JPH0292933U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0292933U JPH0292933U JP89689U JP89689U JPH0292933U JP H0292933 U JPH0292933 U JP H0292933U JP 89689 U JP89689 U JP 89689U JP 89689 U JP89689 U JP 89689U JP H0292933 U JPH0292933 U JP H0292933U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- laser beam
- alignment mark
- semiconductor device
- reflects
- utility
- Prior art date
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- Pending
Links
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Landscapes
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Semiconductor Memories (AREA)
Description
第１図は本考案の第１の実施例の断面図、第２
図は本考案の第２の実施例の断面図、第３図は本
考案の反射光の強度を示す図、第４図は従来例の
断面図、第５図は従来例の反射光の強度を示す図
である。 １，１１……半導体基板、２，１２……ＬＯＣ
ＯＳ酸化膜、３……層間膜、４，１７……位置合
せマーク、５，１８……オーバーコート膜、６，
１９……レーザビーム、７，２０……ターゲツト
中心、８，２１……周辺領域、１３……下部層間
膜、１３ａ……ゲート酸化膜、１４……下部配線
層、１４ａ……ポリシリコン配線層、１５……上
部層間膜、１６……上部配線層。
図は本考案の第２の実施例の断面図、第３図は本
考案の反射光の強度を示す図、第４図は従来例の
断面図、第５図は従来例の反射光の強度を示す図
である。 １，１１……半導体基板、２，１２……ＬＯＣ
ＯＳ酸化膜、３……層間膜、４，１７……位置合
せマーク、５，１８……オーバーコート膜、６，
１９……レーザビーム、７，２０……ターゲツト
中心、８，２１……周辺領域、１３……下部層間
膜、１３ａ……ゲート酸化膜、１４……下部配線
層、１４ａ……ポリシリコン配線層、１５……上
部層間膜、１６……上部配線層。
Claims (1)
- レーザビームを反射する材料よりなるレーザビ
ームに対する位置合せマークを設けた半導体装置
において、前記位置合せマークの周辺領域の表面
に凹凸を設けてなる半導体装置の構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP89689U JPH0292933U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP89689U JPH0292933U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0292933U true JPH0292933U (ja) | 1990-07-24 |
Family
ID=31200310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP89689U Pending JPH0292933U (ja) | 1989-01-10 | 1989-01-10 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0292933U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330710A (ja) * | 1990-03-12 | 1992-11-18 | Fujitsu Ltd | レーザトリミング用位置合わせマーク、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 |
-
1989
- 1989-01-10 JP JP89689U patent/JPH0292933U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04330710A (ja) * | 1990-03-12 | 1992-11-18 | Fujitsu Ltd | レーザトリミング用位置合わせマーク、半導体装置、及び半導体装置の製造方法 |