の影響を及ぼす事なく光硬化の深さが減少す
る。典型的な吸収物質は染料または光開始剤それ自体で
ある。組成物のモノマーおよびオリゴマーもまた程度は
異なるが吸収物質として働く。しかしながら染料または
他の吸収物質を使用する場合、それにより吸収された照
射部分は光硬化を直接促進させるには役立たない。
光硬化の深さを減少させる吸収の手段として光開始剤を
考慮すると、このことが起こるためには光開始剤はある
一定の高い含有量を超える必要があることが理解されよ
う。組成物中の光開始剤の含有量が0から漸増するにつ
れて感光度が増加するが、それと同時に光硬化の最深部
における低い材料不足領域ではフリーラジカルの数の増
加によりポリマーがさらに多く形成するため深さも増加
する。照射開始が過剰量の光開始剤によりかなりの程度
阻止される場合にのみ、光硬化の深さが減少し始める。
しかしながら、光硬化物体の性質が低下し始める。これ
は生成するフリーラジカルの濃度が増加するにつ′(1 れて分子量が減少するためであり、したがって構造用特
性が低下する。同時にフリーラジカルが過剰に存在する
場合それらは互いに結合し始めそして光開始の役目を果
たすことなくエネルギーを吸収する。従って、光開始剤
は限定された方法で光硬化の深さを制御するための手段
として役に立つことができるが、他の望ましくない現象
が同時に発生しこの目−的のためにそれ自体で使用され
る場合その有用性をかなり減少する。
本発明によれば、分散された粒状固体物質の形態でのコ
ア−シェルポリマーの分離相が、深さ7幅関係を制御す
るために、本明細書で照射偏向と称する光の反射、屈折
または散乱またはその何れかの組み合わせを含む所定の
条件下で好ましくは乳化された液体放射線偏向物質およ
び/または可塑剤とともに利用されうる。もし他のすべ
てを一定に保つならば放射線偏向物質の分離相の顔料が
増加するにつれて深さを犠牲にした幅が増加する。放射
線は吸収されるのではなく正に偏向されるので、放射線
はあまり損失しないため感光度は実質的に失われない。
従って、本発明の好ましい態様において利用されうる放
射線偏向物質は光硬化性組成物に不透明度を与えるため
、その環境においても実質上不透明である。
透明性および非透明性(半透明性、不透明度、吸光度)
の現象はそれらが生じる範囲内の環境および条件におい
て検査される場合重要であることに注意する必要がある
。例えば媒体中に分散された粉末は、それが本質的に放
射線を吸収しないだけでなくまた媒体と実質的に同じ屈
折率を有しその結果粉末および媒体の各粒子の界面にお
いてまたはその周囲において光の偏向が生じない場合放
射線に対して透明である。同の粉末が実質的に異なる屈
折率の液体中で分散された場合、それは半透明または不
透明(光の少なくとも1部を遮へいして粉末を含有する
媒体を通して直接に進行する)として現われ、換言すれ
ばそれは不透明として現われる。従って半透明性および
不透明度は通過する光の量に関する吸光度と同様の最終
結果を有しうる。
光硬化性組成物に最適特性を付与する光−偏向物質の量
は下記に示すような多くの因子およびゲインバランス(
balance of gains)の関数でありそし
て特定の状況に応じてその時「最適」と考えられている
ものを構成するようにする。
従って、どのようにして最適特性を達成しうるかを示す
ために絶対数を与えるよう試みることは適切ではない。
当業者が本発明を実施できるようにするためそして彼ら
が所望の結果について最適であると考える一連の特性を
選択するためにこれらの因子を支配する相互関係を示す
ことがよりいっそう的確である。光硬化の深さを少なく
とも10%、より好ましくは少なくとも20%そしてさ
らにより好ましくは少なくとも40%まで減少させるた
めに十分な量の放射線偏向物質が組成物中に存在するの
が好ましい。深さ対幅の比がこのような追加によって増
加しないことも好ましい。何れの場合においても、光偏
向物質の量は与える偏向の程度に応じて5〜70重量%
であってよい。粒子径および屈折率の両方に関してあま
り極端でない場合、組成物中の偏向物質の量は10〜6
0重量%の範囲内にすることが好ましくそして最も好ま
しくは20〜45重量%である。前述したように放射線
偏向物質のような物質は収縮を減少させそして感光度を
増加させるのにも望ましい。
最初に、前述したような光硬化性組成物中における分散
物質の分離相の個々の単位を「粒子」と呼ぶならば、平
均粒径として測定された最大粒度は光硬化の深さ(しか
し必ずしも幅ではない)よりも小さくなるであろう。
はとんど総ての粒子が光硬化の深さよりも小さいばかり
でなく粒子の少なくとも90%が光硬化の深さの半分よ
り小さいのが好ましく、さらに粒子の少なくとも90%
が光硬化の深さの10分の1より小さいのが好ましい。
これらの目的を効果的にするために粒子の大部分がビー
ム照射の波長の約半分より大きいことが好ましい。波長
の約半分では粒子の散乱収率は最大値となり、一方それ
は粒度が小さくなるにつれて急速に減少する。一方、粒
度が照射光の波長の約半分より増加すると散乱収率も除
徐に低下し始める。粒度が更に増加すると、屈折および
反射の現象が優勢になり始める。実際は、すべての粒子
が実質的に同じ大きさを有するという限定された状態だ
けが存在し、これを単分散系と称する。一般に、すべて
のタイプの組合せの活性放射線偏向を与える粒度分布が
存在する。粒子の屈折率が高くなればなる程散乱が高く
なるということも考慮すると、偏向物質の含有量を増減
し、光硬化の深さを制御することにより、実際には任意
の所望の不透明度を達成することができる。偏向物質の
分離相は光硬化性組成物の残りと異なった屈折率を有す
べきである。この2つの屈折率は好ましくは少なくとも
0.01だけ、より好ましくは少なくとも0.02だけ
、そしてさらにより好ましくは少なくとも0.04だけ
異なるべきである。
偏向物質の相の屈折率は上記の限界内にある限り光硬化
性組成物のそれよりも高いことが好ましい。
最初に不透明な組成物が露光後に不透明度が減少したり
またはさらに実質的に透明となる場合がある。この条件
はあまり望ましくなくそして本発明に関して実施可能と
するためにかなり多量の放射線偏向物質を必要とする。
光硬化の深さを所望のレベルまで減少させると、放射線
偏向物質を含まない組成物と偏向物質それ自体との間の
屈折率の差の増加、放射線偏向物質の含有量の増加、 粒度の減少、 活性線照射の結果による屈折率の差の増加が起こる。
本発明によれば、偏向物質の分離相は分散された粒状固
体物質の形態でのコア−シェルポリマーである。好まし
くはこのような固体物質は液体光硬化性組成物中に部分
的に膨潤しうるものであり、そして安定な半透明の分散
液および露光時における厚みの自己制限性を与える。
好マしいコア−シェルポリマーは 総コア量の5〜97重量%を構成するものである一官能
価エチレン系不飽和モノマー;総コア量の2〜70重量
%、好ましくは4〜70重量%そしてさらにより好まし
くは4〜6重量%を構成するものである多官能価エチレ
ン系不飽和モノマーまたはオリゴマー;および総コア量
の1〜25重量%、好ましくは5〜25重量%そしてさ
らにより好ましくは15〜25重景%を置火するもので
あるグラフト部位を有するエチレン系不飽和モノマー からなるコアを有する。
さらにシェルを有するコア−シェルポリマーの好ましい
シェルは一官能価エチレン系不飽和モノマーからなる。
好ましい一官能価エチレン系不飽和モノマーは例えばメ
チル、エチル、プロピル、ブチルおよび2−エチル−ヘ
キシルアクリレートおよびメタクリレートのようなアク
リレートおよびメタクリレート系のもの、スチレンアク
リロニトリルおよびメタクリレートリルである。最も好
ましい多官能価エチレン系不飽和モノマーはブタンジオ
ールジアクリレートであり、それは光9 硬化性組成物の成分としてもまた利用してよい。
グラフト部位を有する最も好ましいエチレン系不飽和モ
ノマーはアリルメタクリレートである。
他のこのようなモノマーは例えばグリシジル、ヒドロキ
シル、カルボキシル、スルホン酸、アミン、イソシアネ
ートなどのグラフト部位を有するものである。グラフト
部位がエチレン性不飽和以外のものである最後の例にお
いて、シェルを製造するために用いられるモノマーはグ
ラフトを与えるため相当する反応部位を有する必要があ
る。グラフトの最終結合はイオン結合または共有結合で
あってよい。
シェルを構成するポリマー鎖の数平均分子量は好ましく
は5,000〜200,000、より好ましくは5.0
00〜50,000そしてさらにより好ましくは1.0
00〜5,000である。
コア/シェル重量比は好ましくは2:J〜7:lまたは
9:lより大きく、より好ましくは3:l〜6:1そし
て最も好ましくはlO:lより大きい。
コア/シェル比が2:1〜7:1または9:lより大き
いという最も好ましい範囲内にあるコア−シェルポリマ
ーを含有する光硬化性組成物はすぐれた保存安定性を有
し、一方7:l〜9:1の範囲内の比を有するポリマー
を含有する組成物はそんなに良好な保存安定性を示さな
い。このことは予想外のことであり、説明をすることが
できない。しかしながら、コア/シェル重量比が少なく
とも2±1またはそれより大きいものであることは本発
明の範囲内である。
コア−シェルポリマーが膨潤性でありそして粘性を上げ
る傾向があるため、不活性液体成分をコア−シェルポリ
マーとともに光硬化性組成物中に加えることが好ましい
この添加はまた光硬化中に生じる収縮の量を減少するの
に手助けとなる。
可塑剤は液体または固体でありそして高分子量であるこ
とができる。
例としてはジエチルフタレート、ジブチルフタレート、
ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、ア
ルキルホスフェート、ポリアルキレングリコール、グリ
セロール、ポリ(エチレンオキシド)、ヒドロキシエチ
ル化アルキルフェノール、トリクレジルホスフェート、
トリエチレングリコールジアセテート、トリエチレング
リコールカプレート−カプリレート、ジオクチルフタレ
ートおよびポリエステル可塑剤が挙げられる。
実施例1に記載の方法により製造されうるコアの代表例
は、 45% ブチルアクリレート 50% ブチレングリコールアクリレート5% アリル
メタクリレート 70% 25% 5% 20% 70% 5% ブチルアクリレート ブチレングリコールアクリレート アリルメタクリレート ブチルアクリレート ブチレングリコールアクリレート アリルメタクリレート 90% ブチルアクリレート 5% ブチレングリコールアクリレート5% アリルメ
タクリレート 70% メチルメタクリレート 25% トリメチロールプロパントリアクリレート5%
 アリルメタクリレート 70% スチレン 25% トリメチロールプロパントリアクリレト アリルメタクリレート 50% スチレン 50% トリメチロールプロパントリアクリレト である。
3 実施例5A〜5Mに示されるコア−シェルポリマーは特
にコア/シェル比が2:l〜7:1および9:1より大
きい範囲内である場合に優れた保存安定性を有する。
第3図において高レベルの露光で曲線が平坦(プラトー
)になることかられかるように、これらのポリマーはま
た光硬化の深さに関して非常に有効な自己制限性を与え
る。対照的に、コア−シェルポリマーおよび可塑剤を含
有しない実施例6の組成物は第2図において直線である
ことかられかるように試験される露光領域における光硬
化の深さに関して自己制限性を有さない。
好ましいコアはそれによりポリマー物質が非架橋ポリマ
ー物質用溶媒中に非膨潤性かつ不溶性となる程度の架橋
を有する架橋ポリマーである。適当な架橋ポリマーは本
明細書に参考文献として引用されるCohenらのUS
P4 、414 、278に開4 示されている。この特許にはまた架橋および膨潤の意味
に関しての適当な開示がなされている。
例えば「架橋された」とは主原子価結合により分解でき
ないほどに結合し、そのため溶媒中に不溶性となる三次
元ポリマー網状構造を意味する。この特許にはさらに適
当な膨潤試験が記載されている。
好ましいシェル物質はペンダントの酸性基を含まない。
光硬化性組成物の例を以下に示すが、これらは例示のた
めだけのものであり本発明の範囲を限定するものではな
い。
組成物における部はすべて重量で与えられる。
実施例 l コア−シェルポリマーは次のようにして製造しlこ。
コア 脱イオン水2388gおよびドデシルスルホン酸ナトリ
ウムの30%水溶液37.5gを機械式撹拌機、凝縮器
、加熱マントル、添加用漏斗、温度計および窒素取入口
を備えた5Qの4ツロフラスコに入れた。フラスコの内
容物を室温下窒素で30分間パージして、次いで80°
Cに加熱した。この温度でブチルアクリレート(BA)
 1046g、アリルメタクリレート(AMA) 27
9gおよび1.4−ブチレングリコールジアクリレート
(BGD) 70gからなるモノマー材料の8分の1を
一度に加えた。続いて直ちにリン酸水素ナトリウムの7
%溶液19mQおよび過硫酸アンモニウムの5%溶液2
0mQ(いずれも水溶液)を−度に加えた。加熱を中止
し、反応混合物の発熱にまかせた。発熱により84°C
のピークとなった時、残りのモノマー材料を90分かけ
て反応温度が80〜85°Cに維持するように断続的に
加熱しながら加えた。千ノマーの添加(全モノマー材料
1345g)が終了した時、反応混合物をさらに2.5
時間80〜85°Cで加熱した。最終生成物は固形分が
35.1%である青みかかった乳化液でありモして粒径
は0.097ミクロンであった。
シェル 上述のコア乳化液2,000gをコアを調製するときに
使用したのと同じ装置を備えた5Qのフラスコに入れた
。フラスコの内容物を窒素により室温で30分間パージ
した。窒素、<−ジの後、過硫酸アンモニウムl−45
g、ドデシル硫酸ナトリウム30%水溶液2.9gおよ
び脱イオン水332gからなる混合物を撹拌しながらフ
ラスコに30分かけて加えた。次いでフラスコの内容物
を85°atこ加熱して、メチルメタクリレート179
gを60分かけて加えた。すべての七ツマ−を加えて、
反応混合物をさらに2時間加熱した。最終生成物1ま固
形分が36.2%である青みがかった乳化液であり47 そして粒径が0.107ミクロンであった。コア/シェ
ル比は実質的に4:lであった。
青みがかった乳化液をフリーザー中に3日間置いて、次
いで解凍し、濾過し、脱イオン水で洗浄し、そして室温
で約3日間乾燥した。試験工場またはプラントバッチの
場合のような大きな試料のために、100〜150°C
の熱風などのスプレードライ方を用いてもよい。
実施例 2 A ロキシプロピル)ジアクリレート) クリレート) レート) アルコ ル) アセトフェノン) 8 コア/シェル比が4:1である    26.0コアー
シエルポリマー(実施例1) 実施例 3A〜3M コア−シェルポリマーは下記のコア組成物およびコア/
シェル比(シェルはメチルメタクリレートである)を有
するということを除いては実施例1のようにして製造し
た。
コア組成 試料  BA  MMA  S  BGD3A  70
 − − 25 3B  70 − − 25 3C70−−25 3D  70 − − 25 3E  45 − − 50 3F  45 − − 50 3G  45 − − 50 38 90 − − 5 31 25 − − 70 3J−45−50 3に−70 3L  −−70 3M  −−50 コア/シェル比 シェルを含まない 4:1 8:1 16:1 シェルを含まない 8:1 16 : 1 16 : 1 シェルを含まない 〃 l/ l/ // *BA=  ブチルアクリレート MMA  =  メチルメタクリレートS =  スチ
レン BGD  −ブチレングリコールジアクリレートTMP
TA−トリメチロールプロパントリアクリレートAMA
  =  アリルメタクリレート実施例 4A〜4M 実施例3A〜3Mに示される組成物を有するコア−シェ
ルポリマーは実施例1に記載の方法にしたがって製造し
た。
実施例 5A〜5M 光硬化性組成物は比較できる粘度を得るため実施例1の
コア−シェルポリマーを少量の実施例4A〜4Mの各コ
ア−シェルポリマーと交換することにより実施例2のよ
うにして製造した。
これらの光硬化性組成物をガラスジャー中に入れそして
沈降性について定期的に試験した。組成物4Cおよび4
Fは1ケ月以内に幾らか沈降し始め、一方残りの試料は
5ケ月後でさえ沈降の徴候がみられなかった。
実施例 6 均質混合物が得られるまでメカニカルミキサーを用いて
以下の成分を混合した。
実施例 7 実施例6に記載の光硬化性組成物部分をステンレス鋼方
形キャビティ(厚さ13 / 、 // x l 3八
“×110ミル)中に注ぎ込んだ。過剰の液体をドクタ
ーナイフブレードにより除去した。液体を上記のアルゴ
ンイオンレーザ−ビームを用いて角形パターン(1’/
、6″Xi’/2″)で露光した。
露光後、固化されたパターンをピンセントでキャビティ
から取出し、次いで吸取って乾燥した。このパターンの
正味重量および厚さを測定しそして異なる露光レベルに
対してプロットした(第2図参照)。
実施例 8 実施例2に記載の光硬化性組成物部分をステンレス鋼方
形キャビティ(厚さ13八″×13/、″×110ミル
)中に注ぎ込んだ。過剰の液体をドクタナイ7ブレード
により除去した。液体を上記のアルゴンイオンレーザ−
ビームを用いて角形パターン(1’/、6″XI’/2
″)で露光した。
露光後、固化されたパターンをピンセントでキャビティ
から取出し、次いで吸取って乾燥した。このパターンの
正味重量および厚さを測定しそして異なる露光レベルに
対してプロットした(第3図参照)。
実施例 9 均質混合物が得られるまでメカニカルミキサl −を用いて以下の成分を混合した。
エトキシル化トリメチロールプロ パントリアクリレート 14.75 レ ト) ジアクリレート 実施例 10 本発明の方法を用いて、三次元物体を実施例9に記載の
組成物の300個の連続層から造形した。波長350〜
360nmのアルゴンイオンレーザ−を放射線源として
用いた。レーザービームの直径は5ミルであった。各層
の厚さはlOミルであつIこ。
以上本発明の詳細な説明したが、本発明はさらに次の実
施態様によってこれを要約して示すことができる。
1)、 (a)光硬化性液体の層を形成させ、(b)活
性放射線に露光することにより光硬化性液体の層の少な
くとも一部を光硬化させ、 (c)活性放射線に予め露光した層の上に光硬化性液体
の液体の新しい層を導入しそして (d)活性放射線に露光することにより新しい液体の層
の少なくとも一部を光硬化性させる工程からなり、 ここで光硬化性組成物はエチレン系不飽和モノマー、光
開始剤および放射線偏向物質からなることが必要であり
、そして前記偏向物質はコア/シェル比および第1屈折
率を有するコア−シェルポリマーであり、前記組成物の
残りは第2屈折率をを有し、また第1屈折率と第2屈折
率との差の絶対値は0ではない、前記光硬化性液体組成
物の連続層から一体となった三次元物体を正確に造形す
る方法。
2)コア/シェル重量比が2:lまたはそれより大きい
ものである前項1記載の方法。
3)コア/シェル重量比が2:l〜7:1および9:1
より大きい範囲内である前項l記載の方法。
4)工程(c)および(d)が連続的に繰り返されるも
のである前項2記載の方法。
5)組成物がさらに可塑剤を含有するものである前項l
記載の方法。
6)第1屈折率と第2屈折率との差の絶対値が0、Ol
より大きいものである前項2記載の方法。
7)活性放射線がビームの形態である前項2記載の方法
5 8) ビームがレーザービームである前項4記載の方法。
9)コアが非架橋ポリマー物質用溶媒中に非膨潤性かつ
不溶性である架橋ポリマーである前項1記載の方法。
10)  コアがペンダントの酸性基を含まないもので
ある前項l記載の方法。
11)  −127がペンダントの酸性基を含まないも
のである前項8記載の方法。
12)  前項11記載の方法により造形した物品。
13)  エチレン系不飽和モノマー、光開始剤および
放射線偏向物質からなり、ここで放射線偏向物質はコア
が非架橋ポリマー用溶媒中に非膨潤性かつ不溶性である
架橋性ポリマーでありそしてシェルがペンダントの酸性
基を含まないものである2:1またはそれより大きいコ
ア/シェル重量比を有するコア−シェルポリマーからな
るものである、光硬化性液体組成物。
【図面の簡単な説明】
第1rgJは本発明の方法の好ましい態様を実施するた
めに用いられる装置のブロック図である。 第2図は透明な光硬化性組成物の場合における光硬化の
深さと露光との間の典型的な関係を示す。 第3図はコア/シェル比が好ましい範囲内であるコア−
シェルポリマーを含有する光硬化性組成物の場合におけ
る光硬化の深さと露光との間の典型的な関係を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1)(a)光硬化性液体の層を形成させ、 (b)活性放射線に露光することにより光硬化性液体の
    層の少なくとも一部を光硬化さ せ、 (c)活性放射線に予め露光した層の上に光硬化性液体
    の液体の新しい層を導入しそし て (d)活性放射線に露光することにより新しい液体の層
    の少なくとも一部を光硬化させる工程からなり、 ここで光硬化性組成物はエチレン系不飽和モノマー、光
    開始剤および放射線偏向物質からなることが必要であり
    、そして前記偏向物質はコア/シェル比および第1屈折
    率を有するコア−シェルポリマーであり、前記組成物の
    残りは第2屈折率を有し、また第1屈折率と第2屈折率
    との差の絶対値は0ではない、前記光硬化性液体組成物
    の連続層から一体となった三次元物体を正確に造形する
    方法。 2)請求項1記載の方法により造形した物品。 3)エチレン系不飽和モノマー、光開始剤および放射線
    偏向物質からなり、ここで放射線偏向物質はコアが非架
    橋ポリマー用溶媒中に非膨潤性かつ不溶性である架橋性
    ポリマーでありそしてシェルがペンダントの酸性基を含
    まないものである2:1またはそれより大きいコア/シ
    ェル重量比を有するコア−シェルポリマーからなるもの
    である、光硬化性液体組成物。
JP2103206A 1989-04-21 1990-04-20 コア‐シエルポリマーを含有する組成物を用いる立体像形成法 Expired - Lifetime JPH0661850B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/341,347 US5002854A (en) 1989-04-21 1989-04-21 Solid imaging method using compositions containing core-shell polymers
US341347 1989-04-21

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH03114733A true JPH03114733A (ja) 1991-05-15
JPH0661850B2 JPH0661850B2 (ja) 1994-08-17

Family

ID=23337164

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2103206A Expired - Lifetime JPH0661850B2 (ja) 1989-04-21 1990-04-20 コア‐シエルポリマーを含有する組成物を用いる立体像形成法

Country Status (8)

Country Link
US (1) US5002854A (ja)
EP (1) EP0403758B1 (ja)
JP (1) JPH0661850B2 (ja)
KR (1) KR900016804A (ja)
CN (1) CN1048935A (ja)
AU (1) AU633557B2 (ja)
CA (1) CA2014809A1 (ja)
DE (1) DE69020649T2 (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5849459A (en) * 1994-11-29 1998-12-15 Teijin Seiki Co., Ltd. Resin composition for stereolithography
US6017973A (en) * 1996-05-16 2000-01-25 Teijin Seiki Company, Ltd. Photocurable resin composition, method of producing photo-cured shaped object, vacuum casting mold, vacuum casting method and novel urethane acrylate
US6200732B1 (en) 1996-04-15 2001-03-13 Teijin Seikei Co., Ltd. Photocurable resin composition
JP2005523473A (ja) * 2002-04-19 2005-08-04 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 反応性粒子を含有する光硬化性組成物
JP2009513764A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 ハンツマン アドバンスト マテリアルズ (スイッツァランド) ゲーエムベーハー アンチモンを含まない光硬化性樹脂組成物及び三次元物品

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5876550A (en) * 1988-10-05 1999-03-02 Helisys, Inc. Laminated object manufacturing apparatus and method
WO1990003893A1 (en) * 1988-10-05 1990-04-19 Michael Feygin An improved apparatus and method for forming an integral object from laminations
US5637175A (en) * 1988-10-05 1997-06-10 Helisys Corporation Apparatus for forming an integral object from laminations
CA2016919C (en) * 1989-05-18 2003-07-29 Masaru Nanpei Photosensitive resin compositions
US5088047A (en) * 1989-10-16 1992-02-11 Bynum David K Automated manufacturing system using thin sections
US5133987A (en) * 1989-10-27 1992-07-28 3D Systems, Inc. Stereolithographic apparatus and method
US5626919A (en) * 1990-03-01 1997-05-06 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging apparatus and method with coating station
US5236326A (en) * 1990-07-05 1993-08-17 E. I. Du Pont De Nemours And Company Solid imaging system using photohardening inhibition
US5122441A (en) * 1990-10-29 1992-06-16 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for fabricating an integral three-dimensional object from layers of a photoformable composition
US5474719A (en) * 1991-02-14 1995-12-12 E. I. Du Pont De Nemours And Company Method for forming solid objects utilizing viscosity reducible compositions
DE4316184A1 (de) * 1993-05-14 1994-11-17 Hoechst Ag Verfahren zur Herstellung keramischer Mikrostrukturen aus polymeren Precursoren
US5730817A (en) * 1996-04-22 1998-03-24 Helisys, Inc. Laminated object manufacturing system
EP0909793A4 (en) 1997-02-05 2000-04-12 Teijin Seiki Co Ltd COMPOSITION OF A STEREOLITHOGRAPHIC RESIN
GB9702658D0 (en) * 1997-02-10 1997-04-02 Imperial College Fabrication method and apparatus
US6008264A (en) 1997-04-30 1999-12-28 Laser Med, Inc. Method for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation
US6282013B1 (en) 1997-04-30 2001-08-28 Lasermed, Inc. System for curing polymeric materials, such as those used in dentistry, and for tailoring the post-cure properties of polymeric materials through the use of light source power modulation
US6602074B1 (en) 1997-10-29 2003-08-05 Bisco, Inc. Dental composite light curing system
US6116900A (en) * 1997-11-17 2000-09-12 Lumachem, Inc. Binary energizer and peroxide delivery system for dental bleaching
US6200134B1 (en) 1998-01-20 2001-03-13 Kerr Corporation Apparatus and method for curing materials with radiation
US6287745B1 (en) 1998-02-18 2001-09-11 Dsm N.V. Photocurable liquid resin composition comprising an epoxy-branched alicyclic compound
DE19820302A1 (de) * 1998-05-04 2000-02-24 Basf Ag Kern/Schale-Partikel, ihre Herstellung und Verwendung
JP4350832B2 (ja) * 1999-04-19 2009-10-21 Jsr株式会社 立体造形用光硬化性樹脂組成物およびこれを硬化してなる造形物
US6157661A (en) * 1999-05-12 2000-12-05 Laserphysics, Inc. System for producing a pulsed, varied and modulated laser output
US20030207959A1 (en) 2000-03-13 2003-11-06 Eduardo Napadensky Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US7300619B2 (en) * 2000-03-13 2007-11-27 Objet Geometries Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
US8481241B2 (en) 2000-03-13 2013-07-09 Stratasys Ltd. Compositions and methods for use in three dimensional model printing
JP3928415B2 (ja) * 2001-11-16 2007-06-13 Jsr株式会社 液状硬化性樹脂組成物
EP1475221A3 (en) 2003-05-09 2008-12-03 FUJIFILM Corporation Process for producing three-dimensional model
JP2005053936A (ja) * 2003-06-13 2005-03-03 Jsr Corp 光硬化性液状樹脂組成物
US7232850B2 (en) * 2003-10-03 2007-06-19 Huntsman Advanced Materials Americas Inc. Photocurable compositions for articles having stable tensile properties
EP1760527B1 (en) * 2005-09-05 2012-06-06 DWI an der RWTH Aachen e.V. Photochemical method for manufacturing nanometrically surface-decorated substrates
DE102008047118B4 (de) * 2008-09-15 2024-02-01 Dürr Systems Ag Lackieranlagenbauteil
US9072572B2 (en) 2009-04-02 2015-07-07 Kerr Corporation Dental light device
US9066777B2 (en) 2009-04-02 2015-06-30 Kerr Corporation Curing light device
US20160200044A1 (en) * 2013-04-24 2016-07-14 The Board Of Regents Of The University Of Texas System Cartridge-based 3d printing system
JP6483551B2 (ja) * 2015-07-03 2019-03-13 株式会社アスペクト 粉末床溶融結合装置

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU507014B2 (en) * 1975-11-05 1980-01-31 Hercules Inc. Photopolymer compositions
JPS603170B2 (ja) * 1976-03-24 1985-01-26 三井東圧化学株式会社 凸版用感光性樹脂組成物
US4698373A (en) * 1981-01-21 1987-10-06 Dentsply Research & Development Corp. Stable one part dental compositions employing ipn technology
EP0092783B1 (en) * 1982-04-22 1987-11-11 E.I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive coatings containing crosslinked beads
US4414278A (en) * 1982-04-22 1983-11-08 E. I. Du Pont De Nemours And Company Crosslinked triacrylate polymer beads
US4575330A (en) * 1984-08-08 1986-03-11 Uvp, Inc. Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography
US4726877A (en) * 1986-01-22 1988-02-23 E. I. Du Pont De Nemours And Company Methods of using photosensitive compositions containing microgels
US4753865A (en) * 1986-01-22 1988-06-28 E. I. Du Pont De Nemours And Company Photosensitive compositions containing microgels
ES2063737T3 (es) * 1986-06-03 1995-01-16 Cubital Ltd Aparato y metodo para modelizacion tridimensional.
US4752498A (en) * 1987-03-02 1988-06-21 Fudim Efrem V Method and apparatus for production of three-dimensional objects by photosolidification

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5849459A (en) * 1994-11-29 1998-12-15 Teijin Seiki Co., Ltd. Resin composition for stereolithography
US6162576A (en) * 1994-11-29 2000-12-19 Teijin Seiki Co., Ltd. Resin composition for stereolithography
US6200732B1 (en) 1996-04-15 2001-03-13 Teijin Seikei Co., Ltd. Photocurable resin composition
US6017973A (en) * 1996-05-16 2000-01-25 Teijin Seiki Company, Ltd. Photocurable resin composition, method of producing photo-cured shaped object, vacuum casting mold, vacuum casting method and novel urethane acrylate
JP2005523473A (ja) * 2002-04-19 2005-08-04 ハンツマン・アドヴァンスト・マテリアルズ・(スイッツランド)・ゲーエムベーハー 反応性粒子を含有する光硬化性組成物
JP2009513764A (ja) * 2005-10-27 2009-04-02 ハンツマン アドバンスト マテリアルズ (スイッツァランド) ゲーエムベーハー アンチモンを含まない光硬化性樹脂組成物及び三次元物品

Also Published As

Publication number Publication date
CA2014809A1 (en) 1990-10-21
DE69020649T2 (de) 1996-01-11
AU5376090A (en) 1990-10-25
CN1048935A (zh) 1991-01-30
AU633557B2 (en) 1993-02-04
DE69020649D1 (de) 1995-08-10
EP0403758B1 (en) 1995-07-05
EP0403758A2 (en) 1990-12-27
KR900016804A (ko) 1990-11-14
EP0403758A3 (en) 1992-06-03
JPH0661850B2 (ja) 1994-08-17
US5002854A (en) 1991-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH03114733A (ja) コア‐シエルポリマーを含有する組成物を用いる立体像形成法
JP2648222B2 (ja) 中空球を含有する光硬化性組成物を用いる立体像形成法
US5002855A (en) Solid imaging method using multiphasic photohardenable compositions
JPH0661848B2 (ja) 厚みを自己規制する光硬化性材料を使用する立体像形成方法
US4942060A (en) Solid imaging method utilizing photohardenable compositions of self limiting thickness by phase separation
US5128235A (en) Method of forming a three-dimensional object comprising additives imparting reduction of shrinkage to photohardenable compositions
DE4418645C1 (de) Lichtempfindliches Gemisch und daraus herstellbares Aufzeichnungsmaterial
US5006364A (en) Solid imaging method utilizing compositions comprising thermally coalescible materials
US5164128A (en) Methods for curing partially polymerized parts
EP0355944A2 (en) Methods for curing partially polymerized parts
JPH0649154A (ja) 三次元物体の製造のための光重合体組成物
DE69738250T2 (de) Durch Photostereographie hergestelltes, dreidimensionales Objekt und die Harzzusammensetzung zu seiner Herstellung
CA2016388A1 (en) Method and apparatus for maintaining desired exposure levels
KR0140863B1 (ko) 개선된 고체 상형성 방법 및 장치