JPH0636473B2 - Multilayer ceramic board - Google Patents

Multilayer ceramic board

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JPH0636473B2
JPH0636473B2 JP59109197A JP10919784A JPH0636473B2 JP H0636473 B2 JPH0636473 B2 JP H0636473B2 JP 59109197 A JP59109197 A JP 59109197A JP 10919784 A JP10919784 A JP 10919784A JP H0636473 B2 JPH0636473 B2 JP H0636473B2
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ceramic substrate
aluminum nitride
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、多層セラミック基板、特に高熱伝導性を有す
る多層セラミック基板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a multilayer ceramic substrate, particularly a multilayer ceramic substrate having high thermal conductivity.

(従来技術とその問題点) 半導体工業の飛躍的な進展によって、IC,LSIが産
業用、民需用に幅広く使用されるようになってきてい
る。
(Prior art and its problems) Due to the dramatic development of the semiconductor industry, ICs and LSIs have come to be widely used for industrial and commercial purposes.

特に集積密度の高い、高速作動のLSIの実装用基板と
して多層セラミック基板が注目されている。この多層セ
ラミック基板は直接LSIを実装することができ微細多
層配線が可能である。
In particular, a multi-layer ceramic substrate has attracted attention as a substrate for mounting an LSI having a high integration density and operating at high speed. This multilayer ceramic substrate can be directly mounted with an LSI, and fine multilayer wiring is possible.

一般にセラミック基板の材料としては、主にアルミナが
使用されているが、近年電気装置は一段と小型化され、
回路の高密度化が強く要求され、基板の単位面積当りの
素子や回路要素の集積度が高くなっている。一方LSI
においては、高速作動を行なうに従いチップから発生す
る熱が多量になってくる傾向にある。この結果、基板の
発熱が大幅に増加し、アルミナ基板では熱の放散性が十
分ではないという問題が生じている。そのため、アルミ
ナ基板よりも熱伝導率が大きく、熱の放散性に優れた絶
縁基板が必要になってきた。
Generally, alumina is mainly used as the material of the ceramic substrate, but in recent years, electric devices have been further downsized,
There is a strong demand for higher density circuits, and the degree of integration of elements and circuit elements per unit area of the substrate is increasing. On the other hand, LSI
In the above, the amount of heat generated from the chip tends to increase as high speed operation is performed. As a result, the heat generation of the substrate is significantly increased, and the alumina substrate has a problem that the heat dissipation is not sufficient. Therefore, an insulating substrate having a higher thermal conductivity than the alumina substrate and excellent heat dissipation has been required.

そこで熱放散性に対して優れた材料として炭化ケイ素を
主成分としたセラミック基板が開発された。炭化ケイ素
はそれ自体電気的には半導体に属し、比抵抗が1〜10Ω
・cm程度で電気絶縁性がないため、絶縁基板としては用
いることができない。また炭化ケイ素は融点が高く非常
に焼結しにくいので、通常焼結に際しては少量の焼結助
剤を添加し、高温で加圧するいわゆるホットプレス法に
より作られる。この焼結助剤として酸化ベリリウムや窒
化ホウ素を用いると、焼結助剤効果だけでなく、電気絶
縁性に対しても有効で炭化ケイ素主成分の焼結基板の比
抵抗が1010Ωcm以上となる。しかし、LSI等の実装基
板において重要な要因の1つである誘電率は1MHzで
40とかなり高く、添加剤を加えた絶縁性も電圧が5V程
度になると粒子間の絶縁が急激に低下するため耐電圧に
対しても問題がある。
Therefore, a ceramic substrate containing silicon carbide as a main component has been developed as a material excellent in heat dissipation. Silicon carbide itself belongs to the semiconductor electrically, and the specific resistance is 1 to 10Ω.
・ Cannot be used as an insulating substrate because it does not have electrical insulation at about cm. Further, since silicon carbide has a high melting point and is extremely difficult to sinter, it is usually produced by a so-called hot pressing method in which a small amount of a sintering aid is added and pressure is applied at a high temperature. When beryllium oxide or boron nitride is used as this sintering aid, it is effective not only for the effect of the sintering aid, but also for electrical insulation, and the specific resistance of the sintered substrate containing silicon carbide as the main component is 10 10 Ωcm or more. Become. However, the dielectric constant, which is one of the important factors in mounting boards such as LSI, is 1MHz.
It is considerably high at 40, and the insulating property with additives also has a problem with respect to the withstand voltage because the insulation between particles drops sharply when the voltage reaches about 5V.

又、BeO粉末を用いて多層セラミック基板を作成する
ことは可能であるが有毒性がある為実用上困難な面がで
てくる。
Although it is possible to prepare a multilayer ceramic substrate using BeO powder, it is practically difficult because it is toxic.

一方プロセス的観点からしてホットプレス法を適用しな
ければならず、装置が大がかりになるばかりでなく、基
板の形状も大面積化は困難であり、表面平滑性に対して
も問題が多い。さらに、炭化ケイ素系を用いたセラミッ
ク基板においては、従来のグリーンシート法を用いたア
ルミナ多層セラミック基板技術を利用することはプロセ
ス的に極めて困難である。
On the other hand, the hot pressing method has to be applied from a process point of view, and not only the apparatus becomes large in size, but also the shape of the substrate is difficult to have a large area, and there are many problems in surface smoothness. Furthermore, in the case of a silicon carbide-based ceramic substrate, it is extremely difficult in terms of process to utilize the conventional alumina multilayer ceramic substrate technology using the green sheet method.

ここでいうグリーンシート法多層セラミック基板技術と
は次に示す技術である。まずセラミック粉末を有機ビヒ
クルとともに混合し、スラリー化する。このスラリーを
キャスティング製膜法により10μm〜400μm程度の厚
みを有するシートを有機フィルム上に形成する。該シー
トを所定の大きさに切断し、各層間の導通を得るための
スルーホールを形成したのち、厚膜印刷法により所定の
導体パターンを形成する。これらの各導体パターンを形
成したセラミックグリーンシートを積層プレスし脱バイ
ンダー工程を経て焼成する。
The green sheet method multilayer ceramic substrate technology mentioned here is the technology described below. First, ceramic powder is mixed with an organic vehicle to form a slurry. A sheet having a thickness of about 10 μm to 400 μm is formed on the organic film by the casting film forming method using this slurry. The sheet is cut into a predetermined size to form through holes for obtaining conduction between the layers, and then a predetermined conductor pattern is formed by a thick film printing method. The ceramic green sheets on which each of these conductor patterns is formed are laminated and pressed, and then subjected to a binder removal step and fired.

高密度実装基板として具備すべき主な性質としては、
(1)電気特性に対して誘電率が低く、誘電損失が小さ
く、また電気絶縁性に優れていること、(2)機械的強度
が十分であること、(3)熱伝導性が高いこと、(4)熱膨張
係数がシリコンチップ等のそれに近いこと、および(5)
表面平滑性が優れていること、(6)高密度化が容易であ
ること等が必要である。
The main properties that a high-density mounting board should have are:
(1) Low dielectric constant with respect to electrical characteristics, low dielectric loss, and excellent electrical insulation, (2) sufficient mechanical strength, (3) high thermal conductivity, (4) The coefficient of thermal expansion is close to that of silicon chips, and (5)
It must have excellent surface smoothness, and (6) easy densification.

これらの基板性質全般に対して前述のセラミック基板は
決して十分なものであるとはいえない。
The ceramic substrate described above is by no means sufficient for all of these substrate properties.

本発明者らは、これらの具備すべき基板性質を留意しな
がら、特に高熱伝導性および多層高密度化に着目して窒
化アルミニウム多層セラミック基板の発明に至った。
The present inventors have arrived at the invention of an aluminum nitride multilayer ceramic substrate, paying attention to high thermal conductivity and multilayer densification while paying attention to these substrate properties to be provided.

(発明の目的) 本発明は、前述した従来の実装基板の欠点を除去せしめ
て熱伝導性の優れた高密度な高熱伝導多層セラミック基
板を提供することにある。
(Object of the Invention) It is an object of the present invention to provide a high-density, high-thermal-conductivity multilayer ceramic substrate having excellent thermal conductivity by eliminating the above-mentioned drawbacks of the conventional mounting substrate.

(発明の構成) 本発明によれば、窒化アルミニウムを主成分とする多結
晶体で構成されたセラミックス層に複数の導体層を形成
し、セラミックス層中に前記複数の導体層を電気的に接
続するためのビアホールを形成して積層したことを特徴
とする多層セラミック基板が得られる。
(Structure of the Invention) According to the present invention, a plurality of conductor layers are formed on a ceramic layer composed of a polycrystalline body containing aluminum nitride as a main component, and the plurality of conductor layers are electrically connected in the ceramic layer. A multilayer ceramic substrate is obtained in which via holes for forming are laminated and laminated.

(構成の詳細な説明) 本発明は、上述の構成をとることにより従来技術の問題
点を解決した。
(Detailed Description of Configuration) The present invention has solved the problems of the prior art by adopting the above configuration.

まず、多層セラミック基板を構成する絶縁セラミック材
料として、熱伝導性の高い窒化アルミニウムを用いた。
この材料は焼成後、窒化アルミニウム多結晶の緻密な構
造体を形成する。高熱伝導率を得るためには焼結体の含
有酸素量が少ない方が好ましくその為に添加物として還
元効果のある還元剤を入れることが好ましい。
First, aluminum nitride, which has a high thermal conductivity, was used as the insulating ceramic material that constitutes the multilayer ceramic substrate.
After firing, this material forms a dense structure of polycrystalline aluminum nitride. In order to obtain high thermal conductivity, it is preferable that the sintered body contains a small amount of oxygen, and therefore, it is preferable to add a reducing agent having a reducing effect as an additive.

次に、導体層に関しては、窒化アルミニウムで構成され
ているセラミック層に複数の電源層、グランド層および
微細な信号線等の導体層を形成し、これらの複数の導体
層をセラミック層中に設けたビアホールを介して電気的
に接続されている。
Next, regarding the conductor layer, a plurality of conductor layers such as a power source layer, a ground layer and fine signal lines are formed on a ceramic layer made of aluminum nitride, and these conductor layers are provided in the ceramic layer. It is electrically connected via a via hole.

したがって、実装基板の配線密度が非常に高められると
ともに、LSI等の素子から発生する熱を、効率的に外
部に放散することが可能となる。
Therefore, the wiring density of the mounting board is greatly increased, and the heat generated from elements such as LSI can be efficiently dissipated to the outside.

(実施例1) 以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
Example 1 An example of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は本発明による高熱伝導多層セラミック基板の実
施例を示す説明図である。1は絶縁セラミック層であ
り、主成分として窒化アルミニウムの多結晶体で構成さ
れている。2は信号線および電源等の導体層であり、モ
リブデン、ダングステン、白金およびマンガン等の金属
の単体もしくは、これらの金属の2つ以上を含んだ合金
で形成されており、絶縁セラミック層に形成されている
ビアホール3を介して各層間を電気的に接続している。
このように構成されている多層セラミック基板上にはL
SIチップがマウント出来るようにダイパッド4および
ボンディングパッド5が形成され、該実装基板外に信号
を取り出したり、基板内へ信号を入れたりするためのI/
Oパッド6が基板裏面に形成されている。基板上にマウ
ントされているLSIチップから発生する熱をダイパッ
ド4を介してセラミック基板内へ拡散する。セラミック
基板の熱伝導率が高いことにより熱拡散が効率的に行な
われることになり、LSIチップの発熱による高温化を
防止することができる。
FIG. 1 is an explanatory view showing an embodiment of a high thermal conductive multilayer ceramic substrate according to the present invention. Reference numeral 1 is an insulating ceramic layer, which is composed of a polycrystal of aluminum nitride as a main component. Reference numeral 2 is a conductor layer for signal lines, power supplies, etc., which is formed of a simple substance of a metal such as molybdenum, dangsten, platinum and manganese, or an alloy containing two or more of these metals, and is formed in an insulating ceramic layer. The respective layers are electrically connected via the via hole 3 formed.
L is formed on the multilayer ceramic substrate constructed in this way.
The die pad 4 and the bonding pad 5 are formed so that the SI chip can be mounted, and the I / I for extracting a signal to the outside of the mounting board or inputting a signal into the board is provided.
The O pad 6 is formed on the back surface of the substrate. The heat generated from the LSI chip mounted on the substrate is diffused into the ceramic substrate through the die pad 4. Due to the high thermal conductivity of the ceramic substrate, thermal diffusion is efficiently performed, and it is possible to prevent the temperature of the LSI chip from rising due to heat generation.

表は、添加剤としてCaC2を用いて添加量を変化させ
たときの窒化アルミニウム多層セラミック基板の諸特性
を示したものである。ここに示したCaC2量は窒化ア
ルミニウムを100としたときの値である。表に示したよ
うに窒化アルミニウム粉末とCaC2粉末とを秤量し、
ボールミルにより温式混合を48時間行なった。
The table shows various characteristics of the aluminum nitride multilayer ceramic substrate when CaC 2 was used as an additive and the addition amount was changed. The CaC 2 amount shown here is a value when aluminum nitride is 100. As shown in the table, aluminum nitride powder and CaC 2 powder were weighed,
Warm mixing was performed for 48 hours with a ball mill.

この混合粉末を、ポリカプロラクトン系、あるいはポリ
メチルメタアクリレート系樹脂等の中性雰囲気で分解可
能な有機バインダーとともに溶媒中に分散し粘度3000〜
7000cpの範囲の泥漿を作成する。該泥漿をキャスティ
ング製膜法により10μm〜200μm程度の均一な厚みに
なるように、有機フィルム上にグリーンシートを作成す
る。
This mixed powder is dispersed in a solvent together with an organic binder capable of decomposing in a neutral atmosphere such as a polycaprolactone-based or polymethylmethacrylate-based resin, and a viscosity of 3000-
Create sludge in the range of 7,000 cp. A green sheet is formed on the organic film by a casting film forming method so that the slurry has a uniform thickness of about 10 μm to 200 μm.

次にこのグリーンシートを有機フィルムから剥離し、12
0mm×120mmの形状になるように打抜いたのち、各層間を
電気的に接続するためのビアホールを形成する。ここで
形成したビアホールは機械的に、ポンチおよびダイを用
いて打抜いたが、他にレーザー加工等の方法によっても
開けることが可能である。
Next, peel off this green sheet from the organic film, and
After punching into a shape of 0 mm x 120 mm, a via hole for electrically connecting each layer is formed. The via hole formed here is mechanically punched using a punch and a die, but it can also be opened by a method such as laser processing.

ビアホールの形成されたグリーンシート上へ、モリブデ
ン、タングステン、白金等を主成分とした導体ペースト
をスクリーン印刷法により所定の位置に所定のパターン
を印刷する。こうして導体を印刷した各グリーンシート
を所望の枚数積層し、加熱プレスする。その後、必要な
形状になるようにカッターを用いて切断し、1400℃〜20
00℃の温度で中性もしくは、還元性雰囲気中で焼成す
る。焼成の際、その昇温過程で400℃〜500℃の非酸化性
雰囲気下で8時間保持して脱バインダーを充分に行なっ
た。
On the green sheet in which the via holes are formed, a conductive paste containing molybdenum, tungsten, platinum or the like as a main component is printed at a predetermined position by a screen printing method. A desired number of green sheets on which the conductors are printed in this manner are stacked and heated and pressed. After that, cut with a cutter to obtain the required shape, 1400 ℃ ~ 20
Bake at a temperature of 00 ° C in a neutral or reducing atmosphere. During firing, the binder was sufficiently removed by holding it in a non-oxidizing atmosphere at 400 ° C. to 500 ° C. for 8 hours during the heating process.

作成した基板の電気的特性を測定した結果、比抵抗が10
11Ωcm以上であり、誘電率は8.7(1MHz)、誘電損
失は1×10-3以下(1MHz)であった。電気的特性に
おいても従来の基板に対して同程度以上あり実装基板と
して十分であることがわかる。
As a result of measuring the electrical characteristics of the created board, the specific resistance is 10
It was 11 Ωcm or more, the dielectric constant was 8.7 (1 MHz), and the dielectric loss was 1 × 10 -3 or less (1 MHz). The electrical characteristics are similar to or higher than those of the conventional board, which indicates that the board is sufficient as a mounting board.

(実施例2) 添加剤としてCaOを1.0wt%添加した混合粉を原料
粉末として用いた。非酸化性雰囲気下で分解可能な有機
バインダーを有機溶媒と共に混合し泥漿化したのち150
μm〜300μmの厚みのグリーンシートを作成した。
(Example 2) A mixed powder containing 1.0 wt% of CaO as an additive was used as a raw material powder. After mixing an organic binder that can be decomposed in a non-oxidizing atmosphere with an organic solvent to form a slurry, 150
A green sheet having a thickness of μm to 300 μm was prepared.

該グリーンシートに300μm程度のビアホールを形成
し、スクリーン印刷法によりモリブデン、又はタングス
テン又は白金等の高融点金属ペーストを印刷し積層、熱
プレス後窒素中又はヘリウム中又はアルゴン中の中性雰
囲気、および水素を含んだ還元性雰囲気下で1800℃の温
度で焼結した。この時の多層基板の特性は、熱伝導率が
100W/mKと高く、熱膨張係数も41×10-7/℃とシリ
コンの熱膨張係数に近い値を示した。一方機械的特性と
しての抗折強度は4100kg/cm2と実装基板として十分な
値を有していた。
A via hole of about 300 μm is formed in the green sheet, and a high melting point metal paste such as molybdenum, tungsten or platinum is printed and laminated by a screen printing method, and after hot pressing, a neutral atmosphere in nitrogen or helium or argon, and Sintering was performed at a temperature of 1800 ° C. under a reducing atmosphere containing hydrogen. The characteristics of the multilayer board at this time are that the thermal conductivity is
It was as high as 100 W / mK, and the coefficient of thermal expansion was 41 × 10 -7 / ° C, which was close to that of silicon. On the other hand, the bending strength as a mechanical property was 4100 kg / cm 2, which was a sufficient value for a mounting substrate.

本実施例においては常圧焼結法により行なっているた
め、ホットプレス法等の高圧焼結法に比較して、焼結プ
ロセスが簡便であり、量産性に対しても非常に有利であ
る。このようにプロセス的に容易であることおよび原料
費が低価格であるということにより生産に対する低コス
ト化が可能である。
In this embodiment, since the pressureless sintering method is used, the sintering process is simpler than the high pressure sintering method such as the hot pressing method, and it is very advantageous in terms of mass productivity. As described above, the process is easy and the raw material cost is low, so that the production cost can be reduced.

(実施例3) 添加剤或いは還元剤として一般に知られている物質を用
いて窒化アルミニウム多層セラミック基板を作成した。
例えばBeO,Y23,CuO,AgO,BaC2,S
rC2,Na22,K22,Rb22,CsC2,CuC
2,MgC2,Al26,Ce26,Ag22,ZuC2
をそれぞれ最大10wt%まで添加した窒化アルミニウム
原料粉末を用いてグリーンシート化し多層構造の実装基
板を作成した。
(Example 3) An aluminum nitride multilayer ceramic substrate was prepared using a material generally known as an additive or a reducing agent.
For example, BeO, Y 2 O 3 , CuO, AgO, BaC 2 , S
rC 2 , Na 2 C 2 , K 2 C 2 , Rb 2 C 2 , CsC 2 , CuC
2 , MgC 2 , Al 2 C 6 , Ce 2 C 6 , Ag 2 C 2 , ZuC 2
Was formed into a green sheet using aluminum nitride raw material powders containing up to 10 wt.

焼成温度としては1500℃〜2000℃の範囲で中性ないし還
元雰囲気中で行なった。
The firing temperature was in the range of 1500 ° C to 2000 ° C in a neutral or reducing atmosphere.

作成基板の熱伝導率は添加量が0.5wt%〜4.0wt%の
範囲で100W/mK以上を有し、さらに0.3wt%〜8.0
wt%までの範囲で80w/mkを示し、アルミナ基板に
比較して、熱放散性にすぐれていた。
The thermal conductivity of the prepared substrate is 100 W / mK or more in the range of 0.5 wt% to 4.0 wt% addition, and 0.3 wt% to 8.0 wt%.
It showed 80 w / mk in the range up to wt%, and was excellent in heat dissipation compared with the alumina substrate.

なお、以上挙げた添加剤又は還元剤を複数添加した場合
でも熱伝導率は良好な値が得られた。
Even when a plurality of the above-mentioned additives or reducing agents were added, good thermal conductivity was obtained.

(発明の効果) 実施例からも明らかなように、本発明の構造を有するこ
とにより、容易に高密度な回路を形成することが出来、
熱放散性に対しても非常に有効な高熱伝導多層セラミッ
ク基板が得られる。
(Effect of the invention) As is clear from the examples, by having the structure of the present invention, it is possible to easily form a high-density circuit,
It is possible to obtain a highly heat conductive multilayer ceramic substrate which is also very effective for heat dissipation.

従来用いられているアルミナ基板の熱伝導率は17W/m
kであり、本発明基板の熱伝導率が非常に高いレベルで
あることがわかる。また熱膨張係数においては、アルミ
ナ基板が65×10-7/℃であるのに対して本発明基板は小
さな値をもち、よりシリコンチップの熱膨張係数に近い
値になっており有利である。
The thermal conductivity of conventionally used alumina substrates is 17 W / m.
It is k, and it can be seen that the thermal conductivity of the substrate of the present invention is at a very high level. Regarding the coefficient of thermal expansion, the alumina substrate has a value of 65 × 10 −7 / ° C., whereas the substrate of the present invention has a small value, which is advantageous because it is closer to the coefficient of thermal expansion of a silicon chip.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す高熱伝導多層セラミッ
ク基板の概略図である。1……絶縁セラミック層、2…
…導体層、3……ビアホール、4……ダイパッド、5…
…ボンディングパッド、6……I/Oパッド。
FIG. 1 is a schematic view of a high thermal conductive multilayer ceramic substrate showing an embodiment of the present invention. 1 ... Insulating ceramic layer, 2 ...
... Conductor layer, 3 ... Via hole, 4 ... Die pad, 5 ...
... bonding pad, 6 ... I / O pad.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 高見沢 秀男 東京都港区芝5丁目33番1号 日本電気株 式会社内 (56)参考文献 特開 昭60−178688(JP,A) 特開 昭60−180954(JP,A) 特開 昭53−102310(JP,A) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Hideo Takamizawa 5-33-1 Shiba, Minato-ku, Tokyo Inside NEC Corporation (56) References JP-A-60-178688 (JP, A) JP-A-SHO 60-180954 (JP, A) JP-A-53-102310 (JP, A)

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】窒化アルミニウムを主成分とする多結晶体
で構成されたセラミックス層に複数の高融点金属よりな
る導体層を形成し、セラミックス層中に前記複数の導体
層を電気的に接触するためのビアホールを形成して積層
したことを特徴とする多層セラミック基板。
1. A conductor layer made of a plurality of refractory metals is formed on a ceramic layer composed of a polycrystalline body containing aluminum nitride as a main component, and the plurality of conductor layers are electrically contacted in the ceramic layer. A multilayer ceramic substrate having a via hole for forming and laminating.
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