JPH0286820A - 分離膜及びその製造法 - Google Patents
分離膜及びその製造法Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、分離膜及びその製造法に関するものであり、
より詳しくは、ポリイミドマトリックス中に特定のシリ
コーンブロックを含有するポリイミド系分離膜に関する
。
より詳しくは、ポリイミドマトリックス中に特定のシリ
コーンブロックを含有するポリイミド系分離膜に関する
。
[従来の技術]
従来、気体の分離に使用されるポリイミド材料としては
、ピロメリット酸二無水物と芳香族ジアミンとから得ら
れるポリイミド膜、ビフェニルテトラカルボン酸二無水
物と芳香族ジアミンとから得られるポリイミド膜、ある
いは、脂肪族系酸二無水物と芳香族ジアミンとから得ら
れるポリイミド膜等が知られている(特開昭57−15
,819号、特開昭60−82.103号及び特開昭8
0−257.805号の各公報)が、これらは、そのい
ずれも気体の透過速度が小さいため、気体の分離膜とし
て使用する場合に多くの膜面積を必要とし、分離のため
のコストが高くなるほか、工業的な実用化が難しいとい
う問題があった。
、ピロメリット酸二無水物と芳香族ジアミンとから得ら
れるポリイミド膜、ビフェニルテトラカルボン酸二無水
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れるポリイミド膜等が知られている(特開昭57−15
,819号、特開昭60−82.103号及び特開昭8
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ずれも気体の透過速度が小さいため、気体の分離膜とし
て使用する場合に多くの膜面積を必要とし、分離のため
のコストが高くなるほか、工業的な実用化が難しいとい
う問題があった。
一方、従来より酸素富化膜として、例えば、ポリジメチ
ルシロキサンからなるシリコーン系の膜材料が知られて
いる。この気体分離膜は、その気体透過係数は大きいが
、機械的強度が小さいためにその膜厚を薄くすることが
難しく、結局気体の透過速度を高くすることが困難であ
り、しかも、気体分離係数が小さいために、一定の気体
分離能力を得るためには気体分離装置を大型にせざるを
得ないという問題があった。
ルシロキサンからなるシリコーン系の膜材料が知られて
いる。この気体分離膜は、その気体透過係数は大きいが
、機械的強度が小さいためにその膜厚を薄くすることが
難しく、結局気体の透過速度を高くすることが困難であ
り、しかも、気体分離係数が小さいために、一定の気体
分離能力を得るためには気体分離装置を大型にせざるを
得ないという問題があった。
また、気体分離を必要とする混合気体が高温である場合
もあり、かかる場合には特に耐熱性が高く、機械的強度
り優れた材料であることが要求される。
もあり、かかる場合には特に耐熱性が高く、機械的強度
り優れた材料であることが要求される。
[発明が解決しようとする課題]
本発明は、かかる観点に鑑みて創案されたもので、その
目的とするところは、気体透過係数が大きく、機械的強
度及び耐熱性に優れており、かつ、ミクロな相分散構造
を有する気体分離膜及びその製造法を提供することにあ
る。
目的とするところは、気体透過係数が大きく、機械的強
度及び耐熱性に優れており、かつ、ミクロな相分散構造
を有する気体分離膜及びその製造法を提供することにあ
る。
また、本発明の他の目的は、種々の混合気体の分離濃縮
等に使用できるものではあるが、特に酸素と窒素の分離
性能に優れているポリイミド系分離膜及びその製造法を
提供することにある。
等に使用できるものではあるが、特に酸素と窒素の分離
性能に優れているポリイミド系分離膜及びその製造法を
提供することにある。
[課題を解決するための手段]
すなわち、本発明は、構造式中に下記一般式(B)及び
(C) (但し、式中Arlは4価の芳香族残基を示し、Ar2
は2価の芳香族残基を示し、R1及びR2は2価の有機
残基を示し、R3−R6は炭化水素基を示し、nは1〜
50の整数を示す)で表される繰返し単位を有し、かつ
、上記繰返し単位(B−)と繰返し単位(C)と(7)
−E JLz比(B/C) カ5/95〜9515の
範囲内であるポリイミド共重合体からなるポリイミド系
分離膜であり、また、芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミン及び下記一般式(A) R3−R6は炭化水素基を示し、nは1〜5oの整数を
示す)で表されるジアミノシロキサン化合物とを反応さ
せて上記ポリイミド系分離膜を製造するポリイミド系分
離膜の製造法である。
(C) (但し、式中Arlは4価の芳香族残基を示し、Ar2
は2価の芳香族残基を示し、R1及びR2は2価の有機
残基を示し、R3−R6は炭化水素基を示し、nは1〜
50の整数を示す)で表される繰返し単位を有し、かつ
、上記繰返し単位(B−)と繰返し単位(C)と(7)
−E JLz比(B/C) カ5/95〜9515の
範囲内であるポリイミド共重合体からなるポリイミド系
分離膜であり、また、芳香族テトラカルボン酸二無水物
と芳香族ジアミン及び下記一般式(A) R3−R6は炭化水素基を示し、nは1〜5oの整数を
示す)で表されるジアミノシロキサン化合物とを反応さ
せて上記ポリイミド系分離膜を製造するポリイミド系分
離膜の製造法である。
本発明のポリイミド系分離膜を製造するのに使用される
上記一般式(A>のジアミノシロキサン化合物としては
く具体的には例えば、 (但し、式中R1及びR2は2価の有機残基を示し、又
は、 等で示される化合物を挙げることができる。これらのジ
アミノシロキサン化合物は、その1種のみで使用できる
ほか、2種以上の組合ぜからなる混合物としても使用す
ることができる。−これらのジアミノシロキサン化合物
において、その平均n数は、通常1〜50、好ましくは
5〜30である。
上記一般式(A>のジアミノシロキサン化合物としては
く具体的には例えば、 (但し、式中R1及びR2は2価の有機残基を示し、又
は、 等で示される化合物を挙げることができる。これらのジ
アミノシロキサン化合物は、その1種のみで使用できる
ほか、2種以上の組合ぜからなる混合物としても使用す
ることができる。−これらのジアミノシロキサン化合物
において、その平均n数は、通常1〜50、好ましくは
5〜30である。
また、上記一般式(B)及び(C)において、Arlで
示される4価の芳香族残基としては、等を挙げることが
できる。そして、これらの芳香族残基Arlは、1つの
構造式中に存在する全ての芳香族残基Arlが互いに同
じであってもよく、また、1つの構造式中に2種以上の
芳香族残基Arlが存在してもよい。
示される4価の芳香族残基としては、等を挙げることが
できる。そして、これらの芳香族残基Arlは、1つの
構造式中に存在する全ての芳香族残基Arlが互いに同
じであってもよく、また、1つの構造式中に2種以上の
芳香族残基Arlが存在してもよい。
また、上記一般式(B)及び(C)において、Ar2で
示される2価の芳香族残基としては、L;113
CF3CO−C+0)−
OG、 oOωOG、 等を挙げることができる。そして、これらの芳香族残基
Ar2についても、1つの構造式中に存在する全ての芳
香族残基Ar2が互いに同じであってもよく、また、1
つの構造式中に2種以上の芳香族残基Ar2が存在して
もよい。なお、本発明のポリイミド系分@膜を製造する
際に使用されてこの芳香族残基Ar2を形成する芳香族
ジアミンとしては、ジアミノシロキサン化合物との親和
性を示すものが好ましく、少なくとも2個の芳香環を有
する芳香族ジアミンが好ましい。
示される2価の芳香族残基としては、L;113
CF3CO−C+0)−
OG、 oOωOG、 等を挙げることができる。そして、これらの芳香族残基
Ar2についても、1つの構造式中に存在する全ての芳
香族残基Ar2が互いに同じであってもよく、また、1
つの構造式中に2種以上の芳香族残基Ar2が存在して
もよい。なお、本発明のポリイミド系分@膜を製造する
際に使用されてこの芳香族残基Ar2を形成する芳香族
ジアミンとしては、ジアミノシロキサン化合物との親和
性を示すものが好ましく、少なくとも2個の芳香環を有
する芳香族ジアミンが好ましい。
本発明で用いられるジアミノシロキサンブロックを有す
るポリイミドは、上記一般式(B)及び(C)で表され
る繰返し単位のモル比(B/C)が5/95〜9515
、好ましくは1/9〜9/1の範囲内であるのがよい。
るポリイミドは、上記一般式(B)及び(C)で表され
る繰返し単位のモル比(B/C)が5/95〜9515
、好ましくは1/9〜9/1の範囲内であるのがよい。
この範囲以外では、本発明の目的とする気体の透過係数
や分離係数が共に大きくなり、しかも、耐熱性や機械的
物性の点でも優れた性能の分離膜が得られない。すなわ
ち、繰返し単位のモル比(B/C)が5/95より小さ
いと、十分な機械的特性が得られず、反対に9515よ
り大きくなると、気体の透過性や分離性の向上に大きな
効果が得られない。
や分離係数が共に大きくなり、しかも、耐熱性や機械的
物性の点でも優れた性能の分離膜が得られない。すなわ
ち、繰返し単位のモル比(B/C)が5/95より小さ
いと、十分な機械的特性が得られず、反対に9515よ
り大きくなると、気体の透過性や分離性の向上に大きな
効果が得られない。
このようなポリイミド系分離膜を製造する方法としては
、 ■一般式(A>で示されるジアミノシロキサン化合物と
芳香族ジアミンを重合溶媒中に溶解した後、テトラカル
ボン酸二無水物を固体のまま又は重合溶媒に溶解して添
加し、反応させる方法、■テトラカルボン酸二無水物を
重合溶媒に溶解し又は分散させた後、ジアミノシロキサ
ン化合物を添加して反応させ、次いで芳香族ジアミンを
固体のまま又は重合溶媒に溶解して添加、し、反応させ
る方法、 ■テトラカルボン酸二無水物を重合溶媒に溶解し又は分
散させた後、芳香族ジアミンを固体のまま又は重合溶媒
に溶解して添加し、その後ジアミノシロキサン化合物を
添加して反応させる方法、■テトラカルボン酸二無水物
と全ジアミン成分とを同時に重合溶媒中に加えて反応さ
せる方法、■テトラカルボン酸二無水物と全ジアミン成
分とを反応器に投入した後、重合溶媒を加えて反応させ
る方法、 等が挙げられる。
、 ■一般式(A>で示されるジアミノシロキサン化合物と
芳香族ジアミンを重合溶媒中に溶解した後、テトラカル
ボン酸二無水物を固体のまま又は重合溶媒に溶解して添
加し、反応させる方法、■テトラカルボン酸二無水物を
重合溶媒に溶解し又は分散させた後、ジアミノシロキサ
ン化合物を添加して反応させ、次いで芳香族ジアミンを
固体のまま又は重合溶媒に溶解して添加、し、反応させ
る方法、 ■テトラカルボン酸二無水物を重合溶媒に溶解し又は分
散させた後、芳香族ジアミンを固体のまま又は重合溶媒
に溶解して添加し、その後ジアミノシロキサン化合物を
添加して反応させる方法、■テトラカルボン酸二無水物
と全ジアミン成分とを同時に重合溶媒中に加えて反応さ
せる方法、■テトラカルボン酸二無水物と全ジアミン成
分とを反応器に投入した後、重合溶媒を加えて反応させ
る方法、 等が挙げられる。
これらの方法のうち、ジアミノシロキサンブロックが均
一に分散したポリイミド系分離膜を得る上で、上記■で
示される方法が最適である。すなわち、テトラカルボン
酸二無水物の全量を重合溶媒中に溶解し又は分散させた
後、一般式(A)で示されるジアミノシロキサン化合物
又はこのジアミノシロキサン化合物を重合溶媒に溶解し
たものを添加し、一般式(D> (但し、式中Arl 、R1及びR2並びにR3〜R6
は上記に同じ)で表されるシロキサン変性多価カルボン
酸成分を形成し、次いでこの反応溶液中に芳香族ジアミ
ンを加えて反応させる方法である。
一に分散したポリイミド系分離膜を得る上で、上記■で
示される方法が最適である。すなわち、テトラカルボン
酸二無水物の全量を重合溶媒中に溶解し又は分散させた
後、一般式(A)で示されるジアミノシロキサン化合物
又はこのジアミノシロキサン化合物を重合溶媒に溶解し
たものを添加し、一般式(D> (但し、式中Arl 、R1及びR2並びにR3〜R6
は上記に同じ)で表されるシロキサン変性多価カルボン
酸成分を形成し、次いでこの反応溶液中に芳香族ジアミ
ンを加えて反応させる方法である。
このような方法を用いることにより、シロキサンブロッ
クの長さに対応した相分離構造を有し、気体透過性、気
体分離性、機械的物性、耐熱性等に優れた性能を有する
ポリイミド系分離膜を得ることができる。
クの長さに対応した相分離構造を有し、気体透過性、気
体分離性、機械的物性、耐熱性等に優れた性能を有する
ポリイミド系分離膜を得ることができる。
また、この反応で使用する重合溶媒としては、例えば、
N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
、テトラメチルスルホン、ヘキサメチルフォスホアミド
等の非プロトン性極性溶媒や、m−クレゾール、0−ク
レゾール、m−クロロフェノール、O−クロロフェノー
ル等のフェノール系溶媒や、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル(ジグライム)、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒を挙げることが
でき、これらは単独又は2fj!以上の混合溶媒として
使用することができる。また、この他にも、ベンゼン、
ベンゾニトリル、ブチロラクトン、キシレン、トルエン
、シクロヘキサン等の非極性溶媒をレベリング剤あるい
は分散剤として一部使用することができる。このうち、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系
溶媒はジアミノシロキサン化合物に対する溶解性に優れ
ていることから特に好ましく、全重合溶媒量の30重量
%以上の割合で使用することが好ましい。
N−メチル−2−ピロリドン、N、N−ジメチルアセト
アミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシド
、テトラメチルスルホン、ヘキサメチルフォスホアミド
等の非プロトン性極性溶媒や、m−クレゾール、0−ク
レゾール、m−クロロフェノール、O−クロロフェノー
ル等のフェノール系溶媒や、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル(ジグライム)、ジエチレングリコールジ
メチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル
、エチレングリコールジエチルエーテル、ジオキサン、
テトラヒドロフラン等のエーテル系溶媒を挙げることが
でき、これらは単独又は2fj!以上の混合溶媒として
使用することができる。また、この他にも、ベンゼン、
ベンゾニトリル、ブチロラクトン、キシレン、トルエン
、シクロヘキサン等の非極性溶媒をレベリング剤あるい
は分散剤として一部使用することができる。このうち、
ジエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系
溶媒はジアミノシロキサン化合物に対する溶解性に優れ
ていることから特に好ましく、全重合溶媒量の30重量
%以上の割合で使用することが好ましい。
ポリイミド前駆体を製造する第一段目の反応は、好まし
くは比較的低温、例えば50’C以下の温度で行なうの
がよい。
くは比較的低温、例えば50’C以下の温度で行なうの
がよい。
このようにして製造されたジアミノシロキサンブロック
を有するポリイミド前駆体は、フィルムを形成させるの
に必要な高分子量、すなわち、N’メチル−2−ピロリ
ドン中0.5g/dρの濃度(30°C)で測定した対
数粘度ηihnが、少なくとも0.3以上、好ましくは
0.5以上を有することが望ましい。ここで対数粘度η
ihnとは、下記式%式%) 〔但し、式中Cは重合体溶液の濃度(重合体g/溶媒中
100d)であり、かつ、ηrelは相対粘度、すなわ
ち毛細管粘度計で測定した重合体溶液の流動時間と溶媒
の流動時間の比で表される値である)で定義される測定
値である。
を有するポリイミド前駆体は、フィルムを形成させるの
に必要な高分子量、すなわち、N’メチル−2−ピロリ
ドン中0.5g/dρの濃度(30°C)で測定した対
数粘度ηihnが、少なくとも0.3以上、好ましくは
0.5以上を有することが望ましい。ここで対数粘度η
ihnとは、下記式%式%) 〔但し、式中Cは重合体溶液の濃度(重合体g/溶媒中
100d)であり、かつ、ηrelは相対粘度、すなわ
ち毛細管粘度計で測定した重合体溶液の流動時間と溶媒
の流動時間の比で表される値である)で定義される測定
値である。
さらに、得られたポリイミド前駆体溶液は種々の方法で
イミド化することができる。例えば、■そのまま加熱脱
水してイミド化する方法、■ポリアミド酸溶液に、第三
級アミン及び酸無水物等のイミド化触媒を添加混合した
後、ガラス板等の上に流延し、室温下に又は加熱下に脱
水してイミド化する方法、 ■大量のアセトン等の貧溶媒に投入し、析出させて濾別
した粉末を加熱乾燥させてイミド化する方法、 ■第三級アミン及び酸無水物等のイーミド化触媒中又は
それれらを含む有機溶媒中で室温下に又は加熱下に脱水
してイミド化する方法、 等がある。
イミド化することができる。例えば、■そのまま加熱脱
水してイミド化する方法、■ポリアミド酸溶液に、第三
級アミン及び酸無水物等のイミド化触媒を添加混合した
後、ガラス板等の上に流延し、室温下に又は加熱下に脱
水してイミド化する方法、 ■大量のアセトン等の貧溶媒に投入し、析出させて濾別
した粉末を加熱乾燥させてイミド化する方法、 ■第三級アミン及び酸無水物等のイーミド化触媒中又は
それれらを含む有機溶媒中で室温下に又は加熱下に脱水
してイミド化する方法、 等がある。
また、本発明の分離膜を製膜する方法としては、■ポリ
イミド前駆体溶液をガラス板等の基盤上に流延した後、
熱処理して製膜する方法、■ポリイミド前駆体溶液を基
盤上にキャストした後、水、アルコール、ヘキサン等の
受溶媒に浸漬し、ゲル化させた後、乾燥し熱処理して製
膜する方法、 ■溶媒中で予めイミド化させたポリイミド溶液をキャス
ト法により製膜し、乾燥して熱処理する方法、 ■ポリイミド溶液を基盤上にキャストした後、上記■と
同様にポリマーの受溶媒に浸漬し、ゲル化させた後、乾
燥し熱処理する方法、 等が挙げられ、いずれの方法も用いることができる。好
ましい方法としては、ポリイミド前駆体溶液を製膜し、
イミド化する方法である。
イミド前駆体溶液をガラス板等の基盤上に流延した後、
熱処理して製膜する方法、■ポリイミド前駆体溶液を基
盤上にキャストした後、水、アルコール、ヘキサン等の
受溶媒に浸漬し、ゲル化させた後、乾燥し熱処理して製
膜する方法、 ■溶媒中で予めイミド化させたポリイミド溶液をキャス
ト法により製膜し、乾燥して熱処理する方法、 ■ポリイミド溶液を基盤上にキャストした後、上記■と
同様にポリマーの受溶媒に浸漬し、ゲル化させた後、乾
燥し熱処理する方法、 等が挙げられ、いずれの方法も用いることができる。好
ましい方法としては、ポリイミド前駆体溶液を製膜し、
イミド化する方法である。
そして、膜の厚さには制限はないが、通常1〜100p
の範囲である。また、膜の形態としては、平膜状は勿論
、中空糸状等の形態とすることもできる。
の範囲である。また、膜の形態としては、平膜状は勿論
、中空糸状等の形態とすることもできる。
なあ、本発明のポリイミド系分離膜の材料中には、上記
のポリイミドの他に、他の樹脂、特に他のポリイミド等
を配合することができるほか、酸化防止剤、熱安定剤、
紫外線吸収剤、着色剤、充填剤等を配合することができ
る。
のポリイミドの他に、他の樹脂、特に他のポリイミド等
を配合することができるほか、酸化防止剤、熱安定剤、
紫外線吸収剤、着色剤、充填剤等を配合することができ
る。
このようにして得られるポリイミド膜は、高い耐熱性を
有し、気体の透過速度が大きく、しかも、高い分離係数
と、大きな機械的強度を有しているため、分離膜として
有用でおる。
有し、気体の透過速度が大きく、しかも、高い分離係数
と、大きな機械的強度を有しているため、分離膜として
有用でおる。
[実施例]
以下、実施例及び比較例に基いて、本発明を具体的に説
明する。なあ、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のでないことは勿論である。
明する。なあ、本発明はこれらの実施例に限定されるも
のでないことは勿論である。
実施例1
温度計と攪拌装置を備えた500dの4つロフラスコに
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA>
32.2g(0,1モル)−とジエチレングリコールジ
メチルエーテル(ジグライム)500sを仕込んで攪拌
し、得られた混合溶液に下記構造式 を有するジアミノシロキサン(アミン当量1350)9
゜09 (0,0069モル)を徐々に滴下し、゛約3
0分間反応させた。反応終了後、ビス(4,4−アミノ
フェノキシフェニル)プロパン(BAPP) 38 、
2g(0,0931モル)を添加し、攪拌下に5時間反
応させ、黄色透明なポリイミド前駆体の樹脂溶液を得た
。このポリイミド前駆体の対数粘度は0.7であった。
ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物(BTDA>
32.2g(0,1モル)−とジエチレングリコールジ
メチルエーテル(ジグライム)500sを仕込んで攪拌
し、得られた混合溶液に下記構造式 を有するジアミノシロキサン(アミン当量1350)9
゜09 (0,0069モル)を徐々に滴下し、゛約3
0分間反応させた。反応終了後、ビス(4,4−アミノ
フェノキシフェニル)プロパン(BAPP) 38 、
2g(0,0931モル)を添加し、攪拌下に5時間反
応させ、黄色透明なポリイミド前駆体の樹脂溶液を得た
。このポリイミド前駆体の対数粘度は0.7であった。
次に、このようにして得られたポリイミド前駆体のジグ
ライム溶液を、ドクターナイフでガラス板上にキャスト
し、薄膜を形成させた後、60’Cで30分間、180
°Cで30分間、220’Cで1時間順次加熱処理し、
ミクロ相分離を有する膜厚40pのポリイミド膜を得た
。
ライム溶液を、ドクターナイフでガラス板上にキャスト
し、薄膜を形成させた後、60’Cで30分間、180
°Cで30分間、220’Cで1時間順次加熱処理し、
ミクロ相分離を有する膜厚40pのポリイミド膜を得た
。
得られたポリイミド膜について、その引張弾性率(AS
T)l D−882−64T> 、引張強度(AST)
l D−882−64T)、伸度(AST)l D−8
82−64T) 、ガラス転移温度(窒素ガス中昇温速
度10’C/minの条件下でのTMA測定)、熱分解
開始温度(TGA分析による5%重重量減湿温)、吸湿
率(23°C178%RH下での測定値)及び光線透過
率(500nmでの測定値)を測定した。結果を第1表
に示す。
T)l D−882−64T> 、引張強度(AST)
l D−882−64T)、伸度(AST)l D−8
82−64T) 、ガラス転移温度(窒素ガス中昇温速
度10’C/minの条件下でのTMA測定)、熱分解
開始温度(TGA分析による5%重重量減湿温)、吸湿
率(23°C178%RH下での測定値)及び光線透過
率(500nmでの測定値)を測定した。結果を第1表
に示す。
また、得られたポリイミド膜について、気体透過率測定
装置を使用し、JIS規格試験法(JIS Z 170
1)に従ってその気体分離膜としての性能を調べた。結
果を第2表に示す。
装置を使用し、JIS規格試験法(JIS Z 170
1)に従ってその気体分離膜としての性能を調べた。結
果を第2表に示す。
実施例2
16、09 (0,0123モル)のジアミノシロキサ
ン(アミン当量650)、32.2g(0,1モル)の
BTDA及び36.0g(0,0877モル)のBAP
Pとを使用し、上記実施例1と同様にしてポリイミド前
駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実施例1と同様に
してポリイミド膜を得た。
ン(アミン当量650)、32.2g(0,1モル)の
BTDA及び36.0g(0,0877モル)のBAP
Pとを使用し、上記実施例1と同様にしてポリイミド前
駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実施例1と同様に
してポリイミド膜を得た。
得られたポリイミド膜について、上記実施例1と同様の
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
実施例3
22、09 (0,0169モル)のジアミノシロキサ
ン(アミン当量650)、32.210.1モル)のB
TDA及び34.1 g(0,0831モル)のBAP
Pとを使用し、上記実施例1と同様にしてポリイミド前
駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実施例1と同様に
してポリイミド膜を得た。
ン(アミン当量650)、32.210.1モル)のB
TDA及び34.1 g(0,0831モル)のBAP
Pとを使用し、上記実施例1と同様にしてポリイミド前
駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実施例1と同様に
してポリイミド膜を得た。
得られたポリイミド膜について、上記実施例1と同様の
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
比較例1
32.2g(0,1モル)のBTDAと41.09(0
,1モル)のBAPPとを使用し、ジアミノシロキサン
化合物を使用しなかった以外は上記実施例1と同様にし
てポリイミド前駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実
施例1と同様にしてポリイミド膜を得た。
,1モル)のBAPPとを使用し、ジアミノシロキサン
化合物を使用しなかった以外は上記実施例1と同様にし
てポリイミド前駆体の樹脂溶液を得、これを使用して実
施例1と同様にしてポリイミド膜を得た。
得られたポリイミド膜について、上記実施例1と同様の
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を′調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示
す。
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を′調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示
す。
比較例2
市販のポリイミド系分離膜(東し・デュポン社製商品名
二カプトンフィルム)を使用し、上記実施例1と同様の
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
二カプトンフィルム)を使用し、上記実施例1と同様の
基本的物性を測定し、また、その気体分離膜としての性
能を調べた。結果を第1表及び第2表にそれぞれに示す
。
第2表
実施例4〜27
第3表に示す反応成分及び反応溶媒を使用し、上記実施
例1と同様な方法でポリイミド前駆体溶液を調製し、こ
れらポリイミド前駆体溶液を使用して膜厚20〜40p
のポリイミド膜を得た。
例1と同様な方法でポリイミド前駆体溶液を調製し、こ
れらポリイミド前駆体溶液を使用して膜厚20〜40p
のポリイミド膜を得た。
得られた各ポリイミド膜について気体濾過係数及び分離
係数を調べた。結果を第3表に示す。
係数を調べた。結果を第3表に示す。
なお、気体濾過係数は次の式、
気体濾過係数(cm3(STP) ・cm/cti ・
sec −cmHg)=気体源過度(d(STP) /
rtt −hr−atm)xlll厚(m) X3.7
Xl0−8、ニヨリ求メタ。
sec −cmHg)=気体源過度(d(STP) /
rtt −hr−atm)xlll厚(m) X3.7
Xl0−8、ニヨリ求メタ。
また、第3表中の略号は以下の通りである。
N)IP : N−メチル−2−ピロリドンDIGニジ
エチレングリコールジメチルエーテルBTDA : 3
.3°、4,4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物 8PI)八:3,3°、4,4°−ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物 DSDA : 3,3’、4,4°−ジフェニルスルホ
ンテトラカルボン 6FBDA : 4.4’−(ヘキサフルオロイソプロ
ピリデン)シフタル酸二無水物 P)IDA :ピロメリット酸二無水物BAPP :
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
]プロパン BAPS :ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]スルホン BAPF : 2. 2−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]へカサフルオロプロパン TPE−Q : 1,4−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン TPE−R : 1,3−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン BisA−P : 4, 4°−[1.4−フェニレン
ビス(1−メチルエチリデン)1ビスアニリン BiSA−)1 : 4.4’−[1.3−フェニレン
ビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン BisA−AF : 2.2−ビス(4−アミノフェニ
ル)へキサフルオロプロパン FDA : 9. 9−ビス(4−アミノフェニル)フ
ルオレン GAPD :ビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン PSX−A :アミン当量1, 280(Hw= 2,
560)PSX−8 :アミン当m 650(1−
IW=1,300)PSX−C :アミン当量 472
(Hw= 944)[発明の効果] 本発明のポリイミド薬分離脱は、気体の選択的透過性に
優れた膜であり、また、実用的に使用し得る優れた機械
的強度と取扱い易さを有しており、混合気体からある特
定の気体をより多くの割合で含む気体を製造する目的で
多くの分野に使用できる。例えば、天然気体からのヘリ
ウムの回収や、水添反応の気体流からの水素の濃縮や、
汚水処理のための曝気、醗酵工業、高い燃焼温度を必要
とするボイラー、焼却炉、医療用酸素吸入装置、魚養殖
池田曝気等のための酸素濃縮等があり、酸素、窒素、水
素、二酸化炭素、−1化炭素、ヘリウム、アルゴン、ア
ンモニア、アルカン(例えばメタンやエタン等)、アル
ケン(例えばエチレンやプロピレン等)、水蒸気、硫化
水素、アルカノール(例えばメタノールやエタノール等
)、及び、膜透過により分離可能な任意のその他の気体
又は蒸気、例えば揮発性金属同位元素又はその塩、例え
・ばウラニウム又はヘキサフルオロウラニウム等を挙げ
ることができ、これらの気体混合物から相互に分離する
のに適している。
エチレングリコールジメチルエーテルBTDA : 3
.3°、4,4−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無
水物 8PI)八:3,3°、4,4°−ジフェニルテトラカ
ルボン酸二無水物 DSDA : 3,3’、4,4°−ジフェニルスルホ
ンテトラカルボン 6FBDA : 4.4’−(ヘキサフルオロイソプロ
ピリデン)シフタル酸二無水物 P)IDA :ピロメリット酸二無水物BAPP :
2,2−ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェニル
]プロパン BAPS :ビス[4−(4−アミノフェノキシ)フェ
ニル]スルホン BAPF : 2. 2−ビス[4−(4−アミノフェ
ノキシ)フェニル]へカサフルオロプロパン TPE−Q : 1,4−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン TPE−R : 1,3−ビス(4−アミノフェノキシ
)ベンゼン BisA−P : 4, 4°−[1.4−フェニレン
ビス(1−メチルエチリデン)1ビスアニリン BiSA−)1 : 4.4’−[1.3−フェニレン
ビス(1−メチルエチリデン)]ビスアニリン BisA−AF : 2.2−ビス(4−アミノフェニ
ル)へキサフルオロプロパン FDA : 9. 9−ビス(4−アミノフェニル)フ
ルオレン GAPD :ビス(3−アミノプロピル)テトラメチル
ジシロキサン PSX−A :アミン当量1, 280(Hw= 2,
560)PSX−8 :アミン当m 650(1−
IW=1,300)PSX−C :アミン当量 472
(Hw= 944)[発明の効果] 本発明のポリイミド薬分離脱は、気体の選択的透過性に
優れた膜であり、また、実用的に使用し得る優れた機械
的強度と取扱い易さを有しており、混合気体からある特
定の気体をより多くの割合で含む気体を製造する目的で
多くの分野に使用できる。例えば、天然気体からのヘリ
ウムの回収や、水添反応の気体流からの水素の濃縮や、
汚水処理のための曝気、醗酵工業、高い燃焼温度を必要
とするボイラー、焼却炉、医療用酸素吸入装置、魚養殖
池田曝気等のための酸素濃縮等があり、酸素、窒素、水
素、二酸化炭素、−1化炭素、ヘリウム、アルゴン、ア
ンモニア、アルカン(例えばメタンやエタン等)、アル
ケン(例えばエチレンやプロピレン等)、水蒸気、硫化
水素、アルカノール(例えばメタノールやエタノール等
)、及び、膜透過により分離可能な任意のその他の気体
又は蒸気、例えば揮発性金属同位元素又はその塩、例え
・ばウラニウム又はヘキサフルオロウラニウム等を挙げ
ることができ、これらの気体混合物から相互に分離する
のに適している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)構造式中に下記一般式(B)及び(C)▲数式、
化学式、表等があります▼(B)▲数式、化学式、表等
があります▼(C) (但し、式中Ar1は4価の芳香族残基を示し、Ar2
は2価の芳香族残基を示し、R1及びR2は2価の有機
残基を示し、R3〜R6は炭化水素基を示し、nは1〜
50の整数を示す)で表される繰返し単位を有し、かつ
、上記繰返し単位(B)と繰返し単位(C)とのモル比
(B/C)が5/95〜95/5の範囲内であるポリイ
ミドを材料としたことを特徴とする分離膜。 (2)一般式(C)で表される繰返し単位のnが5〜3
0である請求項1記載の分離膜。(3)ポリイミドがミ
クロ相分離構造を有する請求項1記載の分離膜。 (4)芳香族テトラカルボン酸二無水物と芳香族ジアミ
ン及び下記一般式(A) ▲数式、化学式、表等があります▼(A) (但し、式中R1及びR2は2価の有機残基を示し、R
3〜R6は炭化水素基を示し、nは1〜50の整数を示
す)で表されるジアミノシロキサン化合物とを反応させ
てポリイミド前駆体を形成し、次いでこれを製膜しイミ
ド化して請求項1記載のポリイミドとすることを特徴と
する分離膜の製造法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/372,995 US4948400A (en) | 1988-06-30 | 1989-06-28 | Separation membranes and process for preparing the same |
DE89112009T DE68909124D1 (de) | 1988-06-30 | 1989-06-30 | Verwendung von Polyimides als Trennmembranen. |
EP89112009A EP0349008B1 (en) | 1988-06-30 | 1989-06-30 | Use of polyimides as separation membranes. |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63-162991 | 1988-06-30 | ||
JP16299188 | 1988-06-30 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0286820A true JPH0286820A (ja) | 1990-03-27 |
Family
ID=15765130
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10728789A Pending JPH0286820A (ja) | 1988-06-30 | 1989-04-28 | 分離膜及びその製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0286820A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05331285A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH05331284A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH0680777A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-22 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JP2005350573A (ja) * | 2004-06-10 | 2005-12-22 | Shin Etsu Polymer Co Ltd | 気体透過性高分子組成物及び気体分離複合膜 |
JP2008086903A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Ube Ind Ltd | Si原子含有ポリイミドによって形成された非対称膜、ガス分離膜、及びガス分離方法 |
JP2012086223A (ja) * | 2005-01-21 | 2012-05-10 | Ube Industries Ltd | 多成分ポリイミドからなるポリイミド非対称膜の製造方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01284321A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 気体分離膜 |
-
1989
- 1989-04-28 JP JP10728789A patent/JPH0286820A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01284321A (ja) * | 1988-05-10 | 1989-11-15 | Hitachi Chem Co Ltd | 気体分離膜 |
Cited By (7)
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JPH05331285A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH05331284A (ja) * | 1992-06-04 | 1993-12-14 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JP2740075B2 (ja) * | 1992-06-04 | 1998-04-15 | 住友ベークライト株式会社 | 可溶性ポリイミド樹脂 |
JPH0680777A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-03-22 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 可溶性ポリイミド樹脂 |
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JP2008086903A (ja) * | 2006-10-02 | 2008-04-17 | Ube Ind Ltd | Si原子含有ポリイミドによって形成された非対称膜、ガス分離膜、及びガス分離方法 |
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