JPH03113717A - 酸化物塗布型磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は酸化物塗布型磁気記録媒体に関するものである
。

［従来の技術］ 酸化物塗布型磁気記録媒体としては、ポリエステルフィ
ルムに酸化物塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体が
知られている（たとえば特開昭６１−２６９３３号公報
）。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記従来の酸化物塗布型磁気記録媒体で
は、ダビングしてソフトテープ等を製造する工程等の工
程速度の増大に伴い、接触するロールやガイドでフィル
ム表面に傷がつくという欠点があった。また、従来のも
のでは、上記ダビング時の画質低下のために、画質すな
わちＳ／Ｎ（シグナル／ノイズ比）も不十分という欠点
があった。

本発明はかかる課題を解決し、特に高速工程でテープに
傷がつきに（（（以下耐スクラッチ性に優れるという）
、シかもダビング時の画質低下の少ない（以下耐ダビン
グ性に優れるという）酸化物塗布型磁気記録媒体を提供
することを目的とする。

［課題を解決するための手段］ 本発明は、（１）基材フィルムの少なくとも片面に酸化
物塗布型磁性層を設けてなる酸化物塗布型磁気記録媒体
であって、該基材フィルムが熱可塑性樹脂Ａよりなる層
（Ａ層）の少なくとも片面に不活性粒子を含有する熱可
塑性樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を積層してなる二軸配向
フィルムであり、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒
径ｄＢが３０〜１１０００ｎｍ、該粒子のＢ層における
含有量が１．５〜４０重量％、Ｂ層の厚さｔｌｌと平均
粒径ｄＢの比ｔ　Ｂ層　ｄ　ａが０．　１〜３の範囲で
あることを特徴とする酸化物塗布型磁気記録媒体、（２
）基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に酸化物塗布
型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ層に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径ｄＢが３０〜６００ｎｍであ
ることを特徴とする上記（１）記載の酸化物塗布型磁気
記録媒体、（３）基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ層
を積層してなる二軸配向フィルムであり、Ａ層側にのみ
酸化物塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有さ
れる不活性粒子の平均粒径ｄＢが８０〜１１００Ｏｎで
あることを特徴とする上記（１）記載の酸化物塗布型磁
気記録媒体、（４）基材フィルムが、熱可塑性樹脂Ａよ
りなる層（Ａ層）の一方の面に不活性粒子を含有する熱
可塑性樹脂Ｂよりなる層（Ｂ層）を、他面に不活性粒子
を含有する熱可塑性樹脂Ｃよりなる層（Ｃ層）を積層し
てなる二軸配向フィルムであって、該基材フィルムのＢ
層側にのみ酸化物塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ
層に含有される不活性粒子の平均粒径ｄＢが３０〜６０
０ｎｍ、該粒子のＢ層における含有量が１．５〜４０重
量％、Ｂ層の厚さｔＢと平均粒径ｄＢの比ｔａ／ｄｉが
０．１〜３、該０層に含有される不活性粒子の平均粒径
ｄＣが８０〜１１０００ｎｍ、該粒子の０層における含
有量が１．５〜４０重量％、０層の厚さＴＢと平均粒径
ｄＣの比ＴＣ／ｄＣが０．　１〜３であることを特徴と
する酸化物塗布型磁気記録媒体に関するものである。

本発明の基材フィルムを構成する熱可塑性樹脂Ａ、Ｂ、
Ｃは同じでも、異なる種類のものでも良く、ポリエステ
ル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリフ二二しンスル
フィドなど特に限定されることはないが、特に、ポリエ
ステル、中でも、エチレンテレフタレート、エチレンα
、β−ビス（２−クロルフェノキシ）エタン−４４′−
ジカルボキシレート、エチレン２．６−ナフタレート単
位から選ばれた少なくとも一種の構造単位を主要構成成
分とする場合に耐スクラッチ性がより一層良好となるの
で望ましい。

また、本発明を構成する熱可塑性樹脂Ｂおよび／または
Ｃは結晶性である場合に耐スクラッチ性がより一層良好
となるのできわめて望ましい。ここでいう結晶性とはい
わゆる非晶質ではないことを示すものであり、定量的に
は結晶化パラメータにおける冷結晶化温度Ｔｃｃが検出
され、かつ結晶化パラメータΔＴｃｇが１５０℃以下の
ものである。さらに、示差走査熱量計で測定された融解
熱（融解エンタルピー変化）が７．５ｃａｌ／ｇ以上の
結晶性を示す場合に耐スクラッチ性がより一層良好とな
るのできわめて望ましい。また、エチレンテレフタレー
トを主要構成成分きするポリエステルの場合に耐スクラ
ッチ性がより一層良好となるので特に望ましい。

なお、本発明を阻害しない範囲内で、熱可塑性樹脂Ａ、
Ｂ、Ｃから選ばれる少なくとも一種に他種の熱可塑性樹
脂を混合してもよいし共重合ポリマを用いても良い。ま
た、本発明の目的を阻害しない範囲内で、熱可塑性樹脂
Ａ、Ｂ、Ｃがら選ばれる少なくとも一種に酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤などの有機添加剤が通常
添加される程度添加されていてもよい。

本発明を構成する基材フィルムのＢ層中の不活性粒子の
平均粒径ｄｉは耐スクラッチ性、耐ダビング性の点から
３０〜１１０００ｎである必要があり、さらにＢ層側に
磁性層が設けられる場合には３０〜６００ｎｍ、磁性層
が設けられない場合には８０〜１１０００ｎが好ましい
。また本発明の基材フィルム８層中の不活性粒子の含有
量は１゜５〜４０重量％、好ましくは２〜３０重量％、
さらに好ましくは３〜２０重量％であることが必要であ
る。含有量が上記の範囲より多いと耐ダビング性が満足
できず、少ないと耐スクラッチ性が不良となり好ましく
ない。さらに本発明の基材フィルム８層の厚さｔＢと該
Ｂ層中に含有する不活性粒子の平均粒径ｄＢの比、ｕｓ
／ｄａは０．　１〜３、好ましくは０．２〜２．０１さ
らに好ましくは０．　３〜１．５の範囲であることが必
要である。

ｔ　ａ　／　ｄ　ｎが上記の範囲より小さいと耐スクラ
ッチ性が不良となり、逆に大きいと耐ダビング性が不良
となるので好ましくない。

また本発明を構成する基材フィルムのＣ層中の不活性粒
子の平均粒径ｄＢは、良好な耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性を得るために８０〜１１０００ｎが必要である。さ
らに、基材フィルムＣ層中に含有する不活性粒子の含有
量は、良好な耐スクラッチ性、耐ダビング性を有する磁
気記録媒体とするために１．５〜４０重量％、好ましく
は２〜１５重量％であることが必要である。またこの０
層の厚さＴＣと、含有する不活性粒子の平均粒径ｄＢの
比ＴＣ／ｄＣは０．　１〜３の範囲である場合に耐スク
ラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので望ま
しい。

さらに、基材フィルムＡ層中に不活性粒子を含有してい
る必要は特にないが、平均粒径が５〜１１０００ｎｍ、
特に３０〜６００ｎｍの不活性粒子がｏ、ｏｏｉ〜０．
１５重量％、特に０．００５〜０．０５重量％含有され
ていると耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好
となるので望ましい。　本発明に使用する不活性粒子は
、粒径比（粒子の長径／短径）が１．０〜１．３の粒子
、特に、球形状の粒子の場合に耐スクラッチ性、耐ダビ
ング性がより一層良好となるので望ましい。

本発明に使用する不活性粒子は基材フィルム中での単一
粒子指数が０．７以上、好ましくは０．　９以上である
場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好と
なるので特に望ましい。本発明に使用する不活性粒子は
粒径の相対標準偏差が０゜６以下、好ましくは０．５以
下の場合に耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良
好となるので望ましい。

本発明に使用する不活性粒子の種類は特に限定されない
が、コロイダルシリカに起因する実質的に球形のシリカ
粒子、架橋高分子による粒子（たとえば架橋ポリスチレ
ン）等があるが、特に１０重量％減量時温度（窒素中で
熱重量分析装置島津ＴＧ−３０Ｍを用いて測定。昇温速
度２０℃／分）が３８０℃以上になるまで架橋度を高く
した架橋高分子粒子の場合に耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となるので特に望ましい。なお、コ
ロイダルシリカに起因する球形シリカの場合にはアルコ
キシド法で製造された、ナトリウム含有量が少ない、実
質的に球形のシリカの場合に耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性がより一層良好となるので特に望ましい。しかしな
がら、その他の粒子、例えば炭酸カルシウム、二酸化チ
タン、アルミナ等他の粒子でも熱可塑性樹脂Ｂ層の厚さ
ＴＢと平均粒径ｄＢの比の適切なコントロールにより十
分使いこなせるものである。

本発明を構成する基材フィルムは上記組成物からなる積
層フィルムを二軸配向せしめたフィルムであって、−軸
あるいは無配向フィルムでは耐スクラッチ性が不良とな
るので好ましくない。この配向の程度は特に限定されな
いが、高分子の分子配向の程度の目安であるヤング率が
長手方向、幅方向ともに３５０ｋｇ／ｍｍ２以上である
場合に耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一層良好と
なるのできわめて望ましい。分子配向の程度の目安であ
るヤング率の上限は特に限定されないが、通常、１５０
０　ｋ　ｇ／ｍｍ２程度が製造上の限界である。

本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の全反射ラ
マン結晶化指数は、２０ｃｍ−”以下の場合に耐スクラ
ッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特に望
ましい。

また、本発明を構成する基材フィルムの該Ｃ層表面の全
反射ラマン結晶化指数は、２０ｃｍ”−”以下の場合に
耐スクラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
で特に望ましい。

本発明は上記の二軸配向フィルムの少なくとも片面に酸
化物塗布型磁性層を設けてなる磁気記録媒体である。用
いられる磁性粉末は特に限定されないが強磁性粉末、な
かでもγ−Ｆｅ２Ｏ３、ＣＯ含有７　　Ｆ　ｅ２　ｏ３
　、Ｆ　ｅ３０４　、Ｃｏ含有Ｆｅ　３０４　、Ｃｒ　
０２等が好ましく用いられる。

磁性粉は各種バインダーを用いて磁性塗料とすることが
できるが、一般には熱硬化性樹脂系バインダーおよび放
射線硬化系バインダーが好ましくその他添加剤として分
散剤、潤滑剤、帯電防止剤を常法に従って用いてもよい
。例えば塩化ビニル・酢酸ビニル・ビニルアルコール共
重合体、ポリウレタンプレポリマおよびポリイソシアネ
ートよりなるバインダーなどを用いることができる。

酸化物塗布型磁性層の厚さｔＭは特に限定されないが、
磁性層側のＢ層の厚さｔＢ　（−層）との比、ｔ　ｓ　
／　ｉ　Ｍが０．００２〜１０、特に０．０１〜１０、
さらに好ましくは０．０１〜５の範囲である場合に耐ダ
ビング性、耐スクラッチ性がより一層良好となるので望
ましい。またｔＭの値としては０．５〜６μｍの範囲と
しておくことが耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一
層良好となるので望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層の幅方向厚さ斑
は２５％以下、さらに好ましくは２０％以下である場合
に耐ダビング性、耐スクラッチ性がより一層良好となる
ので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層の厚さは０．０
１〜３μｍ、好ましくは０．０２〜１μｍの場合に耐ス
クラッチ性、耐ダビング性がより一層良好となるので特
に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の中心線平
均粗さＲａと最大高さＲｔの比、Ｒｔ／Ｒａは９．０以
下、特に８．５以下の場合に耐ダビング性、耐スクラッ
チ性がより一層良好となるので特に望ましい。

本発明を構成する基材フィルムの該Ｂ層表面の２次イオ
ンマススペクトルによって測定される表層粒子濃度比は
特に限定されないが、表層粒子濃度比が１／１０以下、
特に１１５０以下である場合に耐スクラッチ性、耐ダビ
ング性がより一層良好となるので特に望ましい。

次に本発明の磁気記録媒体の製造方法について説明する
。

まず、熱可塑性樹脂Ｂに不活性粒子を含有せしめる方法
としては、不活性粒子をエチレングリコールのスラリー
とし、ベント方式の２軸混練押出機を用いて熱可塑性樹
脂に練り込む方法が、延伸破れなく、本発明範囲の厚さ
と平均粒径の関係、含有量の基材フィルムを得るのにき
わめて有効である。

粒子の含有量を調節する方法としては、上記方法で高濃
度マスターを作っておき、それを製膜時に不活性粒子を
実質的に含有しない熱可塑性樹脂で希釈して粒子の含有
量を調節する方法が有効である。

次に、熱可塑性樹脂Ａ１不活性粒子を所定量含有する熱
可塑性樹脂Ｂのペレットを必要に応じて乾燥したのち、
公知の溶融積層用押出装置に供給し、スリット状のダイ
からシート状に押出し、キャスティングロール上で冷却
固化せしめて未延伸フィルムを作る。すなわち、２また
は３台の押出し機、２または３層のマニホールドまたは
合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ａ、Ｂを積層し、
口金から２または３層のシートを押し出し、キャスティ
ングロールで冷却して未延伸フィルムを作る。この場合
、熱可塑性樹脂Ｂのポリマ流路に、スタティックミキサ
ー、ギヤポンプを設置する方法は延伸破れなく、本発明
範囲の厚さと平均粒径の関係、含有量、望ましい範囲の
表層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。また
、合流ブロックとして矩形のフィードブロックを用いる
のが本発明範囲の厚さと平均粒径の関係を得るのにきわ
めて有効である。また、熱可塑性樹脂Ｂ側の押し出し機
の溶融温度を、熱可塑性樹脂Ａ側より、１０〜４０℃高
くすることが、延伸破れなく、本発明範囲の厚さと平均
粒径の関係、含有量、望ましい範囲の積層厚さ斑、表層
粒子濃度比、全反射ラマン結晶化指数のフィルムを得る
のに有効である。上記の説明は構成として、Ａ／Ｂ、Ｂ
／Ａ／Ｂについて述べたが、Ｂ／Ａ／Ｃの構成の場合は
３台の押出機を用いて同様に、３層のマニホールドまた
は合流ブロックを用いて、熱可塑性樹脂Ｂ１Ａ、Ｃを積
層し、口金から３層のシートを押し出し、キャスティン
グロールで冷却して未延伸フィルムを作る。

次にこの未延伸フィルムを二軸延伸し、二軸配向せしめ
る。延伸方法としては、逐次二軸延伸法または同時二軸
延伸法を用いることができる。ただし、最初に長手方向
、次に幅方向の延伸を行なう逐次二軸延伸法を用い、長
手方向の延伸を３段階以上に分けて、総縦延伸倍率を３
．０〜６．５倍で行なう方法は、本発明範囲の厚さと平
均粒径の関係、含有量のフィルムを得るのに有効である
。

長手方向延伸温度は熱可塑性樹脂の種類によって異なり
一概には言えないが、通常、その１段目を５０〜１３０
℃とし、２段目以降はそれより高くすることが本発明範
囲の厚さと平均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表
層粒子濃度比のフィルムを得るのに有効である。長手方
向延伸速度は５０００〜５００００％／分の範囲が好適
である。

幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる方法が一般
的である。延伸倍率は、３．０〜５．０倍、延伸速度は
、１０００〜２００００％／分、温度は８０〜１６０℃
の範囲が好適である。次にこの延伸フィルムを熱処理す
る。この場合の熱処理温度は１７０〜２００℃、特に１
７０〜１９０℃、時間は０．５〜６０秒の範囲が好適で
ある。

次に、このフィルムに所定の磁性層を塗布する。

磁性層を塗布する方法は公知の方法で行なうことができ
るが、グラビヤロールで塗布する方法が本発明範囲の厚
さと平均粒径の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒子
濃度比のフィルムを得るのに有効である。塗布後の乾燥
工程は、温度を９０〜１２０℃とするのが好ましい。

また、カレンダー工程は、ポリアミドまたはポリエステ
ルを弾性ロールに用い、２５〜９０℃、特に４０〜７０
℃の温度範囲で行なうのが本発明範囲の厚さと平均粒径
の関係、本発明の望ましい範囲の表層粒子濃度比のフィ
ルムを得るのに有効である。さらに、このフィルムの磁
性層をキュアした後、その原反（広幅）をスリットして
本発明の酸化物塗布型磁気記録媒体を得る。

［物性の測定方法ならびに効果の評価方法コ本発明の特
性値の測定方法並びに効果の評価方法は次の通りである
。

（１）粒子の平均粒径 フィルムから熱可塑性樹脂をプラズマ低温灰化処理法で
除去し粒子を露出させる。処理条件は熱可塑性樹脂は灰
化されるが粒子はダメージを受けない条件を選択する。

これを走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察し、粒子の画
像をイメージアナライザーで処理する。観察箇所を変え
て粒子数５゜０００個以上で次の数値処理を行ない、そ
れによって求めた数平均径りを平均粒径とする。

Ｄ＝ΣＤ、／Ｎ ここで、Ｄ、は粒子の円相当径、Ｎは粒子数である。

（２）粒径比 上記（１）の測定において個々の粒子の（長径の平均値
）／（短径の平均値）の比である。すなわち、下式で求
められる。

長径＝ΣＤｉ、／Ｎ 短径＝ΣＤ２．／Ｎ Ｄｌ、１Ｄ２．はそれぞれ個々の粒子の長径（最大径）
、短径（最短径）、Ｎは粒子数である。

（３）粒径の相対標準偏差 上記（１）の方法で測定された個々の粒径Ｄ１、平均径
Ｄ１粒子数Ｎから計算される標準偏差σ（＝（Σ（Ｄ、
−Ｄ）　２／Ｎ）　”’　）を平均径りで割った値（σ
／Ｄ）で表わした。

（４）単一粒子指数 フィルムの断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で写真観
察し、粒子を検知する。観察倍率を１０万倍程度にすれ
ば、それ以上分けることができない１個の粒子が観察で
きる。粒子の占める全面積をＡ１そのうち２個以上の粒
子が凝集している凝集体の占める面積をＢとした時、（
Ａ−Ｂ）／Ａをもって、単一粒子指数とする。ＴＥＭ条
件は下記のとおりであり１視野面積：２μｍ２の測定を
場所を変えて、５００視野測定する。

・観察倍率：１０万倍 ・加速電圧：１００ｋＶ ・切片厚さ：約１，０ＯＯＡ （５）粒子の含有量 熱可塑性樹脂は溶解し粒子は溶解させない溶媒を選択し
、粒子を熱可塑性樹脂から遠心分離し、粒子の全体重量
に対する比率（重量％）をもって粒子含有量とする。

（６）結晶化パラメータΔＴｃｇ、融解熱示差走査熱量
計（Ｄ　Ｓ　Ｃ）を用いて測定した。

ＤＳＣの測定条件は次の通りである。すなわち、試料１
０ｍｇをＤＳＣ装置にセットし、３００℃の温度で５分
間溶融した後、液体窒素中に急冷する。

この急冷試料を１０℃／分で昇温し、ガラス転移点Ｔｇ
を検知する。さらに昇温を続け、ガラス状態からの結晶
化発熱ピーク温度をもって冷結晶化温度Ｔｃｃとした。

さらに昇温を続け、融解ピークから融解熱を求めた。こ
こでＴｃｃとＴｇの差（Ｔｃｃ−Ｔｇ）を結晶化パラメ
ータΔＴｃｇと定義する。

（７）ヤング率 Ｊ　Ｉ　５−Ｚ−１７０２に規定された方法にしたかっ
て、インストロンタイプの引っ張り試験機を用いて、２
５℃、６５％ＲＨにて測定した。

（８）全反射ラマン結晶化指数 全反射ラマンスペクトルを測定し、カルボニル基の伸縮
振動である１　７３０　ｃｍ”の半価幅をもって表面の
全反射ラマン結晶化指数とした。測定条件は次の通りで
ある。但し測定深さは、表面から５００〜１０００人程
度とした。

■光源 アルゴンイオンレーザ−（５，１４５Ａ）■試料のセツ
ティング レーザー偏光方向（Ｓ偏光）とフィルム長手方向が平行
となるようにフィルム表面を全反射プリズムに圧着させ
、レーザーのプリズムへの入射角（フィルム厚さ方向と
の角度）は６０’とした。

■検出器 ＰＭ　：　ＲＣＡ３１０３４／Ｐｈｏｔｏｎ　Ｃｏｕｎ
ｔｉｎｇ　Ｓｙｓｔｅｍ（ＨａｍａｍａｔＢｕ　Ｃ１２
３０）　　（ｓｕｐｐｌｙ　１，６００Ｖ）■測定条件 ５ＬＩ７　　　　　　　　　１，０００　　μ１１ＬＡ
ＳＥＲ１００ｍＷ ＧＡＴＥ　ＴＩＭＥ！　　　　　　　１．０ｓｅｃＳＣ
ＡＮ　５ＰＥＥＤ　　　　　　１２ｃｍ””／ｍｉｎＳ
ＡＭＰＬＩＮＧ　　ＩＮＴＥＲＶＡＬ　０．２ｃｍ　−
１ＲＥＰＥＡＴ　ＴＩＭＥ　　　　　　６（９）固有粘
度［η］　（単位はｄｌ／ｇ）オルトクロロフェノール
中、２５℃で測定した溶液粘度から下記式で計算される
値を用いる。すなわち、 ηＳＰ／Ｃ＝　　［ηコ　＋Ｋ　［η］　２　・にこで
　η５Ｐ＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃは溶媒１０
０ｍ１あたりの溶解ポリマ重量（ｇ／１０Ｑｍｌ、通常
１．２）、Ｋはハギンス定数（Ｃ，３４３とする）。ま
た、溶液粘度、溶媒粘度はオストワルド粘度計を用いて
測定した。

（１０）表層粒子濃度比 ２次イオンマススペクトル（ＳＩＭＳ）を用いて、フィ
ルム中の粒子に起因する元素のうち最も高濃度の元素と
熱可塑性樹脂の炭素元素の濃度比を粒子濃度とし、厚さ
方向の分析を行なう。ＳＩＭＳによって測定される最表
層粒子濃度（深さ０の点）における粒子濃度Ａとさらに
深さ方向の分析を続けて得られる最高濃度Ｂの比、Ａ／
Ｂを表層粒子濃度比と定義した。測定装置、条件は下記
のとおりである。

１次イオン種＝０２ １次イオン加速電圧：１２ＫＶ １次イオン電流：２００ｎＡ ラスター領域：４００μｍ口 分　　析　　領　　域：ゲート３０％ 測定真空度：　６．　ＯＸ　１０−９ＴｏｒｔＥ　　−
Ｇ　　Ｕ　　Ｎｅｏ、５ｋＶ−３，０Ａ（１１）表面粗
さパラメータＲａ　（中心線平均粗さ）、Ｒｔ（最大高
さ） 表面粗さ計を用いて測定した。条件は下記のとおりであ
り、２０回の測定の平均値をもって値とした。

・触針先端半径二〇、５μｍ ・触針荷重：５ｍｇ ・測　定　長：１ｍｍ ・カットオフ値：０．０８ｍｍ （１２）耐ダビング性 家庭用ＶＴＲを用いてテレビ試験波形発生器により１０
０％クロマ信号を記録し、その再生信号からカラービデ
オノイズ測定器でクロマＳ／Ｎを測定しＡとした。また
上記と同じ信号を記録したテープのパンケーキを磁界転
写方式のビデオソフト高速プリントシステムを用いて同
じ種類のテープ（未記録）のパンケーキへダビングした
後のテープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして測定しＢ
とした。このダビングによるクロマＳ／Ｎの低下（Ａ−
Ｂ）が４．０ｄＢ未満の場合は耐ダビング性良好、４，
０４３以上の場合は耐ダビング性不良と判定した。

（１３）耐スクラッチ性 ２０℃相対湿度６０％の雰囲気下で、外径６ｍｍφの固
定軸（表面粗度０．２Ｓ）に１／２インチ幅のテープ非
磁性面を角度θ＝６０°で接触させ、入テンション６５
ｇで速度５００ｍ／ｍｉｎ　　（＝　８３３　ｃｍ／ｓ
）で１０回走行させた後のテープ非磁性面をアルミ蒸着
して、スクラッチ傷の本数、幅の大きさ及び白粉の発生
状態を微分干渉顕微鏡で観察した。全くスクラッチ傷が
見られずかつ白粉の発生のないものを耐スクラッチ性：
優、スクラッチ傷が３本／ｃｍ未満でかつ白粉の発生が
ほとんどないものを耐スクラッチ性：良、それ以外を耐
スクラッチ性：不良と判定した。

［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。

実施例１．２．５、及び比較例２．３ 平均粒径の異なる架橋ポリスチレン粒子、コロイダルシ
リカに起因するシリカ粒子を含有するエチレングリコー
ルスラリーを調製し、このエチレングリコールスラリー
を１９０℃で１．５時間熱処理した後、テレフタル酸ジ
メチルとエステル交換反応させ、重縮合し、該粒子を０
．１〜１０重量％含有するポリエチレンテレフタレート
（以下ＰＥＴと略す）のペレットを作った。この時、重
縮合時間を調節し固有粘度を０．７０とした（熱可塑性
樹脂Ｂ）。また、常法によって、固有粘度０．６２のＰ
ＥＴを製造し、熱可塑性樹脂Ａとした。

これらのポリマをそれぞれ１８０℃で６時間減圧乾燥（
３Ｔｏｒｒ）　した後、熱可塑性樹脂Ｂを押出機１に供
給し２９０℃で溶融し、さらに、熱可塑性樹脂Ａを押出
機２に供給し、２８０℃で溶融し、これらのポリマを合
流ブロックで合流積層し、静電印加キャスト法を用いて
表面温度３０℃のキャスティングドラムに巻きつけて冷
却固化し、積層未延伸フィルムを作った。この時、それ
ぞれの押出機の吐出量を調節し総厚さ、熱可塑性樹脂Ｂ
層の厚さを調節した。

この未延伸フィルムを温度８０℃にて長手方向に４．５
倍延伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差で、
４段階で行なった。この−軸延伸フィルムをステンタを
用いて延伸速度２．０００％７分で１００℃で幅方向に
４．０倍延伸し、定長下で、１９０°Ｃにて５秒間熱処
理し、総厚さ１５μｍの二軸配向積層フィルムを得た。

このフィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用いて塗布
する。磁性塗料は次のようにして調製した。

°７−Ｆｅ２０３　　　　　　　１００部平均粒子サイ
ズ　長さ　二０．３μｍ 針状比：１０／１ 抗磁力　　　　　　　　：５０００ｅ ・ポリウレタン樹脂　　　　　　　　１５部・塩化ビニ
ル・酢酸ビニル共重合体　　５部・ニトロセルロース樹
脂　　　　　　　５部・酸化アルミ粉末　　　　　　　
　　　３部（平均粒径：０．３μｍ） ・カーボンブラック　　　　　　　　　１部・レシチン
　　　　　　　　　　　　　２部・メチルエチルケトン
　　　　　　１００部・メチルイソブチルケトン　　　
　１００部・トルエン　　　　　　　　　　　１００部
・ステアリン酸　　　　　　　　　　　２部上記組成物
をボールミルで４８時間混合分散した後、硬化剤６部を
添加して得られた混練物をフィルターでろ過して磁性塗
布液を準備し、上記フィルム上に塗布、磁場配向させ、
１１０℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置（
スチールロール／ナイロンロール、５段）で、温度７０
’Ｃ１線圧２００　ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後
、７０℃、４８時間でキユアリングし磁性層厚さ５μｍ
の酸化物塗布型磁気記録媒体を得た。

実施例３．４、及び比較例１．４ 上記の実施例と同様にして、実施例３では３台の押出機
を用いて３層積層の積層未延伸フィルムを、実施例４で
はさらにＡ層両面に異なるポリマを積層した３層積層の
積層未延伸フィルムを、また比較例１は通常の単層フィ
ルムを、比較例４では３台の押出機を用いて３層積層の
積層未延伸フィルムを得た。

これらの未延伸フィルムを温度８０℃にて長手方向に４
．２倍延伸した。この−軸延伸フィルムをステンタを用
いて延伸速度２，０００％／分で１０５℃で幅方向に４
．５倍延伸し、定長下で、１９０℃にて５秒間熱処理し
、二軸配向フィルムを得た。

このフィルムに磁性塗料をグラビヤロールを用いて塗布
する。磁性塗料は上記実施例と同様のものを用意した。

その磁性塗料をボールミルで４８時間混合分散した後、
硬化剤６部を添加して得られた混線物をフィルターでろ
過して磁性塗布液を準備し、塗布、磁場配向させ、１０
０℃で乾燥し、さらに小型テストカレンダー装置（スチ
ールロール／ナイロンロール、５段）で、温度７０℃、
線圧２００　ｋｇ／ｃｍでカレンダー処理した後、７０
’Ｃ。

４８時間でキユアリングし磁性層厚さ４μｍの酸化物塗
布型磁気記録媒体を得た。

これらの特性は第１表に示したとおりであり、本発明の
酸化物塗布型磁気記録媒体は耐スクラッチ性、耐ダビン
グ性は優または良であったが、そうでない場合は耐スク
ラッチ性、耐ダビング性を満足する酸化物塗布型磁気記
録媒体は得られなかった。

［発明の効果コ 本発明は、製法の工夫により、不活性粒子を含有する熱
可塑性樹脂を用いて、粒子の大きさとフィルム厚さの関
係、含有量を特定範囲としたので、耐スクラッチ性、耐
ダビング性に優れた磁気記録媒体が得られたものであり
、各用途でのフィルム加工速度の増大に対応できるもの
である。

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材フィルムの少なくとも片面に酸化物塗布型磁
   性層を設けてなる酸化物塗布型磁気記録媒体であって、
   該基材フィルムが熱可塑性樹脂Ａよりなる層（Ａ層）の
   少なくとも片面に不活性粒子を含有する熱可塑性樹脂Ｂ
   よりなる層（Ｂ層）を積層してなる二軸配向フィルムで
   あり、Ｂ層に含有される不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが
   ３０〜１０００ｎｍ、該粒子のＢ層における含有量が１
   ．５〜４０重量％、Ｂ層の厚さＴ＿Ｂと平均粒径ｄ＿Ｂ
   の比ｔ＿Ｂ／ｄ＿Ｂが０．１〜３の範囲であることを特
   徴とする酸化物塗布型磁気記録媒体。
2. （２）基材フィルムの少なくとも一方のＢ層側に酸化物
   塗布型磁性層が設けられており、該磁性層側のＢ層に含
   有される不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが３０〜６００ｎ
   ｍであることを特徴とする請求項（１）記載の酸化物塗
   布型磁気記録媒体。
3. （３）基材フィルムがＡ層の片面にのみＢ層を積層して
   なる二軸配向フィルムであり、Ａ層側にのみ酸化物塗布
   型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有される不活性
   粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが８０〜１０００ｎｍであること
   を特徴とする請求項（１）記載の酸化物塗布型磁気記録
   媒体。
4. （４）基材フィルムが、熱可塑性樹脂Ａよりなる層（Ａ
   層）の一方の面に不活性粒子を含有する熱可塑性樹脂Ｂ
   よりなる層（Ｂ層）を、他面に不活性粒子を含有する熱
   可塑性樹脂Ｃよりなる層（Ｃ層）を積層してなる二軸配
   向フィルムであって、該基材フィルムのＢ層側にのみ酸
   化物塗布型磁性層が設けられており、該Ｂ層に含有され
   る不活性粒子の平均粒径ｄ＿Ｂが３０〜６００ｎｍ、該
   粒子のＢ層における含有量が１．５〜４０重量％、Ｂ層
   の厚さｔ＿Ｂと平均粒径ｄ＿Ｂの比Ｔ＿Ｂ／ｄ＿Ｂが０
   ．１〜３、該Ｃ層に含有される不活性粒子の平均粒径ｄ
   ＿Ｃが８０〜１０００ｎｍ、該粒子のＣ層における含有
   量が１．５〜４０重量％、Ｃ層の厚さＴ＿Ｃと平均粒径
   ｄ＿Ｃの比Ｔ＿Ｃ／ｄ＿Ｃが０．１〜３であることを特
   徴とする酸化物塗布型磁気記録媒体。
5. （５）熱可塑性樹脂Ｃが結晶性ポリエステルであり、か
   つ、Ｃ層表面の全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ＾−
   ＾１以下であることを特徴とする請求項（４）に記載の
   酸化物塗布型磁気記録媒体。
6. （６）熱可塑性樹脂Ｂが結晶性ポリエステルであり、か
   つ、Ｂ層表面の全反射ラマン結晶化指数が２０ｃｍ＾−
   ＾１以下であることを特徴とする請求項（１）〜（５）
   のいずれかに記載の酸化物塗布型磁気記録媒体。
7. （７）磁性層側のＢ層の厚さｔ＿Ｂと該磁性層の厚さｔ
   ＿Ｍの比、ｔ＿Ｂ／ｔ＿Ｍが０．００２〜１０の範囲で
   あることを特徴とする請求項（１）〜（６）のいずれか
   に記載の酸化物塗布型磁気記録媒体。