JPH0277843U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0277843U JPH0277843U JP15736688U JP15736688U JPH0277843U JP H0277843 U JPH0277843 U JP H0277843U JP 15736688 U JP15736688 U JP 15736688U JP 15736688 U JP15736688 U JP 15736688U JP H0277843 U JPH0277843 U JP H0277843U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- ion
- sample
- deceleration
- beam current
- microwave oscillator
- Prior art date
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- Granted
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- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000001133 acceleration Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Electron Sources, Ion Sources (AREA)
Description
第1図は本考案のイオン処理装置の一例を示す
縦断面図。第2図は試料台の正面図。第3図は減
速電圧とビーム発散角の関係を示すグラフ。第4
図は試料台の直径上のイオンビーム分布を示すグ
ラフ。第5図は内外のビーム電流検出器の信号波
形の図。aが内側の検出器Bの信号、bが外側の
検出器Aの信号、cが検出器Bの信号を連続量に
変えた波形である。第6図は内外ビーム電流検出
器の信号波形の図。aが内側の検出器Bの信号、
bが外側の検出器Aの信号、cが検出器Aの信号
をBに同期したパルス波形にしたものである。第
7図は第6図の波形を作るための回路図。第8図
は従来例に係るイオン処理装置の縦断面図。第9
図は試料台の直径上に於けるイオンビーム分布を
示すグラフ。 1……イオン源チヤンバ1、2……コイル、3
……導波管、4……マイクロ波発振器、5……加
速電源、6……減速電源、7……加速電極、8…
…減速電極、9……試料、10……試料台、11
……駆動装置、12……ビーム電流演算器、13
……ビーム電流制御装置、15……比較器、16
……制御装置、18……ホールド増幅器、19…
…前置増幅器、20……リセツト発生器、21…
…真空チヤンバ、22……ガス導入系、23……
引出電極系、24……誘電体、25……比較器、
27……検出用穴、A……第1ビーム電流検出器
、B……第2ビーム電流検出器。
縦断面図。第2図は試料台の正面図。第3図は減
速電圧とビーム発散角の関係を示すグラフ。第4
図は試料台の直径上のイオンビーム分布を示すグ
ラフ。第5図は内外のビーム電流検出器の信号波
形の図。aが内側の検出器Bの信号、bが外側の
検出器Aの信号、cが検出器Bの信号を連続量に
変えた波形である。第6図は内外ビーム電流検出
器の信号波形の図。aが内側の検出器Bの信号、
bが外側の検出器Aの信号、cが検出器Aの信号
をBに同期したパルス波形にしたものである。第
7図は第6図の波形を作るための回路図。第8図
は従来例に係るイオン処理装置の縦断面図。第9
図は試料台の直径上に於けるイオンビーム分布を
示すグラフ。 1……イオン源チヤンバ1、2……コイル、3
……導波管、4……マイクロ波発振器、5……加
速電源、6……減速電源、7……加速電極、8…
…減速電極、9……試料、10……試料台、11
……駆動装置、12……ビーム電流演算器、13
……ビーム電流制御装置、15……比較器、16
……制御装置、18……ホールド増幅器、19…
…前置増幅器、20……リセツト発生器、21…
…真空チヤンバ、22……ガス導入系、23……
引出電極系、24……誘電体、25……比較器、
27……検出用穴、A……第1ビーム電流検出器
、B……第2ビーム電流検出器。
Claims (1)
- マイクロ波及び磁場によつてプラズマを生じこ
れをイオンビームとして試料に照射するイオン処
理装置であつて、ガスを導入しこれをプラズマに
する空間を与えるイオン源チヤンバ1とイオン源
チヤンバ1の周囲に設けられ軸方向の磁場を生ず
るコイル2と、マイクロ波を発生するマイクロ波
発振器4と、マイクロ波発振器4で生じたマイク
ロ波をイオン源チヤンバ1へ導く導波管3と、イ
オン源チヤンバ1に続いて設けられ真空に引く事
のできる空間である真空チヤンバ21と真空チヤ
ンバ21につながる方のイオン源チヤンバ1の端
に設けられ加速電極7と減速電極8とよりなりイ
オンビームを引き出すための引出電極系23と、
真空チヤンバ21の中に設けられ円周上に複数の
試料9を取り付けるべき試料台10と、試料台1
0の近傍であつて試料の外側に設けられる第1ビ
ーム電流検出器Aと、試料台10の近傍であつて
試料の内側に設けられる第2ビーム電流検出器B
と、マイクロ波発振器4の出力Wと減速電極8に
負電圧を加える減速電源6の減速電圧Vdとを制
御する制御装置16とよりなり、減速電圧Vdと
マイクロ波発振器の出力Wとを制御する事により
、第1ビーム電流検出器Aの検出電流Ja、第2
ビーム電流検出器Bの検出電流Jbを所定の値に
保つようにした事を特徴とするイオン処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988157366U JPH0735294Y2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | イオン処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1988157366U JPH0735294Y2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | イオン処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0277843U true JPH0277843U (ja) | 1990-06-14 |
JPH0735294Y2 JPH0735294Y2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=31436742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1988157366U Expired - Fee Related JPH0735294Y2 (ja) | 1988-12-01 | 1988-12-01 | イオン処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0735294Y2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007018921A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | 真空排気系を利用したシリンダを用いたイオンビーム電流測定機構 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58157045A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | イオン打込み装置 |
JPS63152844A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-25 | Nec Corp | イオンビ−ムスキヤン制御装置 |
-
1988
- 1988-12-01 JP JP1988157366U patent/JPH0735294Y2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58157045A (ja) * | 1982-03-15 | 1983-09-19 | Hitachi Ltd | イオン打込み装置 |
JPS63152844A (ja) * | 1986-12-16 | 1988-06-25 | Nec Corp | イオンビ−ムスキヤン制御装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007018921A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Tech Science Systems Corp | 真空排気系を利用したシリンダを用いたイオンビーム電流測定機構 |
JP4504880B2 (ja) * | 2005-07-08 | 2010-07-14 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 真空排気系を利用したシリンダを用いたイオンビーム電流測定機構 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0735294Y2 (ja) | 1995-08-09 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |