JPH0415638B2 - - Google Patents

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JPH0415638B2
JPH0415638B2 JP60215352A JP21535285A JPH0415638B2 JP H0415638 B2 JPH0415638 B2 JP H0415638B2 JP 60215352 A JP60215352 A JP 60215352A JP 21535285 A JP21535285 A JP 21535285A JP H0415638 B2 JPH0415638 B2 JP H0415638B2
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JP
Japan
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carbide
substrate
ceramic
multilayer ceramic
wiring board
Prior art date
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JP60215352A
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Japanese (ja)
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JPS6273800A (en
Inventor
Juzo Shimada
Hideo Takamizawa
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NEC Corp
Original Assignee
Nippon Electric Co Ltd
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Publication date
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Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

(産業上の利用分野) 本発明は、高熱伝導多層セラミツク配線基板に
関するものである。 (従来技術とその問題点) 半導体技術の飛躍的な進展によつて、IC、LSI
が産業用、民需用に幅広く使用されるようになつ
てきている。 特に集積密度の高い、高速作動のLSIの実装用
基板として多層セラミツク基板が注目されてい
る。この多層セラミツク基板は直接LSIを実装す
ることができ微細多層配線が可能である。 一般にセラミツク基板の材料としては、主にア
ルミナが使用されているが、近年電気装置は一段
と小型化され回路の高密度化が強く要求され、基
板の単位面積当りの素子や回路要素の集積度が高
くなつている。一方LSIにおいては、高速作動を
行なうに従いチツプから発生する熱が多量になつ
てくる傾向にある。この結果、基板の発熱が大幅
に増加し、アルミナ基板では、熱の放散性が十分
ではないという問題が生じている。そのため、ア
ルミナ基板よりも熱伝導率が大きく、熱の放散性
に優れた絶縁基板が必要になつてきた。 そこで熱放散性に対して優れた材料として炭化
ケイ素を主成分としたセラミツク基板が開発され
た(特開昭57−180006号公報)。炭化ケイ素はそ
れ自体電気的に半導体に属し、比抵抗が1〜10
Ω・cm程度で電気絶縁性がないため、絶縁基板と
しては用いることができない。また炭化ケイ素は
触点が高く非常に焼結しにくいので、通常焼結に
際しては少量の焼結助剤を添加し、高温で加圧す
るいわゆるホツトプレス法により作られる。この
焼結助剤として酸化ベリリウムや窒化ホウ素を用
いると、焼結助剤効果だけでなく、電気絶縁性に
対しても有効で炭化ケイ素主成分の焼結基板の比
抵抗が1010Ω・cm以上となる。しかし、LSI等の
実装基板において重要な要因の1つである誘電率
は1MHzで40とかなり高く、添加剤を加えた絶縁
性も電圧が5V程度になると粒子間の絶縁が急激
に低下するため耐電圧に対しても問題がある。 又、BeO粉末を用いて多層セラミツク基板を
作成することは可能であるが有毒性である為実用
上困難な面がでてくる。 一方プロセス的観点からしてホツトプレス法を
適用しなければならず、装置が大がかりになるば
かりでなく、基板の形状も大面積化は困難であ
り、表面平滑性に対しても問題が多い。さらに炭
化ケイ素系を用いたセラミツク基板においては、
従来のグリーンシート法を用いたアルミナ多層セ
ラミツク基板技術を利用することはプロセス的に
極めて困難である。 ここでいうグリーンシート法多層セラミツク基
板技術とは次に示す技術である。まずセラミツク
粉末を有機ビヒクルとともに混合し、スラリー化
する。このスラリーをキヤステイング製膜法によ
り10μm〜400μm程度の厚みを有するシートを有
機フイルム上に形成する。該シートを所定の大き
さに切断し、各層間の導通を得るためのスルーホ
ールを形成したのち、厚膜印刷法により所定の導
通パターンを形成する。これらの各導体パターン
を形成したセラミツクグリーンシートを積層プレ
スし、脱バインダー工程を経て焼成する。 高密度実装基板として具備すべき主な性質とし
ては、(1)電気特性に対して誘電率が低く、誘電損
失が小さく、また電気絶縁性に優れていること、
(2)機械的強度が十分であること、(3)熱伝導性が高
いこと、(4)熱膨張係数がシリコンチツプ等のそれ
に近いこと、(5)表面平滑性が優れていること、お
よび(6)高密度化が容易であること等が必要であ
る。 これらの基板性質全般に対して前述のセラミツ
ク基板は決して十分なものであるとはいえない。 一方、高熱伝導性基板の材料として窒化アルミ
ニウムが開発されている(特開昭59−50077号公
報など)。しかしながらこの材料も高温で焼結し
なければならず、ホツトプレス法による作製方法
が主流となつており、まだ窒化アルミニウムを用
いた多層配線基板は実現されていない。 (発明の目的) 本発明は、前述した従来のセラミツク配線基板
の欠点を除去せしめて熱伝導性の優れた、内部に
導体を有する高密度、高熱伝導多層セラミツク配
線基板を提供することにある。 (発明の構成) 本発明によれば、セラミツクス構造体が窒化ア
ルミニウムを主成分とする多結晶体で構成され、
導体層の主成分が窒化チタンと炭化金属との混合
物からなることを特徴とする高熱伝導多層セラミ
ツク配線基板が得られる。 (構成の詳細な説明) 本発明は、上述の構成をとることにより従来技
術の問題点を解決した。 まず、多層セラミツク基板を構成する絶縁セラ
ミツクス材料として、熱伝導性の高い窒化アルミ
ニウムを用いた。この材料は焼成後、窒化アルミ
ニウム多結晶の緻密な構造体を形成する。高熱伝
導率を得るためには焼結体の含有酸素量が少ない
方が好ましくその為に添加物として還元効果のあ
る還元剤を入れることが好ましい。 次に、導体層に関しては、窒化アルミニウムで
構成されているセラミツク層に複数の電源層、グ
ランド層および微細な信号線等の導体層を形成
し、これらの複数の導体層をセラミツクス層中に
設けたビアホールを介して電気的に接続されてい
る。 したがつて、実装基板の配線密度が非常に高め
られるとともに、LSI等の素子から発生する熱
を、効率的に外部に放散することが可能となる。 (実施例) 以下本発明の実施例について図面を参照して詳
細に説明する。 第1図は本発明による高熱伝導多層セラミツク
基板の実施例を示す説明図である。1は絶縁セラ
ミツクス層であり、主成分として窒化アルミニウ
ムの多結晶体で構成されている。2は信号線およ
び電源等の導体層であり、窒化チタンと炭化金属
の混合物を主成分として形成されており、絶縁セ
ラミツクス層に形成されたビアホール3を介して
各層間を電気的に接続している。このように構成
されている多層セラミツク基板上にはLSIチツプ
がマウント出来るようにダイパツト4およびボン
デイングパツド5が形成され、該実装基板外に信
号を取り出したり、基板内へ信号を入れたりする
ための入出力用パツド6が基板裏面に形成されて
いる。基板上にマウントされたLSIチツプから発
生する熱をダイパツト4を介してセラミツク基板
内へ拡散させる。セラミツク基板の熱伝導率が高
いことにより熱拡散が効率的に行なわれることに
なり、LSIチツプの発熱による高温化を防止する
ことができる。 本実施例の配線基板の製造方法は次のとおりで
ある。本発明の基板を構成しているセラミツクス
材料としては、窒化アルミニウムの焼結性を高め
るため添加剤としてCaC2を混入させている。ま
ず窒化アルミニウム粉末とCaC2粉末とを秤量し
ボールミルにより有機溶媒中での湿式混合を48時
間行なつた。 この混合粉末をポカリプロラクトン系あるいは
ポリアクリレート系樹脂等の中性雰囲気下で分解
されやすい有機バインダーとともに溶媒中に分散
し粘度3000〜7000cpの範囲の泥漿を作成する。
該泥漿をキヤステイング製膜法により10μm〜
200μm程度の均一な厚みになるように、有機フ
イルム上にグリーンシートを作成する。 次にこのグリーンシートを有機フイルウから剥
離したのち各層間を電気的に接続するためのビア
ホール形成する。ここで形成したビアホールは、
機械的にポンチおよびダイを用いて打抜いたが、
他にレーザー加工等の方法によつても開けること
が可能である。 ビアホールの形成されたグリーンシート上へ、
窒素雰囲気あるいは他の中性雰囲気あるいは還元
雰囲気の下で焼成した際、窒化チタンと炭化金属
との混合物となる化合物を主成分とした導体ペー
ストをスクリーン印刷法により所定の位置に所定
のパターンを印刷する。こうして導体を印刷した
各グリーンシートを所望の枚数積層し加熱プレス
する。その後必要な形状になるようにカツターを
用いて切断し、1400℃〜2000℃の温度で非酸化性
雰囲気中で焼成する。焼成の際、その昇温過程で
400℃〜600℃の温度で脱バインダーを充分に行な
つた。作製した試料に用いた導体ペーストの組成
を第2表に示す。
(Industrial Application Field) The present invention relates to a highly thermally conductive multilayer ceramic wiring board. (Conventional technology and its problems) With the rapid progress of semiconductor technology, IC, LSI
has come to be widely used for industrial and civilian purposes. In particular, multilayer ceramic substrates are attracting attention as mounting substrates for high-speed operation LSIs with high integration density. This multilayer ceramic substrate allows direct mounting of LSI and enables fine multilayer wiring. Generally, alumina is mainly used as the material for ceramic substrates, but in recent years, electrical devices have become smaller and there is a strong demand for higher circuit densities, and the degree of integration of elements and circuit elements per unit area of the substrate has increased. It's getting expensive. On the other hand, as LSIs operate at high speeds, the chips tend to generate more heat. As a result, the heat generated by the substrate increases significantly, and the problem arises that the alumina substrate does not have sufficient heat dissipation properties. Therefore, there is a need for an insulating substrate that has higher thermal conductivity and better heat dissipation than an alumina substrate. Therefore, a ceramic substrate mainly composed of silicon carbide was developed as a material with excellent heat dissipation properties (Japanese Patent Application Laid-open No. 180006/1983). Silicon carbide itself is an electrical semiconductor and has a specific resistance of 1 to 10.
It cannot be used as an insulating substrate because it has no electrical insulation properties of about Ωcm. Furthermore, since silicon carbide has a high contact point and is very difficult to sinter, it is usually sintered using a so-called hot press method in which a small amount of sintering aid is added and pressure is applied at high temperature. When beryllium oxide or boron nitride is used as this sintering aid, it is effective not only for the sintering aid but also for electrical insulation, and the specific resistance of the sintered substrate mainly composed of silicon carbide is 10 10 Ω・cm. That's all. However, the dielectric constant, which is one of the important factors in mounting boards such as LSI, is quite high at 40 at 1MHz, and even with the addition of additives, the insulation between particles decreases rapidly when the voltage reaches about 5V. There is also a problem with withstand voltage. Furthermore, although it is possible to create a multilayer ceramic substrate using BeO powder, it is difficult in practice because it is toxic. On the other hand, from a process point of view, a hot press method must be applied, which not only increases the size of the apparatus, but also makes it difficult to increase the shape of the substrate, and there are many problems with surface smoothness. Furthermore, in ceramic substrates using silicon carbide,
Utilizing alumina multilayer ceramic substrate technology using the conventional green sheet method is extremely difficult in terms of process. The green sheet multilayer ceramic substrate technology referred to herein is the following technology. First, ceramic powder is mixed with an organic vehicle to form a slurry. A sheet having a thickness of about 10 μm to 400 μm is formed on an organic film using this slurry by a casting film forming method. After cutting the sheet into a predetermined size and forming through holes for establishing electrical conduction between each layer, a predetermined conductive pattern is formed by thick film printing. Ceramic green sheets on which each of these conductor patterns have been formed are laminated and pressed, subjected to a binder removal process, and then fired. The main properties that a high-density mounting board should have are (1) low dielectric constant, low dielectric loss, and excellent electrical insulation properties;
(2) Sufficient mechanical strength, (3) High thermal conductivity, (4) Thermal expansion coefficient is close to that of silicon chips, (5) Excellent surface smoothness, and (6) It is necessary that the density can be increased easily. The ceramic substrate described above cannot be said to be sufficient in terms of all of these substrate properties. On the other hand, aluminum nitride has been developed as a material for highly thermally conductive substrates (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-50077, etc.). However, this material must also be sintered at high temperatures, and the mainstream manufacturing method is hot pressing, and a multilayer wiring board using aluminum nitride has not yet been realized. (Object of the Invention) An object of the present invention is to eliminate the drawbacks of the conventional ceramic wiring boards mentioned above and provide a high-density, highly heat-conductive multilayer ceramic wiring board with excellent thermal conductivity and having conductors inside. (Structure of the Invention) According to the present invention, the ceramic structure is composed of a polycrystalline body containing aluminum nitride as a main component,
A highly thermally conductive multilayer ceramic wiring board is obtained in which the main component of the conductor layer is a mixture of titanium nitride and metal carbide. (Detailed Description of Configuration) The present invention solves the problems of the prior art by adopting the above-described configuration. First, aluminum nitride, which has high thermal conductivity, was used as the insulating ceramic material constituting the multilayer ceramic substrate. After firing, this material forms a dense structure of polycrystalline aluminum nitride. In order to obtain high thermal conductivity, it is preferable that the amount of oxygen contained in the sintered body is small, and therefore it is preferable to add a reducing agent having a reducing effect as an additive. Next, regarding the conductor layer, multiple conductor layers such as a power supply layer, a ground layer, and fine signal lines are formed on a ceramic layer made of aluminum nitride, and these multiple conductor layers are provided in the ceramic layer. It is electrically connected through a via hole. Therefore, the wiring density of the mounting board can be greatly increased, and the heat generated from elements such as LSI can be efficiently dissipated to the outside. (Example) Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of a highly thermally conductive multilayer ceramic substrate according to the present invention. Reference numeral 1 denotes an insulating ceramic layer, which is mainly composed of polycrystalline aluminum nitride. 2 is a conductor layer for signal lines, power supply, etc., which is mainly made of a mixture of titanium nitride and metal carbide, and electrically connects each layer through via holes 3 formed in the insulating ceramic layer. There is. A die pad 4 and a bonding pad 5 are formed on the multilayer ceramic substrate constructed in this manner so that an LSI chip can be mounted, and for extracting signals from the mounting substrate or inputting signals into the substrate. An input/output pad 6 is formed on the back surface of the board. Heat generated from the LSI chip mounted on the substrate is diffused into the ceramic substrate via the die pad 4. The high thermal conductivity of the ceramic substrate allows for efficient heat diffusion, making it possible to prevent the LSI chip from increasing in temperature due to heat generation. The method for manufacturing the wiring board of this example is as follows. The ceramic material constituting the substrate of the present invention contains CaC 2 as an additive to improve the sinterability of aluminum nitride. First, aluminum nitride powder and CaC 2 powder were weighed and wet mixed in an organic solvent using a ball mill for 48 hours. This mixed powder is dispersed in a solvent together with an organic binder that is easily decomposed in a neutral atmosphere, such as a polyprolactone resin or a polyacrylate resin, to create a slurry having a viscosity in the range of 3,000 to 7,000 cp.
The slurry is coated with a thickness of 10 μm or more using a casting film forming method.
A green sheet is created on an organic film so that it has a uniform thickness of about 200 μm. Next, this green sheet is peeled off from the organic film, and via holes are formed to electrically connect each layer. The via hole formed here is
It was mechanically punched using a punch and die, but
It is also possible to open it by other methods such as laser processing. onto the green sheet with via holes formed,
When fired in a nitrogen atmosphere, other neutral atmosphere, or reducing atmosphere, a conductive paste whose main component is a compound that becomes a mixture of titanium nitride and metal carbide is printed in a predetermined position using a screen printing method. do. A desired number of green sheets having conductors printed thereon are laminated and hot pressed. Thereafter, it is cut into the required shape using a cutter and fired in a non-oxidizing atmosphere at a temperature of 1400°C to 2000°C. During firing, during the temperature raising process
The binder was sufficiently removed at a temperature of 400°C to 600°C. Table 2 shows the composition of the conductive paste used in the prepared samples.

【表】【table】

【表】 導体ペースト材料としてTiNとTaC、HfC、
UC、ZrC、TiC、VCおよびNbCを用いた。 ここに示した添加物(CaC2)の量は窒化アル
ミニウムを100としたときの値である。またフリ
ツト量は導体材料とフリツト材料を合せた重量に
対しての値である。 作成した基板の電気的特性を測定した結果、比
抵抗が1011Ω・cm以上であり、誘電率は8.7(1M
Hz)、誘電損失は1×10-3以下(1MHz)であつ
た。電気的特性においても従来の基板に対して同
程度以上あり実装基板として十分であることがわ
かる。 一方添加物としてCaO、BeO、Y2O3、CuO、
AgO、BaC2、SrC2、Na2C2、K2C2、CuC2
MgC2、AgC2、ZrC2等を用いた場合においても
窒化アルミニウムの焼結性を向上させる効果が得
られた。 (発明の効果) 実施例からも明らかなように、本発明の構造を
有することにより、容易に信号線および電源層等
を含めた導体を有する高密度な回路を形成するこ
とが出来、熱放散性に対しても非常に有効な高熱
伝導多層セラミツク配線基板が得られる。 従来用いられているアルミナ基板の熱伝導率は
17W/mKであり、本発明基板の熱伝導率が非常
に高いレベルであることがわかる。また熱膨張係
数においては、アルミナ基板が65×10-7/℃であ
るのに対して本発明基板は小さな値をもち、より
シリコンチツプの熱膨張係数に近い値になつてお
り有利である。
[Table] TiN, TaC, HfC, as conductor paste materials
UC, ZrC, TiC, VC and NbC were used. The amount of additive (CaC 2 ) shown here is the value when aluminum nitride is taken as 100. Further, the amount of frit is a value relative to the combined weight of the conductor material and the frit material. As a result of measuring the electrical characteristics of the created substrate, the specific resistance was 10 11 Ω・cm or more, and the dielectric constant was 8.7 (1M
Hz), and the dielectric loss was less than 1×10 -3 (1MHz). It can be seen that the electrical characteristics are also at least the same as those of conventional boards, and are sufficient as a mounting board. On the other hand, additives include CaO, BeO, Y 2 O 3 , CuO,
AgO, BaC 2 , SrC 2 , Na 2 C 2 , K 2 C 2 , CuC 2 ,
Even when MgC 2 , AgC 2 , ZrC 2 , etc. were used, the effect of improving the sinterability of aluminum nitride was obtained. (Effects of the Invention) As is clear from the examples, by having the structure of the present invention, it is possible to easily form a high-density circuit having conductors including signal lines and power layers, etc., and to improve heat dissipation. A highly thermally conductive multilayer ceramic wiring board which is also very effective in terms of performance can be obtained. The thermal conductivity of the conventionally used alumina substrate is
17 W/mK, which indicates that the thermal conductivity of the substrate of the present invention is at a very high level. Furthermore, the thermal expansion coefficient of the alumina substrate is 65×10 -7 /°C, whereas the substrate of the present invention has a small value, which is advantageous because it is closer to the thermal expansion coefficient of a silicon chip.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す高熱伝導多層
セラミツク配線基板の概略図である。1……絶縁
セラミツク層、2……導体層、3……ビアホー
ル、4……ダイパツド、5……ボンデイングパツ
ド、6……入出力用パツド。
FIG. 1 is a schematic diagram of a highly thermally conductive multilayer ceramic wiring board showing one embodiment of the present invention. 1... Insulating ceramic layer, 2... Conductor layer, 3... Via hole, 4... Die pad, 5... Bonding pad, 6... Input/output pad.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 セラミツクス層を介して三次元的に導体が形
成された多層セラミツク配線基板において、窒化
アルミニウムを主成分とするセラミツク層と窒化
チタンと炭化金属との混合物を主成分とする導体
とを備えたことを特徴とする多層セラミツク配線
基板。 2 上記炭化金属が炭化ジルコニウム、炭化タン
タル、炭化ニオブ、炭化バナジウム、炭化ウラ
ン、炭化ハフニウムおよび炭化チタンから選ばれ
た1種以上の物質である特許請求の範囲第1項記
載の多層セラミツク配線基板。
[Scope of Claims] 1. A multilayer ceramic wiring board in which a conductor is three-dimensionally formed through ceramic layers, the ceramic layer having a ceramic layer containing aluminum nitride as a main component and a mixture of titanium nitride and metal carbide as a main component. A multilayer ceramic wiring board characterized by comprising a conductor. 2. The multilayer ceramic wiring board according to claim 1, wherein the metal carbide is one or more substances selected from zirconium carbide, tantalum carbide, niobium carbide, vanadium carbide, uranium carbide, hafnium carbide, and titanium carbide.
JP21535285A 1985-09-27 1985-09-27 Multilayer ceramic circuit substrate Granted JPS6273800A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57180006A (en) * 1981-04-30 1982-11-05 Hitachi Ltd High thermally conductive electric insulator
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