JPH029873A - ガンマーブチロラクトンの製造方法 - Google Patents

ガンマーブチロラクトンの製造方法

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JPH029873A
JPH029873A JP1103279A JP10327989A JPH029873A JP H029873 A JPH029873 A JP H029873A JP 1103279 A JP1103279 A JP 1103279A JP 10327989 A JP10327989 A JP 10327989A JP H029873 A JPH029873 A JP H029873A
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ポール タステンホイエ
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は液相で無水マレイン酸を接触水素添加すること
によシ、がンマープテp〜ラクトンを製造する新規な方
法に関する。
無水マレイン酸の接触水素添加が無水コハク酸、がンマ
ーブチロラクトン、1,4−ブタンジオールンよひ(ま
たは)テトラヒドロフランのような撞々の生成物、なら
びにプロパツール、ブタノール、酪酸などのような価値
の低い他の水素添加生成物を導くことは周知でありおよ
びまた特別の触媒を使用することによって、これらの水
素添加生成物のうちの好ましい一種だけを得るための程
々の試みがなされていることも周知である。
最適収量でがンマーブチロラクトンを得るためには、こ
の生成物を二工程で合成する方法が提案されており、こ
の方法は先ず無水マレイン酸を比較的低い温度および圧
力において無水コハク酸に変換し、次いで無水コハク酸
をさらに高い圧力および温度においてがンマーブチロラ
クトンに変換することにより行なわれる(たとえは、米
国特許第4.025,534号参照)。
しかしながら、この二工程法はいくつかの理由で、技術
的VC$−よひ経済的VC8ま夛重要ではない。
確かに、1個の反応器で、しかし反応の進行段階に従い
異なる温度帯域をもうけて操作するか、あるいは異なる
操作条件下に操業する2個の反応器金柑いて操作する必
要がある。この2個の反応器を使用する場合には、コハ
ク酸がそこで合成されている反応器からがンマーブチロ
ラクトンを合成させる反応器に、反応混合物を高温およ
び加圧下に移動させるための何らかの手段を用意する必
要がある。
従って、無水マレイン酸を一工程で直接に、ガンマ−ブ
チロラクトンに変換することができることははるかにさ
らに有利であることが判る。しかしながら、この方法に
は格別に多くの困難が付随する。
第一に、順次的水素添加反応はそれぞれ、それ自体の運
動力学およびそれ自体の条件を有する。
すなわち、無水コハク酸のがンマーブチロラクトンへの
水素添加は無水マレイン酸の無水コハク酸への水素添加
よりも、はるかに激しい操作条件(格別に高い温度およ
び圧力、ならひに増加した触媒Jl)t−必要とする。
従って、無水マレイン酸をガンマ−ブチロラクトンに直
接変換するためには、必要な触媒量を無水コハク酸のガ
ンマ−ブチロラクトンへの水素添加反応に適合させねは
ならない。しかしながら、このような量の触媒が存在す
ると、非常に短期間に重大量の熱が放出される。
これは無水マレイン酸の無水コー・り酸への水素添加反
応が格別の発熱特性を有することからである。
実際に、この反応は生成される無水コノ・り酸の1モル
当りで約32.3 kcal  t−放出する。従って
、先ず第一に、無水マレ・イン酸のがンマーブチロラク
トンへの直接変換に使用するための触媒はこの発熱作用
に耐性であることができて、妥当な有効寿命を有してい
なけれはならす、さもなければ、この方法の利点が深酷
に害される。
第二に、がンマーブチロラクトンはこの水素添加反応の
中間生成物であるにすぎず、これはでらに水素添加され
て1,4−ブタンジオールに、および(tたはうテトラ
ヒドロフランになることができることが知られている。
ここでは、1,4−ブタンジオールを導く後続の反応が
回避されなけれはならない。何故ならはこのジオールは
未変侠無水コハク酸と反応して、価値のないエステルで
生成するからでおり、このエステルはやっかいな分離方
法を必要とし、烙らにまた、強力な触媒毒を構成するか
らである。この水素添加反応がプロパツール、ブタノー
ル、ゾロピオン酸、酪酸などのような成る数の価値の低
い副生成物を導くことができることも知られている。
従って、使用する触媒がガンマ−ブチロラクトンの生成
に対して高度に選択的であり、これらの望ましくない副
生成物の生成を最少にすることが必須である。
変換反応を所望の生成物、すなわちガンマ−ブチロラク
トンの時点で止めるためには、水素添加を低い変換率で
行なうことができることは判る。
しかしながら、この操作方法はいくつかの技術的問題を
生じさせる。すなわち、無水コー・り酸の低い溶解度お
よびその高い融点(119,6℃)が量販になる。さら
に、低い変換率では、多くの再循環工程で操作すること
が必須になり、これはこの方法の生産性に有害であり、
ま九製造価格tX大に増大する加熱管の使用を要する。
従って、使用する触媒は非常に選択的でなければならな
いはかりでなく、また同時に、できれば90%を越える
非常に高い変換率を達成するために、高度に活性でなけ
ればならない。
嘔らにまた、水素添加を比較的高い温度で行なうと、ゾ
ロピオン酸および酪酸のような副生成物の生成が増加す
ることが知られている。従って、充分に低温で活性であ
る触媒を使用して、これらの副生成物の生成を最少にす
ることが望ましい。
同様にまた、水素添加が工場および操作(装置、コンプ
レッサーなど)の費用を最少にするために比較的低い圧
力で行なうことができることが望ましい。
結論として、無水マレイン酸からがンマーブチロラクト
ンを有利に生成することができる触媒を見い出すことは
難かしい。
この目的のための理想的触媒は下記の要件に適合しなけ
ればならない: (1)無水マレイン酸を一工程で直接に、がンマーブチ
ロラクトンに変換することができなけれはならない; (2)  がンマーブチロラクトンの生成に対して高度
に選択的であり(96モル%およびそれ以上)、副生成
物の生成を最少にせねばならない;(3)反応を非常に
高い変換率、好ましくは90モル%より大きい変換率で
行なうことができるに充分の活性を有していなければな
らない;(4)  比較的低い温度(たとえば200〜
240℃の範囲内)および比較的低い圧力(たとえは、
100バール以下の圧力)で活性でなけれはならない; (5)  長い活性寿命を有していなければならない(
すなわち、認知できる脱活性化を伴なわない);(61
その価格が受容されるものでなけれはならな−1゜ この分野の従来技術水準を検討してみると、大部分の既
知の触媒、は上記要件の全部の点で全く充分なものでは
ないことが判る。たとえは、米国特許第3,948,8
05号には、無水マレイン酸を一工Wで、がンマーブチ
ロラクトンに対して隔い選択性(96〜96モル%)を
有する触媒の存在の下でがンマーブチロラクトンに変換
することが提案されている。しかしながら、この結果を
得るために使用されている触媒の組成は高度に複雑であ
る。この触媒が4糧の触媒的に活性な元素を有する2つ
の触媒よりなり、第一の触媒が酸化アルミニツム上に付
着されたニッケルおよび亜クロム酸銅にもとづくもので
あり、他方、第二の触媒が活性炭上に支持されているパ
ラジウムにもとづくものであることは確かである。その
実施例によれは、無水マレイン酸の水素添加が100〜
150バールで変化できる比較的高い圧力の下で行なわ
れていることも確かである。米国特許第4.096,1
56号にはまた、無水マレイン酸のがンマーブチロラク
トンへの変換において非常に高い選択性(90モル%お
よびそれ以上)が記載されているが、これらの選択性は
数種の貴金属を格別の量で含有する非常に高価な触媒を
使用した結果として得られている。その例によれは、こ
れらの触媒は金属の形態で、バラジクム約11.8i量
%(または白金約9.8重量%と組合されたパラジウム
5.7重量%)および銀および(または)金2.5〜5
.2重!に%を含有する。さらにまた、この無水マレイ
ン酸の水素添加は非常に高い圧力(189〜215バー
ル)の下で行なわれている。米国特許第3,994,9
28号には、直径2〜6nを有する5102の球形ベレ
ットまたは珪藻±(キーゼルが−)上に付着されている
酸化コバルトおよびパラジウムよりなる触媒が提案され
ている。この触媒の価格は多少受容されるものであるが
、その実施例によれば、無水マレイン酸のがンマーブチ
ロラクトンへの変換は250℃の温度および150気圧
で行なわれており、従って、この方法を工業的規模で行
なわねばならない場合には、非常に複雑になり、従って
操業は非常に高価になる。種々の他の特許において無水
コへり酸をがンマーブチロラクトンに接触水素添加する
ため触媒が提案されている(%公昭46−33030号
;米国特許北4,620,017号)。しかしながら、
これらの方法では、先ず、異なる触媒を使用できる分離
した#!造ユニットにおいて、無水マレイン酸が無水コ
ノ・り散に変換せねばならない。
すでに上記で説明したように、−工程で、無水マレイン
酸をがンマーブチロラクトンに直接変換することを可能
にする方法および触媒を提供することは技術的におよび
経済的に極めて重要である。
特公昭46−33030号には、パラジウム、ルテニウ
ム、白金およびオスミウムから選はれる貴金属およびニ
ッケルからなる二金属系触媒の製造が記載されている。
これらの触媒は支持材料の不存在の下で使用できるもの
であるが、好ましくは支持されている触媒として使用さ
れる。支持材料としては、シリカゲル、アルミナンよひ
シリカ−アルミナがあげられているが、ケインウ土は好
ましいものとして使用されている。この特許出願に水爆
れている由−の例では、生成された触媒は260℃の温
度および120 K/cm”の圧力の下で無水コハク酸
の接触水素添加に使用されている。
最良の結果は、触媒がニッケルおよびパラジウムからな
る場合に得られている。しかしながら、特に使用される
触媒が触媒の総Jilt(すなわち金属+支持材料)K
もとづき50重重量上り多くの金属にニッケルおよび貴
金属)を含有するにもかかわらず、ガンマ−ブチロラク
トンの生成に対するその選択性は全く低いままであり、
はとんど70モル%には達しない。また、無視できない
量の副生成物が生成される(テトラヒドロフラン6.6
モル%、n−プロパツール2.8モル%およびその他の
未同定生成物24.1モル%)。
本発明によって、本発明者等は驚くべきことに触媒の触
媒的活性元素としてパラジウムとともにニッケルをまた
使用するが、支持材料として非常に高い比表面積を有す
るシリカを選択することによって、前記(1)〜(6)
に示した技術的および経済的要件の全部を満たし、従っ
て、−工程による無水マレイン酸からのがンマーブチロ
ラクトンの製造において極めて有利に使用することがで
きる優れた触媒を製造することができることを発見した
従って、本発明により、液相で無水マレイン酸を高温お
よび加圧の下で、少なくとも50 m2zl、好ましく
は少なくとも1 [30m2/9の比表面積を有するシ
リカ基材の支持材料上に付着させたニッケルおよびパラ
ジウムからなる触媒の存在下に、水素と反応させること
を含む接触水素添加によるがンマーブチロラクトンの新
規な製造方法が提供される。
特公昭46−33030号で使用されている触媒に比較
して、本発明による方法で使用されるニッケルーパラジ
ウム触媒は非常に高い比表面積を有するシリカ基材支持
体上に付着されて訃り、この比表面積値は50 m2/
9から、好ましくは約100 m27flから約800
 m2/、fi+お上ひそれ以上までの範囲であること
ができる。
本発明者等は、このニッケルーパラジウム触媒が高い比
表面積を有するシリカ基材支持体上に付着させた場合に
、高度に活性になり、その結果として、90〜98モル
%のレベルにある非常に高い変換率が得られ、さらにま
たこの変換率はがンマーブチロラクトンの製造に対して
95〜97モル%の優れた選択性を伴なうことを確実に
見い出した(これに対して、特公昭46−33030号
で生成されるブチロラクトンは最高で、69.5モル係
である)。さらにまた、この触媒が無水71/イン酸の
水素添加に対して活性である温度および圧力は低く、2
00〜240℃の温度および50〜100バールの圧力
において操作して、非常に好ましい結果を得ることがで
きることが見い出てれた。
さらにまた、支持されている触媒の総重量にもとづき、
ニッケル含有量(金属として計算して〕が8〜25重量
係の範囲にあるだけであり、そしてパラジウム含有!(
金属として計算して)が0.5〜4重量係の範囲にある
だけである触媒を使用して、格別の結果を得ることがで
きることが見い出された。従って、本発明に従い使用さ
れるニッケルーパラジウム触媒の製造に必要な金属の量
は、特公昭46−33030号に記載の触媒に必要な量
に比較して格別に低く、これは明らかに経済的に有利で
ある。
高い比表面積を有するシリカ基材支持材料を使用する結
果として、ニッケルーパラジウム触媒の活性における格
別の増加を得ることができるということは総体的に予想
外のことである。何故ならば、無水マレイン酸の水素添
加に関するかなりの特許において、0.1〜10 m2
/9の低い比表面積を有する、ケイソウ±(%公昭46
−33030号)またはキーゼルが−のような類似の支
持材料(たとえは、米国特許第4,096,156号、
第3欄、19〜21行参照)が好ましいものとしてあげ
られているからである。
さらに最近に、米国特許第4,620,017号におい
て、少なくとも50 m2/!Vの比表面積を有するシ
リカが支持材料として提案された。この特許には、30
0 m2/11の比表面積を有するシリカ支持体に付着
させたニッケル触媒中にジルコニウムまたはセリウムを
配合すると、ガンマ−ブチロラクトンに対する選択性に
有意に有益な効果が得られることが示されている。
しかしながら、高い比表面積を有するシリカから主とし
てなる支持体の触媒活性に対する有益な作用は触媒の構
成に使用される金属の塊頌に密接に関連していることに
留意すべきである。本発明者等は高い比表面積を有する
シリカ基材の支持体の有益な効果が、この触媒にニッケ
ルの代りにコバルトを使用するか、またはパラジウムの
代りに白金またはモリブデンのような他の活性触媒元素
を使用した場合には、全く得られないことを確実に見い
出した。
ここで、本発明による触媒およびその製造、ならびに無
水マレイン酸の接触水素添加方法をさらに詳細に説明す
る。
16  触媒 本発明の方法で使用する触媒は触媒活性元素としてニッ
ケルおよびパラジウムを金属形態で含有する。本触媒の
製造に使用される原材料は水に可洛性であり、かつまた
熱的還元によって金属形態の元素Nis?よひPdを生
成できる化合物である。
この種の化合物は、たとえは下記の化合物を包含する: ニッケルに関して:硝酸塩、−1F′酸塩、ンユク酸塩
、均石酸塩、クエン酸塩 等; パラジウムに関して:クロライド、パラジウム(II)
テトラアミンクロライドの ようなアミン複合化合物 (:Pd(NH3)+)CJ□等。
本発明に従い、触媒的に活性な元素にニッケルおよびパ
ラジウム)は少なくとも50[n2/9、好ましくは少
なくとも100 m2/9 (これはB、E、T。
/N2法により測定した; ASTM D 3663−
84)の比表面積を有するシリカ基材支持体上で使用す
る。好ましいシリカ基材支持体は約100 m”/g〜
約800 m2/9およびそれ以上の範囲の比表面積を
有する。本発明に従い使用することができる高い比表面
積を有するシリカ基材支持材料は少なくとも70重量係
の5i02含有量を有する。好適な支持体は8102を
75〜100重量係の割合で含有する。
高い比表面積を有する支持体が全体的にシリカから構成
されていない壜台には、このようなシリカを他の耐火性
無機酸化物、たとえば酸化アルミニウム、二酸化チタン
などと組合せる。高い比表面積を有するこれらの支持体
は、たとえはA、 J。
LEONARD等により、Discussions F
avaday Sac。
52、(1971年)、98〜108頁に記載されてい
る方法のようなそれ自体既知の方法によって得ることが
できる。−例として、高い比表面積を有するシリカはテ
トラエチルオルト−シリケートから、酢酸のような酸の
m液を使用して、80〜90℃の温度で加水分解し、こ
のようにして得られたゲルを400〜1000℃の温度
で焼成することによって得ることができる。市販の高い
比表面積を有する支持体を使用することもできる。
これらは、たとえはRHONE−POULENC、DE
GUS8A 。
W、 R,GRACE Inc、およびREDCON、
 V、  により販売されている。
本発明に従い使用される支持体は5〜100μ乎の粒子
サイズを有する粉末形態である。
異なる化学組成を有する支持体、たとえは酸化アルミニ
ウム、酸化マグネシウム、リン酸アルミニクム、低い5
102含有量を有するアルミノ−シリケートあるいはゼ
オライト’t−使用する場合には触媒活性の急激な低下
が見い出された。
本発明の触媒のニッケル含有量(金属として計算して〕
は一般に、支持されている触媒の総重量にもとづき約5
〜約50重量係、好ましくは7〜40重量係の範囲にあ
り、そのパラゾクム含有量(金属として計算して)は一
般に、支持されている触媒の総重量にもとづき、約0.
4〜約7重量%、好ましくは0.5〜4重量%の範囲で
ある。
下記の実施例から明らかなように、支持されている触媒
の総重量にもとづき8〜251童%だけの範囲のニッケ
ル含有量(金属として計算して)および0.5〜4重量
だけの範囲のパラジウム化合物(金属として計算して)
を有する触媒によって優れた結果を得ることができる。
2、触媒の製造 触媒の金属成分は当業者に周知の方法によりシリカ基材
支持体上に付着させることができる。
すなわち、この製造はたとえば粉末形態の支持体を、二
種の金属のうちの一種の化合物を含有する水浴液で含浸
し、このようにして得られたイーストを乾燥させ、乾燥
した粉末を他の一種の金属の化合物の水溶液で含浸し、
次いでこのようにして得られ九ペーストをもう一度乾燥
させることにより開始することができる。しかしながら
、両方の金属化合物を同時に含有する水浴液を支持体に
含浸することもでき、次いでこのようにして得られたペ
ーストを一回の乾燥工程で処理することもできる。さら
にまた、ニッケル化合物を先ず支持体上に付着させ、次
いでパラジウム化合物を付着きせる方法およびこの逆の
方法を包含することもできる。支持体上への金属化合物
の付着は如伺なる程度でも行なうことができることは明
白である。
乾燥操作は空気の存在の下で、80〜150℃の温度に
おいて、6〜20時間の間、行なうことができる。
次いで、支持された触媒材料を酸素官有気体、たとえは
空気の存在の下で、600〜750℃の温度において、
0.5〜6時間、好ましくは400〜500 ’Cの温
度において、1〜2時間、焼成する。
この酸化処理の下で、シリカ基材支持体中に含まれてい
るNiおよびPdは酸化物に変換される。
この酸化処理の終了時点で、触媒を純粋水素により、ま
たは水素と窒素とを含有する気体状混合物(この混合物
の水素含有量は5〜100容量%で変えることができる
)により還元させる。この還元Fi300〜750℃の
温度で0.5〜5時間、好ましくは400〜550℃の
温度で1〜6時間行なう。
触媒は次いで還元性気体流中で80〜1500Cの範囲
の温度にまで冷却させる。この温度で、還元性気体を0
02流で、5〜20時間、置き換える。
この後に、触媒はCO□流中で、大気温度にまで冷却さ
せ、次いでco2を空気により徐々に置き換える。その
まま使用する場合に、この触媒は5〜60μmの粒子サ
イズを有する粉末の形態である。
6、 無水マレイン酸の接触水素添加 本発明による無水マレイン酸の接触水素添加は液相にお
いて、加熱ンよひ加圧の下で、前記の支持場れている触
媒の存在下に行なう。触媒は粉末形態で液相中に導入し
、懸濁液を生成させる。無水マレイン酸は常温で固体物
質であることが知られている(その融点は約52.59
Cである)。懸濁状態の触媒の存在下における水素添加
を活性化するためには、無水マレイン酸だけを溶融状態
にすることができる。しかしながら、この方法は、第一
次水素添加(無水マレイン酸から無水コハク酸への水素
添加)の発熱作用の制御に田無が生じ、温度の格別の上
昇という危険を伴なう。この理由で、本発明の方法の好
適態様では、無水マレイン酸の接触水素添加を反応に対
してまたは反応の生成物中で不活性である溶媒の浴液中
で行なう。
この方法は多数の溶媒中で行なうことができる。
好ましくは、溶媒は次の化合物から、単独でまたは混合
物として選択するニジオキサン、テトラヒドロフラン、
ガンマ−ブチロラクトン、脂肪族炭化水素など。
一般に、溶媒中における無水マレイン酸の濃度は10〜
903kit%、好ましくは40〜6ONC景係の範囲
で変えることができる。
さらに、本発明による方法の実施に使用する触媒の量は
水素添加させる無水マレイン酸の1〜60重j1%の範
囲で変えることができる。この量は有利には無水マレイ
ン酸の5〜15重景%である。本発明による方法は技術
的観点から、100バールより低い圧力、すなわち従来
技術で採用されていた圧力より格別に低い圧力VCおい
て行なうと、実質的に有利であり、このことは操作およ
び管理上で、都合が良くかつまた経済的である慣用の反
応器および設備の使用を可能にする。工業的利用に選ば
れる方法では、操作圧力は約50〜100バールの範囲
で有利に変えることができる。
本発明による方法の必須の操作要件の一つはまた、水素
添加温度を180〜270℃1好ましくは200〜24
0℃に維持することにある。烙らに高い温度で操作する
こともできるが、がンマーブチロラクトンの生成に対す
る選択性が#6酸のような副生成物の生成によって減じ
られることが見い出された。他方、本発明の方法を18
0 ’C以下の温度で行なうと、反応速度が減少され、
さらに長い反応時間が要求きれ、反応装置の生産性の減
少をまねく。
本発明による無水マレイン酸をガンマ−ブチロラクトン
に接触水素添加する方法はたとえば下記のとおりにして
行なう: 所望量の無水マレイン酸、溶媒および触媒を反応器、た
とえは攪拌系を備えたオートクレーブに装入し、次いで
反応器を窒素で浄化する。次いで窒素を50バールの加
圧下に水素で置き換え、攪拌手段および加熱手段を駆動
させる。温度が200〜240℃に達した時点で、反応
圧力を反応の全期間にわたって約95バールに一定に維
持する°ために、追加量の水素を導入する。
反応時間は90モル%よシ多い変換率が得られるように
調整する。選択された操作パラメータに応じて、反応時
間は1〜10時間、好ましくは1.5〜3.5時間であ
る。反応の終了時点で、オートクレーブの内容物を冷却
させ、出力を緩らけ、触媒を濾別し、et叡を採収する
引続いて、触媒は同一条件における引続く水素添加で使
用するために再循環する。数回の操作の後に、触媒がそ
の活性を消失し走場合には、その一部分を新鮮な触媒と
入れ換えて、その活性を保留する。他方、濾液は、たと
えは分別蒸留によって分離し、がンマーブチロラクトン
を回収する。
本発明による方法では、90〜98モル%の変換率を非
常に容易に得ることができる;同時に、がンマーブチロ
ラクトンに対する非常に高い選択性を得ることができ、
この選択性は常に、93モル%より高く、大部分の場合
に、95〜97モル%に達する。副生成物(プロピオン
酸、酪酸)は非常に少量で生成されるだけであり、この
ことはがンマーブチロラクトンの精製操作を極めて容易
なものにする。
本発明の方法はまた、格別の経済上の重要性を有し、こ
れは、本発明による触媒が優れ九安定性を有し、かつま
たその触媒性能の実質的な減少を伴なうことなく、多数
回にわたり再循環することができるからである(下記の
例6参照)。
下記の実施例は本発明を制限することなく、例示する目
的で示すものである。これらの例にかいて、下記の定義
を使用する: 変換(モル%による)= ガンマ−ブチロラクトンに対する選択性(モル係による
)=SA=無水コノ・り酸 MA=無水マレイン酸 GBL =がンマーブチロラクトン (実際には、反応条件下における無水マレイン酸の変換
率は常に100%であるので、無水コノ・り酸の変換率
を測定する) 例1 触媒の製造 この例は本発明により使用する、支持されているニッケ
ルーパラシクム触媒を製造する二つの方法を例示するも
のである。
(a)  硝酸ニッケル[(NiNO3)z”6Hzo
〕148.69を蒸留水185.8IJLlt/C浴解
する。この溶液を、570m2/gの比表面積(BET
/N2 )を有するシリカ支持体100gで含浸する。
〔この支持体はA、J。
LEONARD等によりDiscussions Fa
raday Soc。
52、(1971年)、98〜108頁に記載された方
法に従い、テトラエチルオルトシリケートを酢酸m液に
より約82℃の温度で加水分解し、次いでこのようにし
て得られたrルを500℃の温度で焼成することにより
製造される〕。全体を注意深く混合し、このようにして
得られたペーストをオーブン中において、100℃で1
5時間乾燥させる。[Pd(NH3)4:]Cj27.
159を蒸留水185.8LtK浴解し、coei’t
、ニッケルjfLオよひ支持体を含有する粉末に含浸さ
せる。この方法で得られ九ペーストをオーブン中で、1
00℃で15時間乾燥させる。
このようにして得られた粉末を空気の存在の下で450
℃において6時間焼成する。生成する焼成された粉末は
冷却させ、次いでこの触媒の還元を行なう。このために
は、空気を75M/分の流速で水素流と置き換え、オー
プンの温度は4500Gに設定する。水素流はこの温度
で1時間、維持する。
触媒を、温度が100℃に低下するまで、水素流中で冷
却させる。この温度で、水素を、10紅/分の流速で、
CO2流と置き換える。CO2流は15時間維持する。
引続いて、このようにして得られた触媒を室温まで冷却
させる。CO21を次いで徐々に空気で置ぎ換える。こ
のようにして!!遣1れた触媒は、支持でれている触媒
の総′N量にもとづいて計算して、Ni 22.54i
量係およびPd2.33重量%を含有する。この触媒は
粉末形態である。この触媒を以下で「触媒A」と称する
(b)  硝酸ニッケル[N1(NOs)+・6H2o
〕148.6 gを蒸留水145.3dに酸層する。さ
らにCPd(NH3)*:](J27.159を蒸留水
40.5敵に各群する。これらの二つの溶液を相互に混
合する。上記(a)に記載の、570 m”/&の比表
面積を有するシリカ支持体100.1−この溶液で含浸
する。全体を注意して混合し、このようにして得られた
ペーストをオーブン中において、100℃で15時間乾
燥させる。
引続く処理(焼成、還元および不動態化)は触媒Aに関
して前記した方法と全く同一に行なう。
このようにして得られた触媒は触媒Aと同一重量のニッ
ケルおよびパラジウムを含有する。この触媒を以下で「
触媒B」と称する。
例2 がンマーブチロラクトンの!!造 (a)  例1からの触媒Aの存在の下での製造無水マ
レイン酸56g、テトラヒドロフラン569および例1
(a)に従い製造された触媒A5.69を、磁気攪拌系
および電気加熱マントルを備えた、600μ容量のステ
ンレス鋼製反応器に装入する。反応器の内容物をN累で
、次いで水素で浄化し、そ−の後、反応器の圧力を水素
により50バールに上げる。混合物の温度を欠いで26
5℃まで徐々に高め、この間、混合物は水素供給によつ
て圧力を50バールに維持しながら、攪拌する。
温度が235℃に達した時点で、反応器内の圧力を95
バールに高め、この温度は反応器の電気加熱マントルの
調節系によって一定に維持する。
6時間の反応の後に(加熱時間を包含する)、反応混合
物を室温まで冷却させ、触媒を濾別する。
反応混合物の分析はがスクロマトグラフイにより、およ
びまた高圧液相クロマトグラフィにより行なう。
変換率は95モル%であり、そしてガンマ−ブチロラク
トンに対する選択性は96モル%である。
(b)  例1の触媒Bの存在の下での製造方法は上記
(a)と全く同一に行なうが、例1(b)に従い製造さ
れ九触媒Bを使用する。
反応混合物の分析によれば、変換率は96モル%であり
、そしてがンマーブチロラクトンに対する選択性は97
モル%である。
例6 支持体の比底面槓の触媒活性に対する効果この例では、
支持体の比表面積の触媒活性に対する効果を証明する。
この目的のために、120〜770 m2/gの範囲の
比表面積(BET/N2 )を有するシリカ支持体に付
着させた、一連のニッケルーパラジウム触媒(本発明に
よる触媒)と10 m2/、!i’にすぎない比表面積
を有するキーゼルが−(RIEDEL−de HA団A
、G供給)に付着させたニッケルーパラジウム触媒(本
発明によるものではない触媒)とを触媒性能に関して比
較する。
本発明による触媒はいずれも、例1(a)に記載の方法
に従い製造した。しかしながら、異なる比表面積を得る
ために、支持体の焼成はそれぞれ、900℃(触媒C)
、700℃(触媒D)、500’C(触媒E)および4
00℃(触媒F)で行なった。
た。
無水マレイン酸の接触水素添加は例2と同一の条件(反
応時間二6時間)で行なった。下記の表Iに、使用した
各触媒に関して、支持されている触媒の総重量にもとづ
き計算したニッケルおよびパラジウムの各lI1%によ
る量、その比表面積BET/ N2 (m2/ 、!9
による)、およびガンマ−ブチロラクトンの製造におい
て得られた、変換率およヒ選択性(モル%による)を示
す。
この表は支持体として高い比表面積を有するシリカを使
用することによって、ニッケルーパラジウム触媒の活性
が格別に増大されることを示している。
高い比表面積を有するシリカ支持体に付着させた触媒C
−F(本発明による触媒)によって得られる変換率(8
7〜95モル%)は比較の目的で使用された、低い比゛
表面積を有するキーゼルが一支持体上に付着させた触媒
1〜4によって得られた変換率(60〜62モル%)に
比較して格別に優れていることを確実に見ることができ
る。
比較の目的で、例1(a)に記載の方法に従い高い比表
面&(570m2/g)e有するシリカ支持体上に付着
させた触媒を製造したが、次の条件を用いた: (1)パラジウムの代りに、白金(比較触媒5)または
モリブデン(比較触媒7s?よひ8)を使用した; (2)  ニッケルの代りに、コバルトを使用し九(比
較触媒6)。
無水マレイン酸の接触水素添加は例2と同一の条件の下
で行なった(反応時間:6時間〕。
得られた結果を表■に示す。
ニッケルまたはパラジウム以外の金属にもとづく触媒5
〜8は支持体が高い比表面積を有するシリカである場合
にも、低い活性を示すだけであることは明白である。変
換率(45〜62モル%)は低い比表面積を有するキー
ゼルが一触媒に付着させたニッケルーパラジウム触媒を
用いて得られる変換率をも越えない。従って、高い比表
面積を有するシリカの触媒活性に対する有用な作用効果
は触媒の構成に使用される金属の種類と密接に関連する
ものと見なされる。
例4 ニッケルンよひパラジウムの量の影響 この試験のために、同一の原料を使用するが、570I
n27gの高い比表面積(BET/N2 ) t” 有
するシリカ支持体に付着させる金属にニッケルおよびパ
ラジウム)の量を変化させて、例1(a)に記載の方法
と正確に同一の方法で一連の触媒を製造した。無水マレ
イン酸の水素添加は例2と同一の装置、温度および圧力
の条件の下で行なう。
表Iに、使用した各触媒について、支持されている触媒
の総重量にもとづき計算したニッケルおよびパラジウム
の量(N量係による)、必要な反応時間お上びがンマー
ブチロラクトンの製造において得られた結果を示す。
表1 Ni      Pd G   22.5  0.96   300   87
.4   96.4H22,51,918092,49
5,9I    22.5  2.33   180 
  95.4    96.OJ    8.89 2
.30   330   89.6    96.0る
ことを示している。
例5 水素添加温度の影響 操作は例2と同一条件の下で行なうが、温度および反応
時間は変える。この試験に使用した触媒には例1(ハ)
)に記載の方法により製造するが、この触媒は支持され
ている触媒の重量にもとづき計算して、ニッケル16.
421J1%およびパラジウム1.0411[1%を含
有する。
得られた結果を表■に示す: 表り 表1は支持されている触媒の総重量にもとづきニッケル
含有量が8〜25重量%(金鵬として計算)で変化し、
そしてパラジウム含有量が0.8〜2.5重量%(金鵜
として計算)で変化している触媒を使用した場合に、ガ
ンマ−ブチロラクトンに対する96モル%の非常に高い
選択性および優れた変換率(87〜96モル%)t−得
ることができに 235      360     92.6    
96に 高い方の温度(270℃)においては、がンマーブチロ
ラクトンに対する選択性が減少することを見ることがで
きる。この選択性の損失#i副主生成物特に酪酸の生成
によるものである。この生成物はがンマーブチロラクト
ンからの蒸留による分離が非常に困難であり、これはそ
の沸点がガンマブチロラクトンの沸点に非常に近いため
である。
例6 触媒の再循環 無水マレイン酸の接触水素添加は例1(a)の記載の方
法により製造された触媒を使用して、13112と同一
の条件の下で行なう(反応時間:6時間)。
しかしながら、濾過によって触媒を分離しfc後に同一
条件の下で新たな水素添加を行なうために、再循環する
。この操作を60回、繰返す。
表■に、これらの棟々の操作の期間中の触媒の性能を示
す: 表V 再循環工程の回数 変換率 選択性 94.7     96 5         93.3     97.110
        96.2     94.915  
      94.1     95.220    
     94.0     96.125     
   93.9    95.630        
 93.2     95.7触媒か認知できる脱活性
化の如何なる徴候も示すことなく、多数回、再循環する
ことができることを見ることができる。6o回の再循環
の後にも触媒はその活性およびその選択性を優れた様相
で保有する。
例7 支持体の化学組成の!11/1III この例では、支持体の活性に対する支持体の化学組成の
作用性を証明する。この試験のために、同一量の全極全
使用するが、異なる化学組成または製造元の支持体上に
付着させて、例1(a)K記載の方法と全く同一の方法
で製造された一連の触媒を使用する。
無水マレイン酸の接触水素添加は例2と同一の条件の下
で行なう(反応時間=6時間)。
表■には、使用された各触媒に関して、支持体の化学組
成、その製造元、その比表面fi BET/N2(m2
/Fによる)およびまた、がンマーブチロラクトンの製
造中に得られる変換率かよひ選択性(モル%による)を
示す。
シリカ基材支持体に付着させた触媒りおよびO(本発明
による触媒)を用いて得られた変換率(90〜98モル
%)は異なる組成の支持体に沈漬させた触媒9〜12(
本発明によるものではない触媒)を用いて得られた変換
率に比較して、触媒9〜12が200 m2/9より高
い比表面積を有するにもかかわらず、著しく優れている
ことを見ることができる。
さらにまた、高割合で5i02を含有するシリカ基材支
持体を使用する条件でだけ、改善された変換率が得られ
ることを見ることができる。嘔らにまた、シリカ基材支
持体の製造元Vi結果に対してほとんど影響を与えない
ことは明らかである。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)接触水素添加によるガンマ−ブチロラクトンの製
    造方法であつて、液相で無水マレイン酸を、高温および
    加圧の下で、少なくとも50m^2/gの比表面積を有
    するシリカ基材支持体上に付着させたニッケルおよびパ
    ラヂウムよりなる触媒の存在下に、水素を反応させるこ
    とを含む製造方法。
  2. (2)上記支持体が少なくとも100m^2/gの比表
    面積を有するシリカ基材支持体である、請求項1に記載
    の方法。
  3. (3)上記シリカ基材支持体の比表面積が約100m^
    2/g〜約800m^2/gの範囲である、請求項1に
    記載の方法。
  4. (4)上記支持体のSiO_2含有量が70〜100重
    量%の範囲であり、残りが別の耐火性無機酸化物である
    、請求項1に記載の方法。
  5. (5)上記支持体が実質的に純粋なシリカである、請求
    項1に記載の方法。
  6. (6)上記触媒のニツケル含有量が支持されている触媒
    の総重量にもとづき、約5〜約50重量%の範囲であり
    、そして上記触媒のパラジウム含有量が支持されている
    触媒の総重量にもとづき、約0.4〜約7重量%の範囲
    である、請求項1に記載の方法。
  7. (7)上記触媒のニッケル含有量が支持されている触媒
    の総重量にもとづき、7〜40重量%の範囲であり、そ
    して上記触媒のパラジウム含有量が支持されている触媒
    の総重量にもとづき、0.5〜4重量%の範囲である、
    請求項6に記載の方法。
  8. (8)上記触媒のニツケル含有量が支持されている触媒
    の総重量にもとづき、8〜25重量%の範囲であり、そ
    して上記触媒のパラジウム含有量が支持されている触媒
    の総重量にもとづき、0.5〜4重量%の範囲である、
    請求項6に記載の方法。
  9. (9)上記水素添加を180〜270℃の温度および約
    50〜100バールの圧力において行なう、請求項1に
    記載の方法。
  10. (10)上記水素添加を200〜240℃の温度および
    約50〜100バールの圧力において行なう、請求項1
    に記載の方法。
  11. (11)上記水素添加を反応に対して、あるいは反応生
    成物に対して不活性である溶媒中で行なう、請求項1に
    記載の方法。
  12. (12)上記触媒の使用量が水素添加させる無水マレイ
    ン酸の1〜30重量%である、請求項1に記載の方法。
  13. (13)上記触媒の使用量が水素添加させる無水マレイ
    ン酸の5〜15重量%である、請求項12に記載の方法
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