JPH03106425A - 分離膜及びその製作方法 - Google Patents
分離膜及びその製作方法Info
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- JPH03106425A JPH03106425A JP24433989A JP24433989A JPH03106425A JP H03106425 A JPH03106425 A JP H03106425A JP 24433989 A JP24433989 A JP 24433989A JP 24433989 A JP24433989 A JP 24433989A JP H03106425 A JPH03106425 A JP H03106425A
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- selective permeability
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- Pending
Links
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Landscapes
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は、混合液体又は混合気体から特定の液体,気体
を分離させるための分l1tB及びその製作方法に関す
るものである.
を分離させるための分l1tB及びその製作方法に関す
るものである.
従来のこの種分離膜としては、,圧延,押出し,延伸等
の機械的手段によって製作されたものやγ線の照射,エ
ッチング等の手段によって製作されたものが知られてい
る。 ところで,良好な選択透過特性を有し,実用可能な透過
速度を有する分l!Ii膜を製作するためには,特に、
膜表面の物理化学的特性(例えば、分離すべき液体,気
体分子との親和性等)の任意な制御が望まれる.
の機械的手段によって製作されたものやγ線の照射,エ
ッチング等の手段によって製作されたものが知られてい
る。 ところで,良好な選択透過特性を有し,実用可能な透過
速度を有する分l!Ii膜を製作するためには,特に、
膜表面の物理化学的特性(例えば、分離すべき液体,気
体分子との親和性等)の任意な制御が望まれる.
しかし,』一記した延伸等の手段によっては、膜表面の
分子個々に与えるエネルギが極少であるため、期待され
るような表面分子の変或は必ずしも生起せず、しかも,
その作用領域,作用の方向性の制御は殆ど不可能であっ
た. 本発明は、このような点に鑑みてなされたもので,良好
な選択透過性を有し且つ実用可能な透過速度を有する分
離膜及びこれを好適に製作しうる方法を提供することを
目的とするものである.
分子個々に与えるエネルギが極少であるため、期待され
るような表面分子の変或は必ずしも生起せず、しかも,
その作用領域,作用の方向性の制御は殆ど不可能であっ
た. 本発明は、このような点に鑑みてなされたもので,良好
な選択透過性を有し且つ実用可能な透過速度を有する分
離膜及びこれを好適に製作しうる方法を提供することを
目的とするものである.
この課題を解決した本発明の分離膜は,微小空孔を有す
る薄膜又は選択透過性を有する均質薄膜からなる基体膜
の表面に不活性ガス又は反応性ガスのプラズマ重合によ
る表面層を形成したものである. 基体膜は例えば100μm程度の厚みのフィルム状に或
形され,その構成材としては多孔質弗素樹脂,多孔質ポ
リカーボネート,多孔質炭化珪素等が使用される.また
、表面層厚さは100人程度としておくことが好ましく
,層構成物質としてはシリコンゴム,ポリスルホン樹脂
,ポリメチルペンテン樹脂,ポリプロピレン,弗素樹脂
等が選択される. また、かかる分離膜を製作するための本発明の方法は、
微小空孔を有する薄膜又は選択透過性を有する均質薄膜
を所定形状の基体膜に成形する際又は成形後に、該薄膜
又は基体膜の表面に不活性ガス又は反応性ガスのプラズ
マを作用させることによって Ill表面にプラズマ重
合による表面層を形或するようにしたものである. すなわち,膜表面にガスプラズマを作用させることによ
って,分離膜の化学的活性度,表面層原子の結合状態等
を制御させるのである.基体膜又はその構或膜の表面を
ガスプラズマに晒すことによって,プラズマの電子線,
紫外線等により膜表面分子の架橋切断を行わしめ、或い
は重合反応を促進せしめ、プラズマ中のイオン又はラジ
カル原子と膜表面分子との反応等によって,膜表面分子
の化学構造又は膜表面の物理的構造を変化させるのであ
る.高真空中に引き出したイオン又は活性化原子,分子
を膜表面に照射させるようにしてもよい.
る薄膜又は選択透過性を有する均質薄膜からなる基体膜
の表面に不活性ガス又は反応性ガスのプラズマ重合によ
る表面層を形成したものである. 基体膜は例えば100μm程度の厚みのフィルム状に或
形され,その構成材としては多孔質弗素樹脂,多孔質ポ
リカーボネート,多孔質炭化珪素等が使用される.また
、表面層厚さは100人程度としておくことが好ましく
,層構成物質としてはシリコンゴム,ポリスルホン樹脂
,ポリメチルペンテン樹脂,ポリプロピレン,弗素樹脂
等が選択される. また、かかる分離膜を製作するための本発明の方法は、
微小空孔を有する薄膜又は選択透過性を有する均質薄膜
を所定形状の基体膜に成形する際又は成形後に、該薄膜
又は基体膜の表面に不活性ガス又は反応性ガスのプラズ
マを作用させることによって Ill表面にプラズマ重
合による表面層を形或するようにしたものである. すなわち,膜表面にガスプラズマを作用させることによ
って,分離膜の化学的活性度,表面層原子の結合状態等
を制御させるのである.基体膜又はその構或膜の表面を
ガスプラズマに晒すことによって,プラズマの電子線,
紫外線等により膜表面分子の架橋切断を行わしめ、或い
は重合反応を促進せしめ、プラズマ中のイオン又はラジ
カル原子と膜表面分子との反応等によって,膜表面分子
の化学構造又は膜表面の物理的構造を変化させるのであ
る.高真空中に引き出したイオン又は活性化原子,分子
を膜表面に照射させるようにしてもよい.
本発明によれば、膜表面の物理化学的特性を任意に制御
し得て、良好な選択透過特性及び実用的な透過速度を有
する分離膜を提供することができる.
し得て、良好な選択透過特性及び実用的な透過速度を有
する分離膜を提供することができる.
Claims (2)
- (1)微小空孔を有する薄膜又は選択透過性を有する均
質薄膜からなる基体膜の表面に、不活性ガス又は反応性
ガスのプラズマ重合による表面層を形成したことを特徴
とする分離膜。 - (2)微小空孔を有する薄膜又は選択透過性を有する均
質薄膜を所定形状の基体膜に成形する際又は成形後に、
該薄膜又は基体膜の表面に不活性ガス又は反応性ガスの
プラズマを作用させることによって、膜表面にプラズマ
重合による表面層を形成するようにしたことを特徴とす
る分離膜の製作方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24433989A JPH03106425A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 分離膜及びその製作方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24433989A JPH03106425A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 分離膜及びその製作方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH03106425A true JPH03106425A (ja) | 1991-05-07 |
Family
ID=17117238
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24433989A Pending JPH03106425A (ja) | 1989-09-19 | 1989-09-19 | 分離膜及びその製作方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH03106425A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012169507A1 (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-13 | 富士フイルム株式会社 | プラズマ重合性組成物、これを用いたプラズマ重合膜、構造体及び表面改質方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5624018A (en) * | 1979-06-25 | 1981-03-07 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | Gas separating member and production thereof |
JPS6051505A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Toshiba Corp | ガス選択性複合膜 |
JPS60110304A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 選択性透過膜 |
JPS60255111A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸素選択透過性複合膜およびその製造方法 |
JPS62210008A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-16 | Agency Of Ind Science & Technol | エタノール分離用液体分離膜 |
-
1989
- 1989-09-19 JP JP24433989A patent/JPH03106425A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5624018A (en) * | 1979-06-25 | 1981-03-07 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | Gas separating member and production thereof |
JPS6051505A (ja) * | 1983-08-31 | 1985-03-23 | Toshiba Corp | ガス選択性複合膜 |
JPS60110304A (ja) * | 1983-11-18 | 1985-06-15 | Sanyo Chem Ind Ltd | 選択性透過膜 |
JPS60255111A (ja) * | 1984-05-30 | 1985-12-16 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸素選択透過性複合膜およびその製造方法 |
JPS62210008A (ja) * | 1986-03-10 | 1987-09-16 | Agency Of Ind Science & Technol | エタノール分離用液体分離膜 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2012169507A1 (ja) * | 2011-06-10 | 2012-12-13 | 富士フイルム株式会社 | プラズマ重合性組成物、これを用いたプラズマ重合膜、構造体及び表面改質方法 |
JP2013014754A (ja) * | 2011-06-10 | 2013-01-24 | Fujifilm Corp | プラズマ重合性組成物、これを用いたプラズマ重合膜、構造体及び表面改質方法 |
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