JPH027495A - Manufacture of aluminum nitride multilayer board - Google Patents

Manufacture of aluminum nitride multilayer board

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JPH027495A
JPH027495A JP31364887A JP31364887A JPH027495A JP H027495 A JPH027495 A JP H027495A JP 31364887 A JP31364887 A JP 31364887A JP 31364887 A JP31364887 A JP 31364887A JP H027495 A JPH027495 A JP H027495A
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JP
Japan
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aluminum nitride
green sheet
sintering
water vapor
sheet
Prior art date
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JP31364887A
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Japanese (ja)
Inventor
Koichiro Kurihara
光一郎 栗原
Hirohisa Suwabe
博久 諏訪部
Yusuke Iyori
裕介 井寄
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Proterial Ltd
Original Assignee
Hitachi Metals Ltd
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Publication date
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Publication of JPH027495A publication Critical patent/JPH027495A/en
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Abstract

PURPOSE:To acquire a multilayer wiring board having less warp or turbidity by mixing an organic binder and a burning assistant to aluminum nitride powders, by manufacturing a green sheet, by printing a desired wiring pattern thereon, and by carrying out debinder and sintering after laminating the sheet. CONSTITUTION:An organic binder is applied to powders made by mixing a burning assistant to aluminum nitride powders, a green sheet is manufactured by doctor blade method, and a through hole is formed thereto. After a conductor such as tungsten is printed to make a desired wiring pattern, the sheet is laminated. Then debinder is conducted in a mixture atmosphere consisting of nitride, hydrogen and water vapor. Sintering is carried out thereafter. According to this constitution, a wiring metal resists to oxidization and organic substances in the green sheet and paste are completely decomposed, thus remaining no carbon. When this laminate is sintered, it does not receive any detrimental effect because no carbon remains. A sintered body of high heat conductivity without warp or turbidity can be acquired in this way.

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、半導体用基板、IC用基板等に使用される熱
伝導性が良好な窒化アルミニウム基板に関するものであ
り、特に高密度実装用基板とじて有用な窒化アルミニウ
ム多層配線基板の改良に関するものである。
Detailed Description of the Invention "Field of Industrial Application" The present invention relates to an aluminum nitride substrate with good thermal conductivity used for semiconductor substrates, IC substrates, etc., and particularly to substrates for high-density packaging. The present invention relates to improvements in aluminum nitride multilayer wiring boards that are particularly useful.

「従来の技術」 従来、電子機器等における半導体素子の搭載用基板とし
ては、化学的に安定で信頼性が高いことからアルミナ基
板が広く使用されている。
"Prior Art" Conventionally, alumina substrates have been widely used as substrates for mounting semiconductor elements in electronic devices and the like because they are chemically stable and highly reliable.

しかし、近年、電子機器の小型化・半導体部品の高密度
化及び高出力化が進むにともない、半導体を実装する基
板の単位面積あたりの発熱量が増大し、その放熱が大き
な問題となっている。
However, in recent years, as electronic devices have become smaller and semiconductor components have become more dense and powerful, the amount of heat generated per unit area of the board on which semiconductors are mounted has increased, and heat dissipation has become a major problem. .

このため、従来使用されているアルミナの熱伝導率(約
20W/mK)に比べて極めて高い熱伝導率(約70〜
260W/mK)を有するとともに。
For this reason, it has an extremely high thermal conductivity (approximately 70~
260W/mK).

Siとほぼ同じ熱膨張率(約4.6 X 10−”/℃
)をもつ窒化アルミニウムが半導体部品の基板材料とし
て注目され使用されはじめている。
Almost the same coefficient of thermal expansion as Si (approximately 4.6 x 10-”/°C
) aluminum nitride has begun to attract attention and be used as a substrate material for semiconductor components.

しかしながら、窒化アルミニウムは焼成温度が1800
℃以上と高く、これに耐えられる適当な配線材料がない
こと等の理由により多層配線は困難視され、高集積LS
Iの実装用基板等としては実用化されていなかった。
However, aluminum nitride has a firing temperature of 1800
Multilayer wiring is considered difficult due to the high temperature of over ℃ and the lack of suitable wiring materials that can withstand this temperature, and highly integrated LS
It has not been put to practical use as a mounting board for I.

[発明が解決しようとする問題点」 しかるに、最近、直接窒化による窒化アルミニウム粉′
末を原料としたグリーンシートにタングステン系導電材
料を印刷し、四枚重ねて5層配線とし、1700℃で1
時間、N2雰囲気中で同時焼成した多層基板が報告され
(日経ニューマテリアル、1987年6月1日号、10
−11頁参照)、更に、高純度の窒化アルミニウム粉末
に焼結助剤としてCaC2粉末を混合し、有機バインダ
ーを加え、ドクターブレード法によって有機フィルム上
にグリーンシートを作製し、これにVIAホールを形成
し。
[Problems to be solved by the invention] However, recently, aluminum nitride powder produced by direct nitriding has been developed.
A tungsten-based conductive material is printed on a green sheet made from powder, and four sheets are stacked to form a five-layer wiring.
A multilayer substrate co-fired in an N2 atmosphere was reported (Nikkei New Materials, June 1, 1987 issue, 10
Furthermore, CaC2 powder is mixed with high-purity aluminum nitride powder as a sintering aid, an organic binder is added, a green sheet is prepared on the organic film by the doctor blade method, and VIA holes are formed on this green sheet. Formed.

タングステン導体を印刷した後、所望のシートを積層し
、その後、脱バインダーを行ってから焼成した窒化アル
ミニウム多層配線基板も提案されるなど(第2回マイク
ロエレクトロニクスシンポジウム要旨集、1987年7
月、185〜188頁参照)、窒化アルミニウム多層配
線基板の実用化が急速に進展している。
An aluminum nitride multilayer wiring board has also been proposed, in which a tungsten conductor is printed, the desired sheets are laminated, the binder is removed, and then fired (2nd Microelectronics Symposium Abstracts, July 1987).
), the practical application of aluminum nitride multilayer wiring boards is rapidly progressing.

ところで、上述したように、これまで知られている窒化
アルミニウム多層配線基板の製造方法は、アルミナ多層
配線基板等の製造方法と同様に、グリーンシートにタン
グステンペーストやモリブデンペーストで配線パターン
を印刷したものを積層し、脱バインダーを行った後、窒
素と酸素の混合ガス雰囲気中で焼結するという工程が採
られている。しかし、窒化アルミニウムは、高温におい
て微量の酸素や水蒸気により酸化され、容易にアルミナ
等に変化する性質がある。このため、通常、500℃〜
10oO℃の温度で、配線用金属が酸化しないように窒
素ガス雰囲気または窒素と水素の混合ガス中で脱バイン
ダーが行われている。
By the way, as mentioned above, the previously known method for manufacturing aluminum nitride multilayer wiring boards is similar to the manufacturing method for alumina multilayer wiring boards, etc., in which a wiring pattern is printed on a green sheet using tungsten paste or molybdenum paste. The process involves stacking the materials, removing the binder, and then sintering in a mixed gas atmosphere of nitrogen and oxygen. However, aluminum nitride has the property of being oxidized by trace amounts of oxygen or water vapor at high temperatures and easily changing into alumina or the like. For this reason, it is usually 500℃~
Binder removal is performed at a temperature of 100° C. in a nitrogen gas atmosphere or a mixed gas of nitrogen and hydrogen to prevent the wiring metal from oxidizing.

しかしながら、この脱バインダー工程においては、有機
物の除去が熱分解のみにより行われているため、一部の
有機物はカーボンとして残留し、この残留したカーボン
が、次の工程である焼結時に悪影響を及ぼしていた。す
なわち、焼結体に反りや濁りを生じ、また窒化アルミニ
ウムの特徴である高熱伝導性が、十分に得られないとい
う問題点があった。
However, in this debinding process, organic matter is removed only by thermal decomposition, so some organic matter remains as carbon, and this residual carbon has an adverse effect on the next step, sintering. was. That is, there were problems in that the sintered body was warped and clouded, and the high thermal conductivity, which is a characteristic of aluminum nitride, could not be sufficiently achieved.

本発明の目的は、上述した問題点を解決し、反りや濁り
がなく、かつ、高熱伝導性の窒化アルミニウム多層配線
基板を実現するための製造方法を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a manufacturing method for solving the above-mentioned problems and realizing an aluminum nitride multilayer wiring board that is free from warpage and turbidity and has high thermal conductivity.

[問題点を解決するための手段」 上記問題点を解決するために、本発明は、窒化アルミニ
ウム粉末に焼結助剤を混合してなる粉末に、有機バイン
ダーを加え、ドクターブレード法によってグリーンシー
トを作製し、これにスルーホールを形成し、所望の配線
パターンとなるようにタングステン等の導体を印刷した
後、シートを積層し、窒素、水素、および水蒸気からな
る混合雰囲気中で脱バインダーを行ってから焼結するこ
とを特徴とする窒化アルミニウム多層配線基板の製造方
法である。
[Means for Solving the Problems] In order to solve the above problems, the present invention adds an organic binder to a powder made by mixing aluminum nitride powder with a sintering aid, and forms a green sheet by a doctor blade method. After forming through holes in this and printing a conductor such as tungsten to form the desired wiring pattern, the sheets are stacked and the binder is removed in a mixed atmosphere consisting of nitrogen, hydrogen, and water vapor. This is a method for manufacturing an aluminum nitride multilayer wiring board, characterized in that the aluminum nitride multilayer wiring board is sintered.

本発明において、窒素、水素、および水蒸気の混合雰囲
気中で窒化アルミニウムのグリーンシート積層体の脱バ
インダーを行うと、配線金属はほとんど酸化されること
なく、グリーンシート中およびペースト中の有機物は水
蒸気の働きで完全に分解されるので、カーボンは残留し
ない。したがって、この積層体を焼結しても、残留カー
ボンが存在しないために焼結に悪影響を与えるものがな
く、反りや濁りのない高熱伝導性の焼結体を得ることが
できるのである。
In the present invention, when debinding the aluminum nitride green sheet laminate in a mixed atmosphere of nitrogen, hydrogen, and water vapor, the wiring metal is hardly oxidized and the organic matter in the green sheet and paste is removed by water vapor. Since it is completely decomposed by the action, no carbon remains. Therefore, even if this laminate is sintered, since there is no residual carbon, there is no harmful effect on sintering, and a highly thermally conductive sintered body without warping or turbidity can be obtained.

また、本発明において、上記混合雰囲気中の水蒸気と水
素の分圧比(P H20/ P 11□)0.1〜1で
あることが好ましい。分圧比が0.1未満の場合には、
水蒸気による分解効果が期待できず、また、分圧比が1
を越える場合には、窒化アルミニウムが酸化される恐れ
があるためである。
Further, in the present invention, it is preferable that the partial pressure ratio of water vapor and hydrogen in the mixed atmosphere (PH20/P11□) is 0.1 to 1. If the partial pressure ratio is less than 0.1,
The decomposition effect due to water vapor cannot be expected, and the partial pressure ratio is 1.
This is because if the amount exceeds 20%, aluminum nitride may be oxidized.

また、本発明における上記焼結工程の雰囲気としては1
例えば、カーボン蒸気を含む窒素ガス。
In addition, the atmosphere for the sintering step in the present invention is 1
For example, nitrogen gas containing carbon vapor.

真空、またはCH4ガス等の還元性雰囲気が好ましい。A reducing atmosphere such as vacuum or CH4 gas is preferred.

焼結温度は、通常、約1700〜1900℃の範囲の温
度が選択される。
The sintering temperature is usually selected to be in the range of about 1700-1900°C.

また、本発明においてシートを積層するに際しては、シ
ート同志をより良く接着させるために、例えば、100
〜130℃の温度で加熱するとともに、50Kg/aJ
以上の圧力で5〜20分程度加熱・加圧することが望ま
しい6尚、この条件は、使用する樹脂の種類等に合わせ
て適宜選択変更されるものである。
In addition, when laminating sheets in the present invention, in order to better adhere the sheets to each other, for example,
Heating at a temperature of ~130℃ and 50Kg/aJ
It is desirable to heat and pressurize at the above pressure for about 5 to 20 minutes.6 Note that these conditions may be selected and changed as appropriate depending on the type of resin used.

[実施例] 以下1本発明を実施例および比較例に基づいてより詳細
に説明する。
[Examples] The present invention will be explained in more detail below based on Examples and Comparative Examples.

(実施例) 粒径が約0.5/ffiの窒化アルミニウム粉末97%
lt%に焼結助剤として3%lt%の酸化ディスプロシ
ウムを加えた微粉末セラミック粉末に、該セラミック粉
末100gに対し有機バインダーとしてブチラール樹脂
7.5gおよび可塑剤3.3gをそれぞれ添加し、さら
に溶剤としてトリクロルエチレン、テトラクロルエチレ
ン、ブタノールからなるアゼオドロープをセラミック粉
末100g当り96m1加え合わせ、ボールミルにて十
分混合し、セラミック粉末が均一に分散したスラリーを
作製した。ついで、攪拌しながら低圧で脱気し、スラリ
ー内の気泡を除去したのち、ドクターブレード型キャス
ティング装置を用いて薄板化し、厚さ0゜25mmのグ
リーンシートを作製した。次に、このグリーンシートを
切断して100m角のシートを作成し、これに上下配線
パターン間の導通をとるためのスルーホールを形成した
。なお、スルーホールの形成は、超硬合金性ピンを有す
る打ち抜き金型で行った。
(Example) 97% aluminum nitride powder with a particle size of approximately 0.5/ffi
To a finely powdered ceramic powder in which 3% lt% of dysprosium oxide was added as a sintering aid to lt%, 7.5 g of butyral resin as an organic binder and 3.3 g of a plasticizer were added to 100 g of the ceramic powder. Furthermore, 96 ml of azeodorope consisting of trichlorethylene, tetrachlorethylene, and butanol as a solvent was added per 100 g of ceramic powder, and thoroughly mixed in a ball mill to prepare a slurry in which the ceramic powder was uniformly dispersed. Next, the slurry was degassed under low pressure while stirring to remove air bubbles in the slurry, and then thinned using a doctor blade type casting device to produce a green sheet with a thickness of 0.degree. and 25 mm. Next, this green sheet was cut to create a 100 m square sheet, in which through holes were formed to provide electrical continuity between the upper and lower wiring patterns. Note that the through holes were formed using a punching die having a cemented carbide pin.

次に、タングステンペースi−を用い、スクリーン印刷
法により、前記グリーンシートに形成したスルーホール
にペーストを充填すると共に、グリーンシート上に配線
パターンを印刷形成した。配線材料となるタングステン
ペーストは、平均粒径1.5−のタングステン粉末80
gに対し、有機バインダーとしてエチルセルロース3g
、有機溶剤としてジエチレングリコール17gをそれぞ
れ加え合わせ、らいかい機および3本ロールで混練した
後、ブヂルカルビトールアセテートを加え粘度調整をし
て作製したものを使用した。
Next, by screen printing using tungsten paste i-, the through holes formed in the green sheet were filled with paste, and a wiring pattern was printed on the green sheet. The tungsten paste used as the wiring material is 80% tungsten powder with an average particle size of 1.5-
3g of ethyl cellulose as an organic binder
and 17 g of diethylene glycol as an organic solvent were added to each, kneaded using a miller and three rolls, and then butyl carbitol acetate was added to adjust the viscosity.

続いて、上記所定の配線パターンを印刷形成したグリー
ンシートを所定枚数積み重ね、120℃、60kg/c
dの条件でホットプレスし、積層した。
Next, a predetermined number of green sheets with the predetermined wiring pattern printed on them were stacked and heated at 120°C and 60kg/c.
Hot pressing was carried out under the conditions of d and laminated.

次に、積層工程を終えたグリーンシート積層体の脱バイ
ンダーを□した。脱バインダーは、モリブデンを発熱体
とする箱型電気炉を用い、窒素、水素、水蒸気の混合雰
囲気中で800℃まで昇温し、15時間保持して行った
。なお、水蒸気と水素の分圧比(P H20/ P H
2)は0.5で行った。
Next, the binder was removed from the green sheet laminate after the lamination process. The binder was removed using a box-type electric furnace using molybdenum as a heating element, and the temperature was raised to 800° C. in a mixed atmosphere of nitrogen, hydrogen, and water vapor, and the temperature was maintained for 15 hours. In addition, the partial pressure ratio of water vapor and hydrogen (PH20/PH
2) was performed at 0.5.

脱バインダーの後、モリブデンを発熱体とする箱型電気
炉を用い、窒素と酸素の混合雰囲気中で1800℃まで
昇温し、1時間保持して焼結した。
After removing the binder, the temperature was raised to 1800° C. in a mixed atmosphere of nitrogen and oxygen using a box-type electric furnace using molybdenum as a heating element, and the temperature was maintained for 1 hour for sintering.

得られた焼結体の反りを面アラサ計を利用して測ったと
ころ、20nnの測長範囲歯たり15.以下の反りであ
り、濁りも認められなかった。また。
When the warpage of the obtained sintered body was measured using a surface roughness meter, it was found to be 15. The following warpage was observed, and no turbidity was observed. Also.

熱伝導率は160W/mKであった。The thermal conductivity was 160 W/mK.

(比較例) 一方、比較のために、積層までの工程を上記実施例と同
じ方法で作製した試料を、窒素雰囲気中で800℃まで
昇温し、100時間保持して脱バインダーした。脱バイ
ンダーの後、上記実施例と同様に、モリブデンを発熱体
とする箱型電気炉を用い、窒素と酸素の混合雰囲気中で
1800’cまで昇温し、1時間保持して焼結した。
(Comparative Example) On the other hand, for comparison, a sample prepared in the same manner as in the above example until lamination was heated to 800° C. in a nitrogen atmosphere and held for 100 hours to remove the binder. After removing the binder, the temperature was raised to 1800'C in a mixed atmosphere of nitrogen and oxygen using a box-type electric furnace using molybdenum as a heating element, and held for 1 hour for sintering.

得られた焼結体の反りを面アラサ計を利用して測ってみ
ると、20mmの測長範囲歯たり300t11mの反り
があり、全体が白く濁っていた。また、熱伝導率は50
W/mKであった。
When the warpage of the obtained sintered body was measured using a surface roughness meter, there was a warpage of 300t11m per tooth in a length measurement range of 20mm, and the whole body was cloudy white. Also, the thermal conductivity is 50
It was W/mK.

第1図は、脱バインダーの保持時間と脱バインダー後の
カーボン量の関係を示すものである。本発明に係る窒素
、水素、および水蒸気からなる混合雰囲気中では15時
間以上保持することによりカーボンがほとんど存在しな
くなる。これに対し、従来実施されている窒素雰囲気中
では100時間保持しても0.15wt%程度カーボン
が残留していることが明らかである。
FIG. 1 shows the relationship between the holding time for binder removal and the amount of carbon after binder removal. Almost no carbon exists in the mixed atmosphere of nitrogen, hydrogen, and water vapor according to the present invention when the mixture is maintained for 15 hours or more. On the other hand, it is clear that about 0.15 wt % of carbon remains even if the sample is held in a nitrogen atmosphere for 100 hours, which has been conventionally practiced.

また、第2図は脱バインダーの保持時間と焼結体の熱伝
導率の関係を示すものである。本発明による窒素、水素
、および水蒸気からなる混合雰囲気中の脱バインダーで
は、保持時間が15時間を越えると熱伝導率は、はぼ一
定の値をとる。これに対し、従来実施されている窒素雰
囲気中の脱バインダーによる場合には、熱伝導率は保持
時間の増加と共に単調に増加するものの、窒素、水素。
Furthermore, FIG. 2 shows the relationship between the holding time for debinding and the thermal conductivity of the sintered body. In the debinding process according to the present invention in a mixed atmosphere of nitrogen, hydrogen, and water vapor, the thermal conductivity takes on a nearly constant value when the holding time exceeds 15 hours. On the other hand, in the case of conventional debinding in a nitrogen atmosphere, the thermal conductivity increases monotonically with increasing holding time;

水蒸気の混合雰囲気中の脱バインダーによるものに比べ
れば、その変化は非常に小さい。
The change is very small compared to that caused by debinding in a mixed atmosphere of water vapor.

「発明の効果」 以上説明したように、本発明によれば1反りや濁りの少
ない多層配線基板を得ることができ、窒化アルミニウム
の特徴を生かした高熱伝導性のセラミック多層配線基板
を製造することができる。
"Effects of the Invention" As explained above, according to the present invention, it is possible to obtain a multilayer wiring board with less warpage and turbidity, and to manufacture a highly thermally conductive ceramic multilayer wiring board that takes advantage of the characteristics of aluminum nitride. I can do it.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明における脱バインダーの保持時間と脱バ
インダー後のカーボン量の関係を示す図、第2図は脱バ
インダーの保持時間と得られた焼結体の熱伝導率の関係
を示す図である。 悼 図 保持時間(118間) 悴 図 侃詩M藺(綺藺) 手続補正書(自剤 事件の表示 昭和62年特許願第313648 発明の名称 窒化アルミニウム多層基板の製造方法 補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都千代田区丸の内二丁目1番2号名称(50
8)日立金属株式会社 号 補正の内容 明細書の「発明の詳細な説明」の欄の記載を次つどとく
補正する。 1、第3頁第12行(7)rVIAJをr X ルーJ
に訂正する。 2)第8頁第14行の「ジエチレングリコール」を「n
−ブチルカルピトールアセテート」に訂正する。 3、同頁第16〜17行の[した後、ブチルカルピトー
ルアセテートを加え粘度調整を」を削除する。 以上
Figure 1 is a diagram showing the relationship between the holding time for binder removal and the amount of carbon after binder removal in the present invention, and Figure 2 is a diagram showing the relationship between the holding time for binder removal and the thermal conductivity of the obtained sintered body. It is. Mourning drawing holding time (118 minutes) 悴图侃 Poem M藺 (KI藺) Procedural amendment (indication of self-inflicted case 1988 Patent application No. 313648 Title of invention Case for a person who amends the manufacturing method of an aluminum nitride multilayer substrate) Relationship Patent applicant address 2-1-2 Marunouchi, Chiyoda-ku, Tokyo Name (50
8) The statements in the "Detailed Description of the Invention" column of the statement of contents of the Hitachi Metals Co., Ltd. amendment shall be amended one after another. 1, page 3, line 12 (7) rVIAJ r
Correct to. 2) Change “diethylene glycol” on page 8, line 14 to “n
-butyl carpitol acetate”. 3. Delete "After that, add butylcarpitol acetate to adjust the viscosity" in lines 16-17 of the same page. that's all

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)窒化アルミニウム粉末に焼結助剤および有機バイ
ンダーを混合して、グリーンシートを作製し、これに所
望の配線パターンとなるようにタングステン等の導体を
印刷し、次いでシートを積層した後、窒素,水素,およ
び水蒸気の混合雰囲気中で脱バインダーを行い、焼結す
ることを特徴とする窒化アルミニウム多層基板の製造方
法。
(1) Mix aluminum nitride powder with a sintering aid and an organic binder to prepare a green sheet, print a conductor such as tungsten on it to form the desired wiring pattern, and then stack the sheets. A method for producing an aluminum nitride multilayer substrate, which comprises removing the binder and sintering in a mixed atmosphere of nitrogen, hydrogen, and water vapor.
(2)特許請求の範囲第1項記載の製造方法において、
上記混合雰囲気中の水蒸気と水素の分圧比が0.1〜1
であることを特徴とする窒化アルミニウム多層基板の製
造方法。
(2) In the manufacturing method according to claim 1,
The partial pressure ratio of water vapor and hydrogen in the above mixed atmosphere is 0.1 to 1
A method for manufacturing an aluminum nitride multilayer substrate, characterized in that:
JP31364887A 1987-12-11 1987-12-11 Manufacture of aluminum nitride multilayer board Pending JPH027495A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03199182A (en) * 1989-12-28 1991-08-30 Tokuyama Soda Co Ltd Production of aluminum nitride sintered body having metallized layer
JP2009038386A (en) * 2008-09-12 2009-02-19 Toshiba Corp Method of manufacturing circuit board

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH03199182A (en) * 1989-12-28 1991-08-30 Tokuyama Soda Co Ltd Production of aluminum nitride sintered body having metallized layer
JPH075414B2 (en) * 1989-12-28 1995-01-25 株式会社トクヤマ Method of manufacturing aluminum nitride sintered body having metallized layer
JP2009038386A (en) * 2008-09-12 2009-02-19 Toshiba Corp Method of manufacturing circuit board

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