JPH03111572A - 被覆セラミック工具の製造方法 - Google Patents
被覆セラミック工具の製造方法Info
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- JPH03111572A JPH03111572A JP24985089A JP24985089A JPH03111572A JP H03111572 A JPH03111572 A JP H03111572A JP 24985089 A JP24985089 A JP 24985089A JP 24985089 A JP24985089 A JP 24985089A JP H03111572 A JPH03111572 A JP H03111572A
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- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 13
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 20
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 9
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- 230000000737 periodic effect Effects 0.000 claims abstract description 3
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 3
- NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N Titanium nitride Chemical compound [Ti]#N NRTOMJZYCJJWKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N trimethyl(1,1,2,2,2-pentafluoroethyl)silane Chemical compound C[Si](C)(C)C(F)(F)C(F)(F)F MTPVUVINMAGMJL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 5
- -1 titanium halide Chemical class 0.000 abstract description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 abstract 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 13
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 9
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910005091 Si3N Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910010068 TiCl2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000013019 agitation Methods 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000007731 hot pressing Methods 0.000 description 1
- 238000004663 powder metallurgy Methods 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L titanium(ii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ti+2] ZWYDDDAMNQQZHD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/52—Multiple coating or impregnating multiple coating or impregnating with the same composition or with compositions only differing in the concentration of the constituents, is classified as single coating or impregnation
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセラミック工具の改良に関するものである。詳
細には、耐摩耗性を向上した被覆工具の応用範囲の拡大
に関する。
細には、耐摩耗性を向上した被覆工具の応用範囲の拡大
に関する。
[従来の技術]
本発明はA1基、Zr基セラミック工具を基体とした被
覆層を有する工具に関するものである。
覆層を有する工具に関するものである。
硬質相が酸化アルミニウム、ジルコニア等からなるセラ
ミック工具は、高速切削等の分野において長寿命の切削
工具として実用に供せられている。
ミック工具は、高速切削等の分野において長寿命の切削
工具として実用に供せられている。
しかし、強度的に劣るため被覆に関してはほとんど検討
されていなかった。ただ、Si基セラミックが鋼切削に
応用した場合鋼との溶着を防止するため、酸化アルミニ
ウム等の被覆が行われている。
されていなかった。ただ、Si基セラミックが鋼切削に
応用した場合鋼との溶着を防止するため、酸化アルミニ
ウム等の被覆が行われている。
また、基体には超硬合金と異なり結合金属を含有しない
ため硬質相またはガラス相と称される相に蒸着しなくて
はならないため密着性を向上させる必要が有った。
ため硬質相またはガラス相と称される相に蒸着しなくて
はならないため密着性を向上させる必要が有った。
上記の様に従来の超硬合金と異なり基体の表面部に耐摩
耗性の高い膜を施し効果を上げるには、緻密で微細な膜
を生成する必要がある。また、その反面、成膜時に基体
と皮膜界面に生ずる脆弱な脱炭層がなく強度的には劣化
が少ないというメリットもある。
耗性の高い膜を施し効果を上げるには、緻密で微細な膜
を生成する必要がある。また、その反面、成膜時に基体
と皮膜界面に生ずる脆弱な脱炭層がなく強度的には劣化
が少ないというメリットもある。
まず物理蒸着法(PVD)の特長を生かして、低温にて
成膜を試みたが密着性に乏しく、一応成膜は出来るが切
削工具としては適用できなかった。
成膜を試みたが密着性に乏しく、一応成膜は出来るが切
削工具としては適用できなかった。
さらに、化学蒸着法(CVD)では、成膜時の温度が高
く、蒸着初期において粒子の成長が有り、厚くして行く
にしたがい粒子が粗くなった。
く、蒸着初期において粒子の成長が有り、厚くして行く
にしたがい粒子が粗くなった。
そのためCVD法のの低温化を検討した。
通常行われている化学蒸着法は1000°C〜1050
°Cでカーボン源としてメタンガス、窒素源として窒素
ガス、Ti源としてハロゲン化チタンを用いて、T1C
Nを成膜する(以後高温化学蒸着法HT −CV Dと
称す)が、低温化にはより反応性の高いガスが必要であ
り、カーボン源、窒素源として有機CN化合物系のガス
、Tii#としてハロゲン化チタンを用いて、T i
CNを成膜する(以後中温化学蒸着法MT−CVDと称
す)ものである。またTiNの成膜は、その生成エネル
ギーが低いため、900°C以下でも十分成膜可能であ
る。低温化により、粒子の成長が抑えられ緻密で微細な
M質が得られる。
°Cでカーボン源としてメタンガス、窒素源として窒素
ガス、Ti源としてハロゲン化チタンを用いて、T1C
Nを成膜する(以後高温化学蒸着法HT −CV Dと
称す)が、低温化にはより反応性の高いガスが必要であ
り、カーボン源、窒素源として有機CN化合物系のガス
、Tii#としてハロゲン化チタンを用いて、T i
CNを成膜する(以後中温化学蒸着法MT−CVDと称
す)ものである。またTiNの成膜は、その生成エネル
ギーが低いため、900°C以下でも十分成膜可能であ
る。低温化により、粒子の成長が抑えられ緻密で微細な
M質が得られる。
またMT−CVD法の特長としてT1CN基合金におい
ても同様に成膜できるため、サーメットへの応用も十分
に可能である。
ても同様に成膜できるため、サーメットへの応用も十分
に可能である。
[作用〕
以上のごとく、本発明は周期律表の4 a、 5 a
16a族の炭化物、窒化物、炭窒化物の1種以上と、酸
化アルミニウム、シリコン化合物の1種以上よりなる超
硬質合金を基体とし、基体上に、 1.0−10ミクロ
ンのMT−CVD法による炭化チタン、窒化チタン、炭
窒化チタンの1種または2種以上、オヨび0.5−5ミ
クロン(7) HT −CV D法による酸化アルミニ
ウムまたは/および窒化チタンを被覆したことを特徴と
する被覆セラミック工具である。
16a族の炭化物、窒化物、炭窒化物の1種以上と、酸
化アルミニウム、シリコン化合物の1種以上よりなる超
硬質合金を基体とし、基体上に、 1.0−10ミクロ
ンのMT−CVD法による炭化チタン、窒化チタン、炭
窒化チタンの1種または2種以上、オヨび0.5−5ミ
クロン(7) HT −CV D法による酸化アルミニ
ウムまたは/および窒化チタンを被覆したことを特徴と
する被覆セラミック工具である。
本発明による被覆工具の膜は以下の理由により限定され
る。
る。
1 )MT−CVD法 1.0〜10ミクロン窒化チタ
ン及び/叉は炭窒化チタンの1種または2種以上 MT−CVD法の膜厚が1.0ミクロン未満では充分な
耐摩耗性を付与することが出来ず、 10ミクロンをこ
えると剥離を生じ易くなるため、 1゜0〜10ミクロ
ンとした・ 2)HT−CVD法 0. 5〜5ミク0ン酸化アルミ
ニウム及び/または窒化チタンf■T −CV D法の
膜厚が0.5ミクロン未満では充分な耐摩耗性を付与す
ることが出来ず、5ミクロンをこえると剥離を生じ易く
なるため、0゜5〜5ミクロンとした。
ン及び/叉は炭窒化チタンの1種または2種以上 MT−CVD法の膜厚が1.0ミクロン未満では充分な
耐摩耗性を付与することが出来ず、 10ミクロンをこ
えると剥離を生じ易くなるため、 1゜0〜10ミクロ
ンとした・ 2)HT−CVD法 0. 5〜5ミク0ン酸化アルミ
ニウム及び/または窒化チタンf■T −CV D法の
膜厚が0.5ミクロン未満では充分な耐摩耗性を付与す
ることが出来ず、5ミクロンをこえると剥離を生じ易く
なるため、0゜5〜5ミクロンとした。
以下、本発明に関し具体的に説明する。
[実施例1〕
平均粒径0.1μm、純度99.9%のα酸化アルミニ
ウム、Z r O2粉末(同1. 0μm)および結晶
粒微細化の効果を検討するためにMgO粉末(1,0μ
m)を使用して、A l 203−30%Zr02−0
.5%MgOのセラミツクを通常の粉末冶金法で製作し
た。切削試験用にの5NP432の形状に加工した。ま
た、このチップをCVD反応炉中に設置し、H2ガスを
流しながら、800°Cまで昇温した。 800°Cよ
りTiC1,2%、CH3CN 2%、H2残からな
る混合気体を流量7 ¥K / m i n 圧力4
0 m m Hgの条件で供給し0.5時間反応させ基
体上にT1CNを2ミクロン被覆した。そのチップを、
さらに1000°Cまで昇温し、混合気体をTiCl2
2%、N。
ウム、Z r O2粉末(同1. 0μm)および結晶
粒微細化の効果を検討するためにMgO粉末(1,0μ
m)を使用して、A l 203−30%Zr02−0
.5%MgOのセラミツクを通常の粉末冶金法で製作し
た。切削試験用にの5NP432の形状に加工した。ま
た、このチップをCVD反応炉中に設置し、H2ガスを
流しながら、800°Cまで昇温した。 800°Cよ
りTiC1,2%、CH3CN 2%、H2残からな
る混合気体を流量7 ¥K / m i n 圧力4
0 m m Hgの条件で供給し0.5時間反応させ基
体上にT1CNを2ミクロン被覆した。そのチップを、
さらに1000°Cまで昇温し、混合気体をTiCl2
2%、N。
2%の組成に変え6時間反応させ基体上にTjNを4ミ
クロン形成させた。次に混合気体をCO2% AlCl
32% H2残からなる混合気体を流1i 71K /
m i n圧力40 m m Hgの条件で供給し4
時間反応させ基体上にA 1.03を2ミクロン被覆し
た。
クロン形成させた。次に混合気体をCO2% AlCl
32% H2残からなる混合気体を流1i 71K /
m i n圧力40 m m Hgの条件で供給し4
時間反応させ基体上にA 1.03を2ミクロン被覆し
た。
このチップを基体のみ、市販のコーティングチップ(基
体−超硬合金−TiC6ミクロン−A12032ミクロ
ン)で切削試験を以下の条件で実施した。
体−超硬合金−TiC6ミクロン−A12032ミクロ
ン)で切削試験を以下の条件で実施した。
切削速度 200m/mjn
送り 0. 2mm/rev
切込み 2.0mm
被削材 Fe12
寿命判定 VB=0.2mm
その結果、本発明の被覆工具は80分切削出来しかも、
正常な摩耗を示したのに対し、市販のコ−ティングチッ
プは40分程度で寿命に達した。
正常な摩耗を示したのに対し、市販のコ−ティングチッ
プは40分程度で寿命に達した。
また基体のみは50分程度で寿命に達した。
さらにセラミックの特長である高速切削での耐摩耗性を
比較するため切削速度を550 m / m i n以
外は同様な切削条件で行った結果、寿命まで本発明は8
分、基体のみは5分と長寿命化を達成でき た。
比較するため切削速度を550 m / m i n以
外は同様な切削条件で行った結果、寿命まで本発明は8
分、基体のみは5分と長寿命化を達成でき た。
[実施例2〕
ホットプレスして、相対密度が99.5%であるφ50
のSi3N、焼結体5NGN432チツプに加工しこの
チップを実施例1と同様なCVD炉中において、成膜詩
の混合気体の成分、流盪、反応時間を種々変化させ第1
表に示す膜質、膜厚のチップを作成した。
のSi3N、焼結体5NGN432チツプに加工しこの
チップを実施例1と同様なCVD炉中において、成膜詩
の混合気体の成分、流盪、反応時間を種々変化させ第1
表に示す膜質、膜厚のチップを作成した。
実施例1と同様な切削条件でテストした結果について第
1表に併記した。
1表に併記した。
第1表の結果より、耐摩耗性にかんしては耐溶着性が改
善され皮膜が有る程度までは摩耗をカバーするため大幅
に改善される。また複層の皮膜を生成し膜の微細化を計
り、さらに最外層に窒化チタンを成膜する等、 膜質により 向上させることも 可能である。
善され皮膜が有る程度までは摩耗をカバーするため大幅
に改善される。また複層の皮膜を生成し膜の微細化を計
り、さらに最外層に窒化チタンを成膜する等、 膜質により 向上させることも 可能である。
第
表
*、MT−CVD法
〔発明の効果〕
本発明の工具はセラミック基体表面に緻密で微細な膜質
なT1CN等を成膜する事により耐摩耗性をより向上さ
せ、溶着性、刃先強度を増したものであり、被覆セラミ
ック基具の特長をより生かした被覆工具を提供するもの
である。
なT1CN等を成膜する事により耐摩耗性をより向上さ
せ、溶着性、刃先強度を増したものであり、被覆セラミ
ック基具の特長をより生かした被覆工具を提供するもの
である。
Claims (1)
- 周期律表の4a,5a,6a族の炭化物、窒化物、炭窒
化物の1種以上と、酸化アルミニウム、シリコン化合物
の1種以上よりなる超硬質合金を基体とし、基体上に、
1.0−10ミクロンのMT−CVD法による炭化チタ
ン、窒化チタン、炭窒化チタンの1種または2種以上、
および0.5−5ミクロンのHT−CVD法による酸化
アルミニウムまたは/および窒化チタンを被覆したこと
を特徴とする被覆セラミック工具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1249850A JPH0819525B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 被覆セラミック工具の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1249850A JPH0819525B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 被覆セラミック工具の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03111572A true JPH03111572A (ja) | 1991-05-13 |
JPH0819525B2 JPH0819525B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=17199115
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1249850A Expired - Lifetime JPH0819525B2 (ja) | 1989-09-26 | 1989-09-26 | 被覆セラミック工具の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0819525B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6213430A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-22 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 加硫可能なシラン末端ポリウレタンポリマ− |
JPS6244572A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-26 | Hitachi Carbide Tools Ltd | 表面被覆工具 |
JPS6355181A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-09 | 住友電気工業株式会社 | 被覆セラミツクス工具 |
-
1989
- 1989-09-26 JP JP1249850A patent/JPH0819525B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6213430A (ja) * | 1985-06-28 | 1987-01-22 | ユニオン・カ−バイド・コ−ポレ−シヨン | 加硫可能なシラン末端ポリウレタンポリマ− |
JPS6244572A (ja) * | 1985-08-21 | 1987-02-26 | Hitachi Carbide Tools Ltd | 表面被覆工具 |
JPS6355181A (ja) * | 1986-08-27 | 1988-03-09 | 住友電気工業株式会社 | 被覆セラミツクス工具 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0819525B2 (ja) | 1996-02-28 |
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