JPH03112996A - キラルなフェロセン誘導体 - Google Patents
キラルなフェロセン誘導体Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、キラルなフェロセン誘導体に関し、さらに詳
細には、不斉合成用触媒として有用なキラルなフェロセ
ン誘導体に関する。
細には、不斉合成用触媒として有用なキラルなフェロセ
ン誘導体に関する。
光学活性体の製造法の1つである不斉合成法には、不斉
合成用触媒が使用されることが多い。良く知られた触媒
として、エフェドリン、プロリノール誘導体等の天然物
由来の化合物がある。
合成用触媒が使用されることが多い。良く知られた触媒
として、エフェドリン、プロリノール誘導体等の天然物
由来の化合物がある。
しかし、これら天然物由来の化合物は、基質特異性を有
することが多(、高いエナンチオ選択率を示す基質と、
そうでない基質とが存在する。そのために、適用できな
いか、あるいは、効率の悪い反応がある。
することが多(、高いエナンチオ選択率を示す基質と、
そうでない基質とが存在する。そのために、適用できな
いか、あるいは、効率の悪い反応がある。
そこで、このような基質特異性を低下させる目的および
反応効率等の特性を向上させる目的で、天然物由来の不
斉合成用触媒の改良が試みられている。しかるに、それ
らの不斉炭素上の置換基を変更することは、容易でない
場合が多く、所望の特性を有する不斉合成用触媒を入手
できないこと〜が多かった。
反応効率等の特性を向上させる目的で、天然物由来の不
斉合成用触媒の改良が試みられている。しかるに、それ
らの不斉炭素上の置換基を変更することは、容易でない
場合が多く、所望の特性を有する不斉合成用触媒を入手
できないこと〜が多かった。
そこで本発明の目的は、上記天然物由来の化合物に代わ
る新規な不斉合成用触媒を提供することにある。
る新規な不斉合成用触媒を提供することにある。
さらに本発明の目的は、不斉炭素上の置換基を比較的容
易に変更することができる不斉合成用触媒を提供するこ
とにある。
易に変更することができる不斉合成用触媒を提供するこ
とにある。
本発明は、下記−数式(1)で表わされるキラルなフェ
ロセン誘導体に関する。
ロセン誘導体に関する。
(式中、R1は炭素数1〜6の低級アルキル基を示し、
R2及びR3は、同−又は異なり、炭素数1〜6の低級
アルキル基、フェニル基又はベンジル基を示すか、R2
とR3は、それぞれが結合する窒素原子と炭素数4〜6
の複素環を形成し、R“及びR5は、同−又は異なり、
水素、炭素数2〜6の低級アルキル基又はフェニル基を
示すか、R4とR5はそれぞれが結合する炭素原子と炭
素数5〜7のシクロアルキル基又はアントラセニル基を
形成する。但し、R4とR5は同時に水素であることは
な(、R1、RZ及びR3がメチル基である場合には、
R4とR5が同時にフェニル基であることもない、) 以下に本発明の詳細な説明する。
R2及びR3は、同−又は異なり、炭素数1〜6の低級
アルキル基、フェニル基又はベンジル基を示すか、R2
とR3は、それぞれが結合する窒素原子と炭素数4〜6
の複素環を形成し、R“及びR5は、同−又は異なり、
水素、炭素数2〜6の低級アルキル基又はフェニル基を
示すか、R4とR5はそれぞれが結合する炭素原子と炭
素数5〜7のシクロアルキル基又はアントラセニル基を
形成する。但し、R4とR5は同時に水素であることは
な(、R1、RZ及びR3がメチル基である場合には、
R4とR5が同時にフェニル基であることもない、) 以下に本発明の詳細な説明する。
一般式(1)のR1,R1及びR3の炭素数1〜6の低
級アルキル基は、例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、1so−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、n−ヘキシル等ヲ挙げることができる
。特に、R1としてはメチルが好ましく、R2及びR3
としてはメチル、エチル及び1so−プロピルが好まし
い。又、R2とR3とが、結合する窒素原子とともに、
形成する複素環としては、ピロリジル、ピペリジル等を
例示でき、特にピペリジルであることが好ましい。
級アルキル基は、例えば、メチル、エチル、n−プロピ
ル、1so−プロピル、n−ブチル、tert−ブチル
、n−ペンチル、n−ヘキシル等ヲ挙げることができる
。特に、R1としてはメチルが好ましく、R2及びR3
としてはメチル、エチル及び1so−プロピルが好まし
い。又、R2とR3とが、結合する窒素原子とともに、
形成する複素環としては、ピロリジル、ピペリジル等を
例示でき、特にピペリジルであることが好ましい。
R4及びR5で示される炭素数2〜6の低級アルキル基
としては、例えばエチル、n−プロピル、1so−プロ
ピル、n−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、
n−ヘキシル等を挙げることができる。特に1so−プ
ロピル及びter t−ブチルであることが好ましい、
又、R4とRSとが、結合する炭素原子とともに形成す
るシクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロへブチルを例示でき、特にシクロヘキ
シルであることが好ましい。
としては、例えばエチル、n−プロピル、1so−プロ
ピル、n−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、
n−ヘキシル等を挙げることができる。特に1so−プ
ロピル及びter t−ブチルであることが好ましい、
又、R4とRSとが、結合する炭素原子とともに形成す
るシクロアルキル基としては、シクロペンチル、シクロ
ヘキシル、シクロへブチルを例示でき、特にシクロヘキ
シルであることが好ましい。
表1に本発明の化合物の具体例のR′〜R5を示す。
表
1
Me:メチル、Et:エチル、1so−Pr :イソプ
ロビル、tBu :ターシャリーブチル、Ph:フェ
ニル階3及び1lh517)R4R’ (7)欄(7)
CはR4とRsが結合する炭素原子 以下に本発明の化合物の製造法を説明する本発明の化合
物は一般式(n)で示されるフェロセンのヨウ化物とn
−ブチルリチウムを反応させてリチオ化し、次いでリチ
オ化物を一般式(III)1 R’CR’で示されるケトン(又はアルデヒド)と反応
させることにより得られる。
ロビル、tBu :ターシャリーブチル、Ph:フェ
ニル階3及び1lh517)R4R’ (7)欄(7)
CはR4とRsが結合する炭素原子 以下に本発明の化合物の製造法を説明する本発明の化合
物は一般式(n)で示されるフェロセンのヨウ化物とn
−ブチルリチウムを反応させてリチオ化し、次いでリチ
オ化物を一般式(III)1 R’CR’で示されるケトン(又はアルデヒド)と反応
させることにより得られる。
1
上記リチオ化に用いる有機リチウム化合物としては、n
−ブチルリチウム以外に5ec−ブチルリチウム、t−
ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム
を例示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフ
ェロセンのヨウ化物(n)に対して0.1〜2.0当量
、好ましくは0.7〜1.5当量とすることが適当であ
る。またこれらの有機リチウム化合物はヘキサンあるい
はエーテルの5〜30%溶液として使用することが好ま
しい。さらにリチウム化反応は、溶媒(例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水
素類;又はこれら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒
)の存在下、以下の条件下で行うことが適当である。
−ブチルリチウム以外に5ec−ブチルリチウム、t−
ブチルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウム
を例示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフ
ェロセンのヨウ化物(n)に対して0.1〜2.0当量
、好ましくは0.7〜1.5当量とすることが適当であ
る。またこれらの有機リチウム化合物はヘキサンあるい
はエーテルの5〜30%溶液として使用することが好ま
しい。さらにリチウム化反応は、溶媒(例えば、エチル
エーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ペンタ
ン、ヘキサン、ヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水
素類;又はこれら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒
)の存在下、以下の条件下で行うことが適当である。
反応温度ニー30°〜50℃、好ましくは一10@〜3
0℃ 反応時間:0.1〜5時間 反応圧カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気 :窒素またはアルゴン下 次にリチオ化物とケトン(又はアルデヒド)(III)
との反応は、好ましくはケトン(又はアルデヒド)〔■
〕のエーテル溶液を反応系に添加することにより行う。
0℃ 反応時間:0.1〜5時間 反応圧カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気 :窒素またはアルゴン下 次にリチオ化物とケトン(又はアルデヒド)(III)
との反応は、好ましくはケトン(又はアルデヒド)〔■
〕のエーテル溶液を反応系に添加することにより行う。
ケトン(又はアルデヒド)(I[[)の使用量は、リチ
オ化に用いたフェロセンのヨウ化物CI[]に対して、
0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量と
することが適当である。
オ化に用いたフェロセンのヨウ化物CI[]に対して、
0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.5当量と
することが適当である。
この反応は以下の条件で行うことが好ましい。
反応温度ニー40〜70℃
好ましくは一20〜40℃
反応時間:1〜3時間
反応圧カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下
雰囲気 二窒素又はアルゴン下
反応終了時に、反応系にリン酸水溶液を添加して反応を
停止させた後、水層をアルカリ性とした後エーテル抽出
し、カラムクロマトグラフィーにより目的生成物である
一般式CI)の化合物を分取することができる。
停止させた後、水層をアルカリ性とした後エーテル抽出
し、カラムクロマトグラフィーにより目的生成物である
一般式CI)の化合物を分取することができる。
上記反応に原料化合物のうち一般式(III)のケトン
(又はアルデヒド)は、市販品を入手できる。
(又はアルデヒド)は、市販品を入手できる。
又、−数式(II)の化合物は、以下のようにして合成
される。
される。
公知化合物である一般式(rV) (J、Am、Ch
em。
em。
Soc、、92巻、5389 (1970))で表わさ
れるフェロセン誘導体をヨウ化メチルと反応させて四級
アンモニウム塩とし、次いで一級あるいは二級アミン誘
導体あるいはアンモニアと反応させることにより、適宜
R2及びR3がメチル以外のフェロセン誘導体〔■〕を
合成できる(G、Gokelら、Angew、 Che
ml、 Int、 Ed、 Engl、、9巻、64(
1970)。
れるフェロセン誘導体をヨウ化メチルと反応させて四級
アンモニウム塩とし、次いで一級あるいは二級アミン誘
導体あるいはアンモニアと反応させることにより、適宜
R2及びR3がメチル以外のフェロセン誘導体〔■〕を
合成できる(G、Gokelら、Angew、 Che
ml、 Int、 Ed、 Engl、、9巻、64(
1970)。
(IV)
(V)
四級アンモニウム塩とする反応
Mel:0.5〜4
0当量
溶媒;アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、ア
セトニトリル、ベンゾニト リル等のニトリル類 温度ニー30〜80°C1好ましくは 一1O〜40℃ 時間二0.1〜5時間 圧カニ常圧から加圧、好ましく1〜3気圧雰囲気二窒素
またはアルゴン下 単離:生成物が結晶化している時はろ過により、そうで
ない場合はエチルエーテル あるいはヘキサンを加えて結晶を析出 させた後、ろ過する。
セトニトリル、ベンゾニト リル等のニトリル類 温度ニー30〜80°C1好ましくは 一1O〜40℃ 時間二0.1〜5時間 圧カニ常圧から加圧、好ましく1〜3気圧雰囲気二窒素
またはアルゴン下 単離:生成物が結晶化している時はろ過により、そうで
ない場合はエチルエーテル あるいはヘキサンを加えて結晶を析出 させた後、ろ過する。
アミン又はアンモニアとの反応
HNR”R” : 1〜30 当量
溶 媒;アセトニトリル、ベンズニトリル等のニトリル
類、エチルエーテル、テ トラヒドロフラン等のエーテル類 温 度:0°〜100℃、好ましくは10@〜906C 時 間二〇、5〜100時間 圧 カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧 雰囲気下二窒素またはアルゴン下 単 離:害結晶化またはカラムクロマトグラフィー 一般式(V)のフェロセン誘導体をTetrahedr
onl至、5453 (1970)に記載の方法を適用
することにより、以下のスキームに従って一般式〔■〕
のハロフェロセン誘導体を合成できる。
類、エチルエーテル、テ トラヒドロフラン等のエーテル類 温 度:0°〜100℃、好ましくは10@〜906C 時 間二〇、5〜100時間 圧 カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧 雰囲気下二窒素またはアルゴン下 単 離:害結晶化またはカラムクロマトグラフィー 一般式(V)のフェロセン誘導体をTetrahedr
onl至、5453 (1970)に記載の方法を適用
することにより、以下のスキームに従って一般式〔■〕
のハロフェロセン誘導体を合成できる。
上記方法とは別に一般式(V)で表わされるフェロセン
誘導体を、有機リチウム化合物でリチオ化し、次いでハ
ロゲン化剤と反応させることにより一般式CI[3で表
わされるハロフェロセン誘導体を製造することができる
。
誘導体を、有機リチウム化合物でリチオ化し、次いでハ
ロゲン化剤と反応させることにより一般式CI[3で表
わされるハロフェロセン誘導体を製造することができる
。
上記リチオ化に用いる有機リチウム化合物としては、n
−ブチルリチウム、5ee−ブチルリチウム、t−ブチ
ルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウムを例
示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフェロ
セン誘導体(V)に対して0,1〜2.0当量、好まし
くは0.7〜1.5当量とすることが適当である。また
、これらの有機リチウム化合物はヘキサンあるいはエー
テルの5〜30%溶液として使用することが好ましい。
−ブチルリチウム、5ee−ブチルリチウム、t−ブチ
ルリチウム、メチルリチウム及びフェニルリチウムを例
示できる。これら有機リチウム化合物の使用量はフェロ
セン誘導体(V)に対して0,1〜2.0当量、好まし
くは0.7〜1.5当量とすることが適当である。また
、これらの有機リチウム化合物はヘキサンあるいはエー
テルの5〜30%溶液として使用することが好ましい。
さらに、リチオ化反応は、溶媒(例えば、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン
、キシレン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;
又はこれら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒)の存
在下、以下の条件下で行うことが適当である。
ル、テトラヒドロフラン等のエーテル類;ペンタン、ヘ
キサン、ヘプタン等の炭化水素類;ベンゼン、トルエン
、キシレン、ジクロロベンゼン等の芳香族炭化水素類;
又はこれら溶媒の一種または二種以上の混合溶媒)の存
在下、以下の条件下で行うことが適当である。
反応温度ニー30°〜50℃、好ましくは一10〜30
℃ 反応時間:0.1〜5時間 反応力カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気:窒素またはアルゴン下 尚、リチオ化反応は既知の方法(Ugi らJ、A+n
。
℃ 反応時間:0.1〜5時間 反応力カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気:窒素またはアルゴン下 尚、リチオ化反応は既知の方法(Ugi らJ、A+n
。
Chem、Soc、、92巻、5389 (1970)
)によっても行うことができる。
)によっても行うことができる。
次にリチオ化物のハロゲン化は、ハロゲン化剤として例
えば、ヨウ素、臭素、塩素、N−ヨードスクシンイミド
、N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシンイミ
ドを用いて行うことができる。これらハロゲン化剤はそ
のままの状態、もしくは溶媒に溶解した溶液として反応
系中に加えることができる。
えば、ヨウ素、臭素、塩素、N−ヨードスクシンイミド
、N−ブロモスクシンイミド、N−クロロスクシンイミ
ドを用いて行うことができる。これらハロゲン化剤はそ
のままの状態、もしくは溶媒に溶解した溶液として反応
系中に加えることができる。
溶媒は、前記リチオ他用溶媒として例示したものを用い
ることができ、ハロゲン化反応用溶媒もリチオ他用溶媒
として例示したものを用いることができる。ハロゲン化
剤の使用量はリチオ化に用いたフェロセン誘導体(V)
に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.
5当量とすることが適当である。
ることができ、ハロゲン化反応用溶媒もリチオ他用溶媒
として例示したものを用いることができる。ハロゲン化
剤の使用量はリチオ化に用いたフェロセン誘導体(V)
に対して0.1〜2.0当量、好ましくは0.7〜1.
5当量とすることが適当である。
ハロゲン化反応は以下の条件下で行うことが好ましい。
反応温度ニー120”〜0℃、好ましくは一100°〜
−30℃ 反応時間:0.1〜10時間 反応力カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気:窒素またはアルゴン下 ハロゲン化は、薄層クロマトグラフィーにより進行状況
を判断することができる。反応終了時に、反応系に水を
加えて反応を停止させた後、エーテル抽出し、カラムク
ロマトグラフィーにより目的生成物を分取することがで
きる。
−30℃ 反応時間:0.1〜10時間 反応力カニ常圧から加圧、好ましくは1〜3気圧下 雰囲気:窒素またはアルゴン下 ハロゲン化は、薄層クロマトグラフィーにより進行状況
を判断することができる。反応終了時に、反応系に水を
加えて反応を停止させた後、エーテル抽出し、カラムク
ロマトグラフィーにより目的生成物を分取することがで
きる。
尚、−数式(II)のハロフェロセン誘導体のうちR2
及びR3がメチル基である化合物は、前述のヨウ化メチ
ルによる四級アンモニウム塩化及び次いで一級又は二級
アミンとの反応により、−級及び二級アミンを適宜選ぶ
ことにより、R2及びR3がメチル基以外の化合物に変
換することができる(1.Ugiら、J、 Org、
Chem、 、37巻、3052(1972);T、H
ayashi ら、Bu I 1. Chem、 S
oc、 Jpn。
及びR3がメチル基である化合物は、前述のヨウ化メチ
ルによる四級アンモニウム塩化及び次いで一級又は二級
アミンとの反応により、−級及び二級アミンを適宜選ぶ
ことにより、R2及びR3がメチル基以外の化合物に変
換することができる(1.Ugiら、J、 Org、
Chem、 、37巻、3052(1972);T、H
ayashi ら、Bu I 1. Chem、 S
oc、 Jpn。
53巻、1138 (1980) ;G、Goke
l ら、Angew、 Chem、 、 Int、
Ed、 Engl、 9.64 (1970) )。
l ら、Angew、 Chem、 、 Int、
Ed、 Engl、 9.64 (1970) )。
本発明の光学活性なフェロセン誘導体は、ルイス酸的な
金属に対して有効な配位子となり得、亜鉛、アルミニウ
ム、チタン、セリウム、ニッケル等のルイス酸的な金属
を用いる、不斉導入反応において、高鏡像面選択性を示
す触媒を提供できる。
金属に対して有効な配位子となり得、亜鉛、アルミニウ
ム、チタン、セリウム、ニッケル等のルイス酸的な金属
を用いる、不斉導入反応において、高鏡像面選択性を示
す触媒を提供できる。
本発明によれば種々の置換基を有するキシルなフェロセ
ン誘導体を提供でき、この誘導体は種々の不斉合成反応
に適用できる。又、本発明の光学活性なフェロセン誘導
体を用いて不均一系不斉合成触媒及び高分子光学分割用
ゲル等として有用なポリマーを提供することもできる(
F、 S、 Arimot。
ン誘導体を提供でき、この誘導体は種々の不斉合成反応
に適用できる。又、本発明の光学活性なフェロセン誘導
体を用いて不均一系不斉合成触媒及び高分子光学分割用
ゲル等として有用なポリマーを提供することもできる(
F、 S、 Arimot。
ら、J、 Am、 Chem、 Sac、、77巻、6
295 (1955);G、P、l1ayes ら、
Polymer % 18巻、1286(1977)
参照)。
295 (1955);G、P、l1ayes ら、
Polymer % 18巻、1286(1977)
参照)。
参考例1
アルゴン雰囲気下、攪拌機を有する100−ガラス製常
圧反応装置に(+)−(R)−N、N−ジメチル−1−
フェロセニルエチルアミン2.66g (10,311
1mol)を加え、エーテル25−に溶解させた。水冷
後、第二級ブチルリチウムのシクロヘキサンシ容液12
.4mff1 (0,94M、11.7mmo l )
を滴下した。水冷下で1時間反応させた。ドライアイス
−アセトン浴で冷却後、ヨウ素3. OOg(11,7
mmof)をテトラヒドロフラン25−に溶解させた溶
液を滴下した。冷却下、1時間反応させた後、水を加え
て反応を停止させた。水層をアルカリ性とし、エーテル
で抽出した。有機層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
圧反応装置に(+)−(R)−N、N−ジメチル−1−
フェロセニルエチルアミン2.66g (10,311
1mol)を加え、エーテル25−に溶解させた。水冷
後、第二級ブチルリチウムのシクロヘキサンシ容液12
.4mff1 (0,94M、11.7mmo l )
を滴下した。水冷下で1時間反応させた。ドライアイス
−アセトン浴で冷却後、ヨウ素3. OOg(11,7
mmof)をテトラヒドロフラン25−に溶解させた溶
液を滴下した。冷却下、1時間反応させた後、水を加え
て反応を停止させた。水層をアルカリ性とし、エーテル
で抽出した。有機層は無水硫酸ナトリウムで乾燥した。
溶媒を留去した後、残渣をアルミナカラムクロマトグラ
フィーにより分離したところ、(−)−(R)−N、N
−ジメチル−1−((S)−2−ヨードフェロセニル〕
エチルアミンが3.12g(製造収率79%)得られた
。さらに、アセトニトリルから再結晶化した。
フィーにより分離したところ、(−)−(R)−N、N
−ジメチル−1−((S)−2−ヨードフェロセニル〕
エチルアミンが3.12g(製造収率79%)得られた
。さらに、アセトニトリルから再結晶化した。
(a) D =−8,98° (C1,0,[!tO
H) m、p、78〜9℃60 MH7’HNMR(δ
、 CDC1g); 1.50(31(、d、 J=
8.0Hz)2、15(8H,S)、 3.15(IH
,q、 J=7.5Hz)4、13(7H,3)、 4
.40 〜4.60(11(、m)IR(KBr)31
00.2970.2940.2802.2760.11
00゜1000an−’ 参考例2 アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応装
置に参考例1で得た(R)−N、N−ジメチル−1−(
(S)−2−ヨードフェロセニル〕エチルアミン3.8
3g (10,0mmof)を加え、アセトン20−に
溶解させた。室温下でヨウ化メチル2.86J (46
mmof)を加え、10分間反応させた。エチルエーテ
ル100−を加えて、沈澱を生じさせ、ろ過により、四
級アンモニウム塩5.25 g (10,0mmof)
を得た。
H) m、p、78〜9℃60 MH7’HNMR(δ
、 CDC1g); 1.50(31(、d、 J=
8.0Hz)2、15(8H,S)、 3.15(IH
,q、 J=7.5Hz)4、13(7H,3)、 4
.40 〜4.60(11(、m)IR(KBr)31
00.2970.2940.2802.2760.11
00゜1000an−’ 参考例2 アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応装
置に参考例1で得た(R)−N、N−ジメチル−1−(
(S)−2−ヨードフェロセニル〕エチルアミン3.8
3g (10,0mmof)を加え、アセトン20−に
溶解させた。室温下でヨウ化メチル2.86J (46
mmof)を加え、10分間反応させた。エチルエーテ
ル100−を加えて、沈澱を生じさせ、ろ過により、四
級アンモニウム塩5.25 g (10,0mmof)
を得た。
引き続いて、得られた四級アンモニウム塩は、アセトニ
トリル130−に溶解させた後、ジエチルアミン26r
d (250mmojl’)を加え、30℃で48時間
撹拌した。エチルエーテルを加え、水洗した。エチルエ
ーテル溶液は無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残渣はエチルアルコールを用いて再結晶化を行な
い、(R)−N。
トリル130−に溶解させた後、ジエチルアミン26r
d (250mmojl’)を加え、30℃で48時間
撹拌した。エチルエーテルを加え、水洗した。エチルエ
ーテル溶液は無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を留去
した。残渣はエチルアルコールを用いて再結晶化を行な
い、(R)−N。
Nジエチル−1−C(S)−2−ヨードフェロセニル〕
エチルアミ:/3.70 g (9,0ff1moj!
s製造収率90%)を得た。
エチルアミ:/3.70 g (9,0ff1moj!
s製造収率90%)を得た。
〔α〕 。
−58,6゜
(C
0、596゜
EtOH)
融点 49℃
90MIIz ’HNMR(δ、 CDCl z) ;
0.98 (6H,t、 J=7.2Hz)1.39
(38,d、J−6,611z) 2.39 (2+
1.q、J=6.’1lz)2.42 (2H,q、J
=6.9Hz) 3.90 (111,q、J=6.
6Hz)4.09 (5H,s) 4.15〜4.2
1(2H,m) 4.38〜4.44(IH,m) IR(KBr) 3100.2980.2820.11
04.1001.8201″1 参考例3.4 ジエチルアミンの代わりに表1に示すアミンを使用した
こと以外は参考例2と同様な操作を繰り返して表1に示
す生成物を得た。
0.98 (6H,t、 J=7.2Hz)1.39
(38,d、J−6,611z) 2.39 (2+
1.q、J=6.’1lz)2.42 (2H,q、J
=6.9Hz) 3.90 (111,q、J=6.
6Hz)4.09 (5H,s) 4.15〜4.2
1(2H,m) 4.38〜4.44(IH,m) IR(KBr) 3100.2980.2820.11
04.1001.8201″1 参考例3.4 ジエチルアミンの代わりに表1に示すアミンを使用した
こと以外は参考例2と同様な操作を繰り返して表1に示
す生成物を得た。
参考例3の生成物
90MHz ’HNMR(δ、CDC13); 1.1
6〜1.50(611,m)1.50 (3H,d、J
=6.3Hz) 2.36 (3H,t、J=5.1
Hz)3.70 (IH,q、J=7.2)1x)
4.IQ (5H,s) 4.16〜4.25(21
1,m) 4.39〜4.49(IH,m)IR(K
Br) 3100.2950.2860.2805.2
760.1108.1002.820 am−’ 参考例4の生成物 90MHz ’HNMR(δ、CDCl 3) ;
0.96(6H,d、J=6.0Ilz)1.06
(611,d、J=6.0Hz) 1.49 (3B
、d、J=6.3Hz)2.89〜3.37(2H,m
) 4.03(LH,Q、J=6.6Hz) 4.
06(5H。
6〜1.50(611,m)1.50 (3H,d、J
=6.3Hz) 2.36 (3H,t、J=5.1
Hz)3.70 (IH,q、J=7.2)1x)
4.IQ (5H,s) 4.16〜4.25(21
1,m) 4.39〜4.49(IH,m)IR(K
Br) 3100.2950.2860.2805.2
760.1108.1002.820 am−’ 参考例4の生成物 90MHz ’HNMR(δ、CDCl 3) ;
0.96(6H,d、J=6.0Ilz)1.06
(611,d、J=6.0Hz) 1.49 (3B
、d、J=6.3Hz)2.89〜3.37(2H,m
) 4.03(LH,Q、J=6.6Hz) 4.
06(5H。
s) 4.10〜4.28(2H,m) 4.36
〜4.45(IH,m)IR(KBr) 3105.2
995.2898.1365.1195.1109.1
002.820 cs−’ 実施例1 アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応装
置に参考例3で得た(R) −1−((S)−2−ヨー
ドフェロセニル〕−1−ピペリジノエタン2.12 g
(5,0mmol)を加え、エチルエーテル12−に
溶解させた。水冷後、n−ブチルリチウムのヘキサン溶
液3.13d (1,60M、 5.0mmofりを滴
下した。水冷下で5分間反応させた後、ベンゾフェノン
911mg (5,0mmojりのエチルエーテル溶液
15−を加えた。室温下で1時間反応させた。8%リン
酸水溶液を加えて反応を停止させた。エチルエーテルで
酸性液を洗浄後、濃アルカリ水溶液を加えて、この酸性
液を強アルカリ性とした。エチルエーテルで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣
をアルミナカラムクロマトグラフィー(ヘキサン: A
c0Bt )により分離したところ、(−) −(R)
−1−[(S) −2−ジフェニルヒドロキシメチルフ
ェロセニル〕−1−ピペリジノエタンが1.80 g
(3,75vnIIlof、製造収率75%)得られた
。
〜4.45(IH,m)IR(KBr) 3105.2
995.2898.1365.1195.1109.1
002.820 cs−’ 実施例1 アルゴン雰囲気下、撹拌機を有するガラス製常圧反応装
置に参考例3で得た(R) −1−((S)−2−ヨー
ドフェロセニル〕−1−ピペリジノエタン2.12 g
(5,0mmol)を加え、エチルエーテル12−に
溶解させた。水冷後、n−ブチルリチウムのヘキサン溶
液3.13d (1,60M、 5.0mmofりを滴
下した。水冷下で5分間反応させた後、ベンゾフェノン
911mg (5,0mmojりのエチルエーテル溶液
15−を加えた。室温下で1時間反応させた。8%リン
酸水溶液を加えて反応を停止させた。エチルエーテルで
酸性液を洗浄後、濃アルカリ水溶液を加えて、この酸性
液を強アルカリ性とした。エチルエーテルで抽出し、無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残渣
をアルミナカラムクロマトグラフィー(ヘキサン: A
c0Bt )により分離したところ、(−) −(R)
−1−[(S) −2−ジフェニルヒドロキシメチルフ
ェロセニル〕−1−ピペリジノエタンが1.80 g
(3,75vnIIlof、製造収率75%)得られた
。
Cαin 203.6° (CO,48,EtO
’H)融点 62〜69℃ 90MH2’HNMR(δ、 CDCI!s) : 0
.29〜1.70(6H,m)1.24 (3H,d、
J:6.3Hz) 2.25 (4H,t、J’5.
7Hz)3.80 (5H,s) 3.89〜4.01
(IH,m) 4.03〜4.20(18,m)4.2
0〜4.37(IH,m) 4.40(1B、q、J
:6.9Hz)6.98〜7.45(8H,m) 7
.50〜7.75(2H,m) 8.72(IH。
’H)融点 62〜69℃ 90MH2’HNMR(δ、 CDCI!s) : 0
.29〜1.70(6H,m)1.24 (3H,d、
J:6.3Hz) 2.25 (4H,t、J’5.
7Hz)3.80 (5H,s) 3.89〜4.01
(IH,m) 4.03〜4.20(18,m)4.2
0〜4.37(IH,m) 4.40(1B、q、J
:6.9Hz)6.98〜7.45(8H,m) 7
.50〜7.75(2H,m) 8.72(IH。
s、 OR)
[R(KBr) 3460 、3100.3070.2
950.2840S1600゜1444 .1104.
1002.820 .782 .753.703an−
’ 実施例2〜6 (R)−1−((S)−2−ヨードフエ口セニル〕−1
−ピペリジノエタン、およびケトンとして、ベンゾフェ
ノンの代わりに表2に示す原料を使用したこと以外は実
施例1と同様な操作を繰り返して表2に示す生成物を得
た。
950.2840S1600゜1444 .1104.
1002.820 .782 .753.703an−
’ 実施例2〜6 (R)−1−((S)−2−ヨードフエ口セニル〕−1
−ピペリジノエタン、およびケトンとして、ベンゾフェ
ノンの代わりに表2に示す原料を使用したこと以外は実
施例1と同様な操作を繰り返して表2に示す生成物を得
た。
実施例2の生成物
90MHz ’HNMR(δ、CDC7! s); 0
.37(3H,d、J:6.6Hz)0.85 (3H
,d、J=6.3Hz) 1.29 (6)1.d、
J=6.81(z)1.45 (3H,d、J=6.6
H2) 1.60〜1.97(LH,m)2.10
(6H,s) 2.30〜2.68(IH,m) 3.
78〜3.95(LH,m)4.09 (5H,s)
4.11〜4.23(3H,m) 7.69(IH,s
、−0H)IR(KBr) 3420 、3100.2
998.2898.2800.1108.1004.8
28.820 an−’ 実施例3の生成物 90MH2’HNMR(δ、CDC1s); 1.21
(3H,d、J:6.3Hz)1.30〜2.42(I
OH,m) 2.09(6H,s) 3.90〜4.
09(3H,m)4、12 (5H,s) 4.29(
IH,q、 J=8.3Hz) 7.18(IH,s、
−0H)IR(KBr) 3450.3100.29
50.2800.1105.822an−’実施例4の
生成物 90M)Iz ’HNMR(δ、 CDC1g) ;
0.63(6H,t、 Jニア、 2Hz)1.20(
3H,d、J=6.0Hz) 1.89〜2.58(
4B、m)3.78 (5H,s) 3.89〜4.0
3(IH,m) 4.07〜4.20(1B、 m)
4.20〜4.31(IH,m) 4.65(LH,
q、J=6.9Hz)6.98〜7.48(8H,m)
7.53〜7.76(2H,m) 8.70(18,
s、−0H)IR(KBr) 3450.3100.3
060.2995.2860.1598.1109.1
003.820.755.702 an−’実施例5の
生成物 90MHz ’HNMR(δ、 CDCA 3); 1
.32(3H,d、 J・6.0Hz)1.35〜1.
95(6H,m) 2.64(4H,t、J=5.4
Hz)3.20〜3.39(IH,m) 3.50(
5H,s) 3.70〜3.90(IH,m)3.9
0〜4.02(IH,m) 4.02〜4.18(I
H,m)4.20〜4.60(2H,m) 7.06〜
7.50(4H,m) 7.6Q 〜7.83(LH,
m) 7.89〜8.09(1B、m)IR(KBr
) 3460.3100.3150.2950.283
0.11o8.1001.820.760.747 a
n−’実施例6の生成物 90MHz ’HNMR(δ、 CDCi 3) ;
0.89(6H,d、 J=6.0Hz)1.09(8
H,d、J=6.0Hz) 1.38(3H,d、J
=6.3Hz)2.85〜3.22(2H,m) 3
.70(5H,s) 3.90〜4.10(IH,m
)4.10〜4.23(IH,m) 4.23〜4.
37(LH,m) 4.82(IH,q。
.37(3H,d、J:6.6Hz)0.85 (3H
,d、J=6.3Hz) 1.29 (6)1.d、
J=6.81(z)1.45 (3H,d、J=6.6
H2) 1.60〜1.97(LH,m)2.10
(6H,s) 2.30〜2.68(IH,m) 3.
78〜3.95(LH,m)4.09 (5H,s)
4.11〜4.23(3H,m) 7.69(IH,s
、−0H)IR(KBr) 3420 、3100.2
998.2898.2800.1108.1004.8
28.820 an−’ 実施例3の生成物 90MH2’HNMR(δ、CDC1s); 1.21
(3H,d、J:6.3Hz)1.30〜2.42(I
OH,m) 2.09(6H,s) 3.90〜4.
09(3H,m)4、12 (5H,s) 4.29(
IH,q、 J=8.3Hz) 7.18(IH,s、
−0H)IR(KBr) 3450.3100.29
50.2800.1105.822an−’実施例4の
生成物 90M)Iz ’HNMR(δ、 CDC1g) ;
0.63(6H,t、 Jニア、 2Hz)1.20(
3H,d、J=6.0Hz) 1.89〜2.58(
4B、m)3.78 (5H,s) 3.89〜4.0
3(IH,m) 4.07〜4.20(1B、 m)
4.20〜4.31(IH,m) 4.65(LH,
q、J=6.9Hz)6.98〜7.48(8H,m)
7.53〜7.76(2H,m) 8.70(18,
s、−0H)IR(KBr) 3450.3100.3
060.2995.2860.1598.1109.1
003.820.755.702 an−’実施例5の
生成物 90MHz ’HNMR(δ、 CDCA 3); 1
.32(3H,d、 J・6.0Hz)1.35〜1.
95(6H,m) 2.64(4H,t、J=5.4
Hz)3.20〜3.39(IH,m) 3.50(
5H,s) 3.70〜3.90(IH,m)3.9
0〜4.02(IH,m) 4.02〜4.18(I
H,m)4.20〜4.60(2H,m) 7.06〜
7.50(4H,m) 7.6Q 〜7.83(LH,
m) 7.89〜8.09(1B、m)IR(KBr
) 3460.3100.3150.2950.283
0.11o8.1001.820.760.747 a
n−’実施例6の生成物 90MHz ’HNMR(δ、 CDCi 3) ;
0.89(6H,d、 J=6.0Hz)1.09(8
H,d、J=6.0Hz) 1.38(3H,d、J
=6.3Hz)2.85〜3.22(2H,m) 3
.70(5H,s) 3.90〜4.10(IH,m
)4.10〜4.23(IH,m) 4.23〜4.
37(LH,m) 4.82(IH,q。
J=6.9Hz) 6.98〜7.47(8H,m)
7.60〜7.83(2H,m)8、45(LH,
s、 −0H) IR(KBr) 3450 、3100.3070.2
990.2890.1600゜1105.1000.8
19.750.700 an−’実施例7〜9 (R)−1−((S) −2−ヨードフェロセニル〕−
1−ピペリジノエタンの代わりに表3に示す原料を使用
し、さらにカルボニル化合物としてベンゾフェノンの代
わりに表3に示すアルデヒドを使用したこと以外は実施
例1と同様な操作を繰り返した。なお、生成物は二種類
のジアステレオマーとなるが、アルミナ、あるいはシリ
カゲルのクロマトグラフィーにより分離して各生成物を
得、それぞれの物性値を示した。結果を表3に示す。
7.60〜7.83(2H,m)8、45(LH,
s、 −0H) IR(KBr) 3450 、3100.3070.2
990.2890.1600゜1105.1000.8
19.750.700 an−’実施例7〜9 (R)−1−((S) −2−ヨードフェロセニル〕−
1−ピペリジノエタンの代わりに表3に示す原料を使用
し、さらにカルボニル化合物としてベンゾフェノンの代
わりに表3に示すアルデヒドを使用したこと以外は実施
例1と同様な操作を繰り返した。なお、生成物は二種類
のジアステレオマーとなるが、アルミナ、あるいはシリ
カゲルのクロマトグラフィーにより分離して各生成物を
得、それぞれの物性値を示した。結果を表3に示す。
実施例7
生成物1
90M1lZ ’II NMR(δ、CDCji!t)
; 1.36(3H,d、J=6.6Hz)2.22(
6H,s) 3.38〜3.58(IH,m) 3.
80〜4.40(3H,m)4.03(5H,s)
5.94(LH,s) 7.12〜7.68(5[1
,m)7.70〜8.02(IH,s、OH)。
; 1.36(3H,d、J=6.6Hz)2.22(
6H,s) 3.38〜3.58(IH,m) 3.
80〜4.40(3H,m)4.03(5H,s)
5.94(LH,s) 7.12〜7.68(5[1
,m)7.70〜8.02(IH,s、OH)。
IR(neat) 3102.3049.2998.2
849.2800.1605.1105.1000.8
19.738.700 am−’生成物2 90MIIz ’HNMR(δ、CDCl 、+) ;
1.23(3H,d、J=6.0Hz)2.19(6
H,s) 3.80(58,s) 3.90〜4.
35(4fl、++)5.47(18,s) 6.O
O〜6.70(II+、−0H)7.09〜7.68(
5H,m) IR(neat) 3370.3100.3040.2
998.2798.1600.1104.1000.8
18.719.700 cm−’実施例8 生成物1 90MHz ’HNMR(δ、CDCl 2) ; 0
.94(9H,s) 1.29(3B。
849.2800.1605.1105.1000.8
19.738.700 am−’生成物2 90MIIz ’HNMR(δ、CDCl 、+) ;
1.23(3H,d、J=6.0Hz)2.19(6
H,s) 3.80(58,s) 3.90〜4.
35(4fl、++)5.47(18,s) 6.O
O〜6.70(II+、−0H)7.09〜7.68(
5H,m) IR(neat) 3370.3100.3040.2
998.2798.1600.1104.1000.8
18.719.700 cm−’実施例8 生成物1 90MHz ’HNMR(δ、CDCl 2) ; 0
.94(9H,s) 1.29(3B。
d、J=6.6+1z) 2.07(611,s)
2.62(IH,−0H) 3.80(IH。
2.62(IH,−0H) 3.80(IH。
q、J=7.5Hz) 3.97〜4.1’?(4H
,m) 4.16(5H,5)IR(KBr)348
0 .3105.2999.2970゜1106 .1
102.818cm−’2840. 2800、 生成物2 90MIIz ’HNMR(δlCDC1z); 1.
18(91,s) 1.29(3tl。
,m) 4.16(5H,5)IR(KBr)348
0 .3105.2999.2970゜1106 .1
102.818cm−’2840. 2800、 生成物2 90MIIz ’HNMR(δlCDC1z); 1.
18(91,s) 1.29(3tl。
d、J=6.0Hz) 2.15(6H,s) 4
.00(5H,s) 4.05〜4.18(3H,m
) 4.19〜4.34(LH,m) 4.52(
IH,s) 7.40〜7.80 (IH,−0H) IR(KBr) 3450.3102.3000.29
60.2850.2800.110B 、1005.8
20cm−’実施例9 生成物1 90M1lz ’II NMR(δ、CDCf z):
0.99(9H,s) 1.27(38゜d、J=5
.4Hz) 1.18〜1.55(6H,m) 2.
20〜2.60(4H,m)3.79(IH,q、J=
7.2)1z) 3.97〜4.37(4H,m)4
.11 (5H,5) IR(neat) 3100.3000.2950.2
820.1105.1000.820aa−’ 生成物2 90MHz ’HNMR(δ 、CDCI りi
1.20(98,s) 1.33(311゜d
、J=6.0tLz) 1.29〜1.56(6H,
m) 2.32〜2.57(4H。
.00(5H,s) 4.05〜4.18(3H,m
) 4.19〜4.34(LH,m) 4.52(
IH,s) 7.40〜7.80 (IH,−0H) IR(KBr) 3450.3102.3000.29
60.2850.2800.110B 、1005.8
20cm−’実施例9 生成物1 90M1lz ’II NMR(δ、CDCf z):
0.99(9H,s) 1.27(38゜d、J=5
.4Hz) 1.18〜1.55(6H,m) 2.
20〜2.60(4H,m)3.79(IH,q、J=
7.2)1z) 3.97〜4.37(4H,m)4
.11 (5H,5) IR(neat) 3100.3000.2950.2
820.1105.1000.820aa−’ 生成物2 90MHz ’HNMR(δ 、CDCI りi
1.20(98,s) 1.33(311゜d
、J=6.0tLz) 1.29〜1.56(6H,
m) 2.32〜2.57(4H。
m) 4.00(58,s) 4.03〜4.20
(38,m) 4.20〜4.37(IH,m)
4.50(18,5)IR(neat)3250.31
05.3000.2960.2840.1112.10
09.822 cs−’ 手続補正書 平成2年4月io日 平成1年特許願第249869号 発明の名称 キシルなフェロセン誘導体 補正をする者 事件との関係 特許出願人
(38,m) 4.20〜4.37(IH,m)
4.50(18,5)IR(neat)3250.31
05.3000.2960.2840.1112.10
09.822 cs−’ 手続補正書 平成2年4月io日 平成1年特許願第249869号 発明の名称 キシルなフェロセン誘導体 補正をする者 事件との関係 特許出願人
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 下記一般式〔 I 〕で表わされるキラルなフェロセン誘
導体。 ▲数式、化学式、表等があります▼〔 I 〕 (式中、R^1は炭素数1〜6の低級アルキル基を示し
、R^2及びR^3は、同一又は異なり、炭素数1〜6
の低級アルキル基、フェニル基又はベンジル基を示すか
、R^2とR^3は、それぞれが結合する窒素原子と炭
素数4〜6の複素環を形成し、R^4及びR^5は、同
一又は異なり、水素、炭素数2〜6の低級アルキル基又
はフェニル基を示すか、R^4とR^5はそれぞれが結
合する炭素原子と炭素数5〜7のシクロアルキル基又は
アントラセニル基を形成する。但し、R^4とR^5は
同時に水素であることはなく、R^1、R^2及びR^
3がメチル基である場合には、R^4とR^5が同時に
フェニル基であることもない。)
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24986989A JP2737304B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | キラルなフェロセン誘導体 |
US07/490,408 US5079359A (en) | 1989-03-09 | 1990-03-08 | Chiral amino-methyl ferrocene derivatives |
US07/772,455 US5212311A (en) | 1989-03-09 | 1991-10-07 | Chiral amino-methyl ferrocene derivatives |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24986989A JP2737304B2 (ja) | 1989-09-25 | 1989-09-25 | キラルなフェロセン誘導体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03112996A true JPH03112996A (ja) | 1991-05-14 |
JP2737304B2 JP2737304B2 (ja) | 1998-04-08 |
Family
ID=17199401
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP24986989A Expired - Fee Related JP2737304B2 (ja) | 1989-03-09 | 1989-09-25 | キラルなフェロセン誘導体 |
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JP (1) | JP2737304B2 (ja) |
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1989
- 1989-09-25 JP JP24986989A patent/JP2737304B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Publication date |
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JP2737304B2 (ja) | 1998-04-08 |
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