JPH0287585A - 強磁性体磁気抵抗素子の製造方法 - Google Patents
強磁性体磁気抵抗素子の製造方法Info
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- JPH0287585A JPH0287585A JP63237524A JP23752488A JPH0287585A JP H0287585 A JPH0287585 A JP H0287585A JP 63237524 A JP63237524 A JP 63237524A JP 23752488 A JP23752488 A JP 23752488A JP H0287585 A JPH0287585 A JP H0287585A
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Landscapes
- Hall/Mr Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は磁気エンコーダなどに用いられる強磁性体磁気
抵抗効果素子の製造方法に関する。
抵抗効果素子の製造方法に関する。
〈従来の技術〉
従来、磁気抵抗効果素子において電極を形成する製造方
法は強磁性体膜からなる感磁部６を形成した後エツチン
グ加工によって電極部７が形成されていた。しかし形成
された感磁部６もエツチング加工の影響を受けて信頼性
の低下があったので電極部７を先に形成し、その後感磁
部６を全面に付着させ、さらにエツチング加工でパター
ンが形成されていた。
法は強磁性体膜からなる感磁部６を形成した後エツチン
グ加工によって電極部７が形成されていた。しかし形成
された感磁部６もエツチング加工の影響を受けて信頼性
の低下があったので電極部７を先に形成し、その後感磁
部６を全面に付着させ、さらにエツチング加工でパター
ンが形成されていた。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかし従来の製造方法においては電極部７の膜厚が感磁
部６にくらべて充分の厚さを有するため、感磁部６を強
磁性体膜から形成するときエツチングによる影を生ずる
ので第２図に示すように感磁部６と電極部７との境界付
近で断線８を生じ信頼性が低下する欠点があった。
部６にくらべて充分の厚さを有するため、感磁部６を強
磁性体膜から形成するときエツチングによる影を生ずる
ので第２図に示すように感磁部６と電極部７との境界付
近で断線８を生じ信頼性が低下する欠点があった。
く問題点を解決するための手段〉
本発明は従来のかかる欠点を除き、基板上に一様に付着
された強磁性体膜上に電極部７とともにパターン化され
、レジストにて覆われた感磁部６より充分厚い金属層に
て被着し、全面を電極膜にて覆った後レジストを剥離し
た強磁性体磁気抵抗効果素子の製造方法である。
された強磁性体膜上に電極部７とともにパターン化され
、レジストにて覆われた感磁部６より充分厚い金属層に
て被着し、全面を電極膜にて覆った後レジストを剥離し
た強磁性体磁気抵抗効果素子の製造方法である。
く作 用〉
あらかじめ感磁部６をレジストで覆って電極膜を被着す
るので電極部７との境界領域の断線が生じにくくなる。
るので電極部７との境界領域の断線が生じにくくなる。
〈実施例〉
本発明の強磁性体磁気抵抗効果素子の製造法の実施例を
第１図に示す。
第１図に示す。
第１図（ａ）のようにガラスなどの絶縁物よりなる基板
１上に８１ Ｎｉ −Ｆｅ合金あるいはＮｉ−Ｆｅ。
１上に８１ Ｎｉ −Ｆｅ合金あるいはＮｉ−Ｆｅ。
Ｎｉ−Ｃｏ合金などの強磁性体膜２を感磁部６゜電極部
７を含めて、電子ビームによる真空蒸着法、抵抗加熱に
よる蒸着法あるいはスパッタ法によって全面に付着させ
る。ここにおける強磁性体膜２は膜が充分連がって欠陥
が発生しにくい３００ Ａ以上で１反磁界の影響を受け
にくいこの強磁性体膜２は微細なパターンを精度良く形
成できるイオンエツチング装置を用いたドライエツチン
グ法またはウェットエツチング法などによって感磁部６
．電極部７を必要なパターンに形成させる。ここで同じ
組成、同じ膜厚で一体にパターン化された上に第１図（
ｂ）のように電極部７以外の部分をレジスト３にて覆う
。この状態で第１図（ｃ）のように同時蒸着などの方法
で８１ Ｎｊ −ＦｅとＡｕとの合金によって数十への
合金層４を形成する。その上に電極膜材料のみの厚膜、
あるいはＡｕを１５０ＯＡとした厚膜を積層して電極膜
７を成膜する。このときの電極膜材料として強磁性体膜
２を５０００以上を用いてもよく、同じものを用いる場
合、金属層４は不要である。電極膜５を成膜後、第１図
（ｄ）のようにレジスト３を剥離して電極部７と感磁部
６とが形成された強磁性体磁気抵抗効果素子が得られる
。
７を含めて、電子ビームによる真空蒸着法、抵抗加熱に
よる蒸着法あるいはスパッタ法によって全面に付着させ
る。ここにおける強磁性体膜２は膜が充分連がって欠陥
が発生しにくい３００ Ａ以上で１反磁界の影響を受け
にくいこの強磁性体膜２は微細なパターンを精度良く形
成できるイオンエツチング装置を用いたドライエツチン
グ法またはウェットエツチング法などによって感磁部６
．電極部７を必要なパターンに形成させる。ここで同じ
組成、同じ膜厚で一体にパターン化された上に第１図（
ｂ）のように電極部７以外の部分をレジスト３にて覆う
。この状態で第１図（ｃ）のように同時蒸着などの方法
で８１ Ｎｊ −ＦｅとＡｕとの合金によって数十への
合金層４を形成する。その上に電極膜材料のみの厚膜、
あるいはＡｕを１５０ＯＡとした厚膜を積層して電極膜
７を成膜する。このときの電極膜材料として強磁性体膜
２を５０００以上を用いてもよく、同じものを用いる場
合、金属層４は不要である。電極膜５を成膜後、第１図
（ｄ）のようにレジスト３を剥離して電極部７と感磁部
６とが形成された強磁性体磁気抵抗効果素子が得られる
。
〈発明の効果〉
以上述べたように本発明によれば、エツチング加工によ
って電極部７を形成するときの感磁部６の信頼性の低下
、電極部７と感磁部６の境界領域における断線８のおそ
れはなくなる。
って電極部７を形成するときの感磁部６の信頼性の低下
、電極部７と感磁部６の境界領域における断線８のおそ
れはなくなる。
第１図は本発明の強磁性体磁気抵抗効果素子における電
極部と感磁部を形成するときの製造工程の実施例を示す
縦断側面図で、（ａ）は基板上全面に強磁性体膜を付着
させた縦断側面図、（ｂ）は強磁性体膜の上に感磁部が
形成されるレジストを付着させた縦断側面図、（Ｃ）は
電極部が形成される部分に合金層および全面に電極膜を
付着させた縦断側面図、（ｄ）はレジストを剥離して電
極部と感磁部を形成した縦断側面図、第２図は従来の強
磁性体磁気抵抗効果素子の感磁部と電極部の分離領域の
例の一部の縦断側面図である。 なお １：基板、２：強磁性体膜、３ニレジスト。 ４：合金層、５：電極膜、６：感磁部。 ７：電極部。
極部と感磁部を形成するときの製造工程の実施例を示す
縦断側面図で、（ａ）は基板上全面に強磁性体膜を付着
させた縦断側面図、（ｂ）は強磁性体膜の上に感磁部が
形成されるレジストを付着させた縦断側面図、（Ｃ）は
電極部が形成される部分に合金層および全面に電極膜を
付着させた縦断側面図、（ｄ）はレジストを剥離して電
極部と感磁部を形成した縦断側面図、第２図は従来の強
磁性体磁気抵抗効果素子の感磁部と電極部の分離領域の
例の一部の縦断側面図である。 なお １：基板、２：強磁性体膜、３ニレジスト。 ４：合金層、５：電極膜、６：感磁部。 ７：電極部。
Claims (1)
- １、基板１上に一様に付着された強磁性体膜２上に電極
部７とともにパターン化されレジスト３にて覆われた感
磁部６より充分厚い金属層４を被着し、全面を電極膜５
により成膜後、前記レジスト３を剥離して前記感磁部６
と電極部７とを形成することを特徴とする強磁性体磁気
抵抗素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63237524A JPH0287585A (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 強磁性体磁気抵抗素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63237524A JPH0287585A (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 強磁性体磁気抵抗素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0287585A true JPH0287585A (ja) | 1990-03-28 |
Family
ID=17016605
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63237524A Pending JPH0287585A (ja) | 1988-09-24 | 1988-09-24 | 強磁性体磁気抵抗素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0287585A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02237086A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 磁気抵抗効果素子の製造方法 |
-
1988
- 1988-09-24 JP JP63237524A patent/JPH0287585A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02237086A (ja) * | 1989-03-09 | 1990-09-19 | Sankyo Seiki Mfg Co Ltd | 磁気抵抗効果素子の製造方法 |
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