JPH0291809A - 薄膜磁気ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ディスクの構成に係り、特に記録特性
、信頼性に優れ、かつ製造コストが安価な薄膜磁気ディ
スクの構成と製造法に関するものである。

〔従来の技術〕

スパッタ法あるいはめつき法により磁気記録膜を形成す
る、いわゆる薄膜磁気ディスクにおいて、従来は上記文
献に代表される構造が最も広く知られていた。

すなわち、基板はＭ合金上にＮ１−Ｐめりき膜を形成し
たものを用い、その上に媒体下堆層と呼ぶ非磁性のＣｒ
を形成し、次に、コバルト系の磁気記録膜を形成し、最
外層にカーボンの保護膜を形成するものである。なおこ
の種の技術としては第１０回日本応用磁気学会学術講演
概要集（１９８６，１１）　１）１１５に記されている
。

〔発明が解決しようとする問題点〕

上記従来技術はディスク基板の低価格化、単純化の点で
は十分な配慮がなされておらず、比較的高価なＮ１−Ｉ
’基板を用いねばならなかった。

本発明の目的はディスクの特性を達成した上で、ディス
ク基板の低価格化、簡素化を実現することである。

〔問題点を解決するための手段〕

上記目的は、媒体下地層のクロム膜厚を従来法より増し
て０．３５〜１．０μ馬と厚く形成することにより、Ｎ
１−Ｐ下地めっき膜を省略することにより達成される。

すなわちＭ合金基板上に直接スパッタリング法でクロム
膜を０．３５〜１．０μ鶴の範囲で厚く形成し、従来用
いてきたＮ１−Ｐ下地めっき膜を省くことである。

〔作用〕

媒体下地層のクロム膜厚を増し０．３５μｍ以上にする
事により、ディスクは磁気ヘッドの接触、衝突の外力に
対して、十分耐えられるようになる。従って従来、下地
Ｎ１−Ｐめりき膜が担っていた、磁気ヘッドの接触に対
する基板表面強度向上の役目をクロム膜が代替できる。

これが、本発明の要点である。

従来の下地Ｎ１−Ｐめっき膜の役目としては、上記以外
に、基板表面硬度を高め、その結果として機械加工性の
向上が挙げられる。一方現在の進歩した機械研磨加工技
術によれば、軟質のＭ基板の表面を磁気ヘッドが０．１
５μｍ　程度のスペーシングで浮上するように平坦平滑
に仕上げることは十分可能となった。

従って機械加工したＭ合金表面にスパッタ法で均一にク
ロム膜を形成することにより、該クロム膜表面で磁気ヘ
ッドの低スペーシング浮上が確保できることになる。こ
の事からもＮｒ−Ｐめりき膜を省略できる。

〔実施例〕

以下、本発明の一実施例で第１図により説明する。

外径１３０φ　、内径４０φのＡｔ−Ｍｇ合金ブランク
素材（５０８６系材料）を準備し、内外径の旋削加工し
た後、表面を研削加工し、さらに両面同時方式による研
磨加工を行った。研磨後の板厚は１．９１Ｅｌ　。

表面粗さは０．００５〜０．００７μｓＲａの鏡面であ
り、基板のソリ：真直度は直径１３０に対し５μ陣以下
であった。

鏡面加工後の上記Ｍ合金基板１の表面に次に同心円状の
テキスチャーと呼ぶ微細な溝を加工により形成した。こ
れには研磨テープを用いた加工機を使用した。テキスチ
ャー加工後の基板半径方向表面アラサは０．０１０−０
．０１２μｓＲａとやや増加した。

テキスチャー加工の目的は磁気ヘッドのディスク表面へ
の粘着防止と再生出力の円周方向均一性の向上である。

本実施例の表面アラサは一例であり、使用する磁気ヘッ
ド、装置等によりその値が異なる事は本発明の目的とは
係りなく一向にかまわない。

次にＭ合金基板１は有機溶剤と純水を用いる、洗浄装置
にかけられ、表面の機械加工残渣等を取除き、十分に清
浄化した。

次に、本基板１はスパッタ装置内にセットし、クロム膜
２、コバルト糸媒体３、カーボン保護膜４を連続して形
成した。以下個別に説明する。

従来法における媒体下地膜の形成目的は、下地Ｎ１−Ｐ
膜が磁気記録膜の磁気特性に与える悪影響、すなわち下
地の影響と呼ばれるものを断切ることであった。媒体下
地膜であるクロム膜を形成するａｔこより磁気特性の向
上と、磁気特性の再現性は確実に向上する。

本発明では上記の従来公知目的の外に、さらにクロム膜
厚増加により、磁気ヘッドに対する基板の強度を増加さ
せる事をも目的とし、この点が従来と異なる点である。

従って従来のクロムより厚く形成することが特徴である
。

以下、製造条件を述べて行く。

スパッタ装置にセットされた前記基板は、まず真空中の
予備加熱ベークで１５０〜２５０℃の温度に加熱されて
、表面の水や吸着ガスを取除く。

次に直流スパッタ法でクロム下地膜を０．４５μ腸形成
した。スパッタ条件を以下に示す。

クロム膜形成で重要な事は膜厚であり、　０．３５〜１
．０μ、厚が最も好適範囲である。０．３５μ陽以下で
あると、膜が薄すぎて磁気ヘッドの接触に対する強度が
不足となる。例えば、ＣＳＳ強度（Ｃｏｎｔａｃｔ　−
８ｔａｒｔ　−５ｔｏｐ　　の略）と呼ぶディスクの耐
ヘッドに対する機械強度評価試験がクロム厚が０１３５
μ罵以下では目標値３０　Ｋ回に対して満足できなくな
る。

クロム厚の上限は、１，０μｍ以上にすると膜中にクラ
ック等が発生することより決まる。これは内部応力のた
めと考えている。

先に述べた媒体下地層の目的である、媒体磁気特性の向
上、基板の耐ヘツド接触強度の向上の関点からすると、
媒体下地層膜材料としてはクロムは最も優れた カーボン厚は必要により増減は可能である。

本実施例では上記のようにして、クロム膜、磁性媒体、
カーボン保護膜を一つのスパッタ装置内で連続搬送によ
り一貫形成する。

この事は欠陥低減、量産性の点から好ましい方法である
。

カーボン形成後のディスクは次にスパッタ装置より大気
中に取出され、最外表面に以下の方法で潤滑膜を形成す
る。

潤滑油としては本実施例ではフッ素系炭化水素潤滑油と
して公知のものを一例として用いたが、これ以外の材料
でもかまわない、カーボン単体の保護膜ではなく、カー
ボンと潤滑油との積層により形成した保護膜の方が磁気
ディスクの必要特性からして望ましい。

完成した薄膜磁気ディスクの特性を測定した所、記碌密
度３２，０ＯＯＢＰＩ（ｂ　ｉ　ｔ／１ｎｃｈ　）であ
り、耐ＣＳＳ試験強度は３５，０００回であり、高記録
密度と高信頼性を合わせ持ち、かつ、従来より低価格の
薄膜磁気ディスクを完成できた。

〔発明の効果〕

本発明によれば、クロム膜を厚くする事によりディスク
の電気特性、信頼性を従来と同等に維持した上で、Ｎ　
ｉ−Ｐ下地めっき膜を省略できる。そのために、本発明
により形成した薄膜磁気ディスクは製造コストを低減で
き、工程短縮ができる。

従来法のＮ１−Ｐ下地めっき膜を用いる場合と比較して
省略できる点は、＋１１下地Ｎ　ｔ−Ｐめりき工程およ
びめっき設備、（２１Ｎｉ−Ｐ表面研磨工程および設備
である。逆に本発明故に必要とする部分は（１）′クロ
ム下地層の膜厚増加分材料コスト、　（２＋’Ａｔ合金
の研磨加工工程および設備である。（２）′は、従来法
ではＭ合金は研削加工直後でＮ１−Ｐめりきを行ってい
たが、不法では研削加工後、さらに研磨加工を行うため
である。

上記のように本発明によれば、Ｎ１−Ｐ下地めっき工程
、材料費、設備と一部の加工設備を省略できるため、薄
膜磁気ディスクの製造コストを当社従来比で２０〜２５
チ低減でき、そのコストメリットは太きい。

【図面の簡単な説明】 図は本発明の一実施例を示す、薄膜磁気ディスクの断面
構成図である。 １・・・Ｍ合金基板　　　　２・・・クロム膜３・・・
コバルト合金記録膜

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、基板と磁気記録膜と保護膜とより成る、薄膜磁気デ
   ィスクにおいて、基板としてＡｌ合金基板を用い、磁気
   記録膜としてコバルトを主成分とする合金膜をスパッタ
   リング法で形成したものを用い、保護膜としてはスパッ
   タリング法で形成したカーボン膜上に、潤滑油を塗布し
   たものを用い、さらに上記Ａｌ合金基板と磁気記録膜と
   の間に、スパッタリング法により、膜厚０．３５〜１．
   ０μｍの範囲のクロム膜を形成した事を特徴とする薄膜
   磁気ディスク。