JPS6271294A - Multilayer ceramic circuit substrate - Google Patents

Multilayer ceramic circuit substrate

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JPS6271294A
JPS6271294A JP21152985A JP21152985A JPS6271294A JP S6271294 A JPS6271294 A JP S6271294A JP 21152985 A JP21152985 A JP 21152985A JP 21152985 A JP21152985 A JP 21152985A JP S6271294 A JPS6271294 A JP S6271294A
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JP
Japan
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multilayer ceramic
substrate
aluminum nitride
conductor
circuit substrate
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嶋田 勇三
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、多層セラミック基板、特に窒化ジルコニウム
を導体として利用する高熱伝導多層セラミック基板に関
するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to a multilayer ceramic substrate, particularly a highly thermally conductive multilayer ceramic substrate using zirconium nitride as a conductor.

(従来技術とその問題点) 半導体技術の飛躍的な進展によって、IC,LSIが産
業用、民需用に幅広く使用されるようになってきている
(Prior art and its problems) With the dramatic progress in semiconductor technology, ICs and LSIs have come to be widely used for industrial and civilian purposes.

特に集積密度の高い、高速作動のLSIの実装用基板と
して多層セラミック基板が注目されている。この多層セ
ラミック基板は直接LSIを実装することができ微細多
層配線が可能である。
In particular, multilayer ceramic substrates are attracting attention as mounting substrates for high-speed operation LSIs with high integration density. This multilayer ceramic substrate can directly mount an LSI, and allows fine multilayer wiring.

一般にセラミック基板の材料としては、主にアルミナが
使用されているが、近年電気装置は一段と小型化され、
回路の高密度化が強く要求され、基板の単位面積当夛の
素子や回路要素の集積度が高くなっている。一方LSI
においては、高速作動を行なうに従いチップから発生す
る熱が多量罠なってくる傾向にある。この結果、基板の
発熱が大幅に増加し、アルミナ基板では、熱の放散性が
十分ではないという間層が生じている。そのため、アル
ミナ基板よシも熱伝導率が大きく、熱の放散性に憂れた
絶縁基板が必要になってきた。
Generally, alumina is mainly used as the material for ceramic substrates, but in recent years electrical devices have become smaller and smaller.
There is a strong demand for higher density circuits, and the degree of integration of elements and circuit elements per unit area of a substrate is increasing. On the other hand, LSI
, the higher the speed of operation, the more heat generated from the chip tends to become a trap. As a result, the heat generated by the substrate increases significantly, and in the alumina substrate, an interlayer is formed in which the heat dissipation property is insufficient. Therefore, an insulating substrate, which has high thermal conductivity as well as alumina substrates and is concerned about heat dissipation, has become necessary.

そこで熱放散性に対して優れた材料として炭化ケイ素を
主成分としたセラミック基板が開発されたC特開昭57
−180006号公報)。炭化ケイ素はそれ自体電気的
に半導体に属し、比抵抗が1〜10Ω・1程度で電気絶
縁性が危いため、絶縁基板としては用いることができな
い。また炭化ケイ素は融点が高く非常に焼結しにくいの
で、通常焼結に際しては少量の焼結助剤を添加し、高温
で加圧するいわゆるホットプレス法によシ作られる。こ
の焼結助剤として酸化ベリリウムや窒化ホウ素を用いる
と、焼結助剤効果だけでなく、電気絶縁性に対しても有
効で炭化ケイ素主成分の焼結基板の比抵抗が10′6Ω
・1以上となる。しかし、LSI等の実装基板において
重要な要因の1つである誘電率はIMHzで40とかな
シ高く、添加剤を加えた絶縁性も電圧が5v程度になる
と粒子間の絶縁が急激に低下するため耐電圧に対しても
問題がある。
Therefore, a ceramic substrate mainly composed of silicon carbide was developed as a material with excellent heat dissipation properties.
-180006). Silicon carbide itself electrically belongs to a semiconductor, has a specific resistance of about 1 to 10 Ω·1, and has poor electrical insulation properties, so it cannot be used as an insulating substrate. Furthermore, since silicon carbide has a high melting point and is very difficult to sinter, it is usually produced by the so-called hot press method in which a small amount of sintering aid is added and pressure is applied at high temperature. When beryllium oxide or boron nitride is used as this sintering aid, it is effective not only for the sintering aid but also for electrical insulation, and the specific resistance of the sintered substrate mainly composed of silicon carbide is 10'6Ω.
・It will be 1 or more. However, the dielectric constant, which is one of the important factors in mounting boards such as LSI, is as high as 40 at IMHz, and even with the addition of additives, the insulation between particles drops rapidly when the voltage reaches about 5V. Therefore, there is also a problem with the withstand voltage.

又、BeO粉末を用いて多層セラミック基板を作成する
ことは可能であるが有毒性であるため実用上困難な面が
でてくる。
Furthermore, although it is possible to create a multilayer ceramic substrate using BeO powder, it is difficult in practice due to its toxicity.

一方プロセス的観点からしてホットプレス法を適用しな
ければならず、装置が大がかシになるばか)でなく、基
板の形状も大面積化は困難であり、表面平滑性に対して
も問題が多い。さらに炭化ケイ素系を用いたセラミック
基板においては、従来のグリーンシート法を用いたアル
ミナ多層セラミック基板技術を利用することはプロセス
的に極めて困難である。。
On the other hand, from a process point of view, it is necessary to apply the hot press method, which makes the equipment large and bulky), and the shape of the substrate makes it difficult to increase the area, and the surface smoothness is also affected. There are many problems. Furthermore, in the case of ceramic substrates using silicon carbide, it is extremely difficult to use alumina multilayer ceramic substrate technology using the conventional green sheet method in terms of process. .

ここでいうグリーンシート法多層セラミック基板技術と
(シ次に示す技術である。まずセラミック粉末を有機ビ
ヒクルとともに混合し、スラリー化する。このスラリー
をキャスティング製膜法により10mm〜<oopm 
程度の厚みを有するシートを有機フィルム上に形成する
。該シートを所定の大きさに切断し、各層間の導通を得
るためのスルーホールを形成したのち、厚膜印刷法によ
シ所定の導体パターンを形成する。これらの各導体パタ
ーンを形成したセラミックグリーンシートを積層プレス
し、脱バインダ一工程を経て焼成する。
The green sheet method multilayer ceramic substrate technology referred to here is the technology shown below. First, ceramic powder is mixed with an organic vehicle to form a slurry. This slurry is formed into a film of 10 mm to
A sheet having a certain thickness is formed on the organic film. After cutting the sheet into a predetermined size and forming through holes for establishing conduction between each layer, a predetermined conductor pattern is formed by thick film printing. The ceramic green sheets on which each of these conductor patterns have been formed are laminated and pressed, subjected to a binder removal step, and then fired.

高密度実装基板として具備すべき主な性質としては、(
1)電気特性に対して誘電率が低く、誘電損失が小さく
、また電気絶縁性に優れていること、(2)機械的強度
が十分であること、(3)熱伝導性が高いこと、(4)
熱膨張係数がシリコンチップ等のそれに近いこと、(5
)表面平滑性が優れていること、および(6)高密度化
が容易であること等が必要である。
The main properties that a high-density mounting board should have are (
1) Low dielectric constant with respect to electrical properties, low dielectric loss, and excellent electrical insulation, (2) Sufficient mechanical strength, (3) High thermal conductivity, ( 4)
The coefficient of thermal expansion is close to that of silicon chips, etc. (5
) It must have excellent surface smoothness, and (6) it must be easy to increase the density.

これらの基板性質全般に対して前述のセラミック基板は
決して十分なものであるとはいえない。
The above-mentioned ceramic substrates cannot be said to be sufficient in terms of these substrate properties in general.

一方、高熱伝導性基板の材料として窒化アルミニウムが
開発されている(特開昭59−50077号公報など)
。しかしながらこの材料も高温で焼結しなければならず
、ホットプレス法による作製方法が主流となっておシ、
まだ窒化アルミニウムを用いた多層配線基板は実現され
ていない。
On the other hand, aluminum nitride has been developed as a material for highly thermally conductive substrates (Japanese Unexamined Patent Publication No. 59-50077, etc.)
. However, this material also has to be sintered at high temperatures, and hot pressing has become the mainstream manufacturing method.
A multilayer wiring board using aluminum nitride has not yet been realized.

(発明の目的) 不発明は熱伝導性が優れ、内部に導体を有する高密度、
高熱伝導多層セラミック基板を提供することにある。
(Purpose of the invention) The invention has excellent thermal conductivity, has a high density conductor inside,
An object of the present invention is to provide a multilayer ceramic substrate with high thermal conductivity.

(発明の構成) 本発明によれば、セラミックス層が窒化アルミニウムを
主成分とする多結晶体で構成され、導体層の主成分が窒
化ジルコニウムからなることを特徴とする高熱伝導多層
セラミック配線基板が得られる。
(Structure of the Invention) According to the present invention, there is provided a highly thermally conductive multilayer ceramic wiring board characterized in that the ceramic layer is composed of a polycrystalline body mainly composed of aluminum nitride, and the conductor layer is mainly composed of zirconium nitride. can get.

(構成の詳細な説明) 本発明は、上述の構成をとることにより従来技術の問題
点を解決した。
(Detailed Description of Configuration) The present invention solves the problems of the prior art by adopting the above-described configuration.

まず、多層セラミック基板を構成する絶縁セラミックス
材料とし7て、熱伝導性の高い窒化アルミニウムを用い
た。この材料は焼成後、窒化アルミニウム多結晶の緻密
な構造体を形成する。高熱伝導率を得るためには焼結体
の含有酸素量が少ない方が好ましくそのために添加物と
して還元効果のある還元剤を入れることが好ましい。
First, aluminum nitride, which has high thermal conductivity, was used as the insulating ceramic material 7 constituting the multilayer ceramic substrate. After firing, this material forms a dense structure of polycrystalline aluminum nitride. In order to obtain high thermal conductivity, it is preferable that the amount of oxygen contained in the sintered body is small, and therefore it is preferable to add a reducing agent having a reducing effect as an additive.

次に、導体層に関しては、窒化アルミニウムで構成され
ているセラミックス層に複数の電源層、グランド層およ
び微細な信号線等の導体層を形成し、これらの複数の導
体層をセラミックス層中に設けたピアホールを介して電
気的に接続されている。
Next, regarding the conductor layer, multiple conductor layers such as a power supply layer, a ground layer, and fine signal lines are formed on a ceramic layer made of aluminum nitride, and these multiple conductor layers are provided in the ceramic layer. It is electrically connected via a peer hole.

したがって、実装基板の配線密度が非常に高められると
ともに、LSI等の素子から発生する熱を、効率的に外
部に放散することが可能となる。
Therefore, the wiring density of the mounting board can be greatly increased, and the heat generated from elements such as LSI can be efficiently dissipated to the outside.

(実施例) 以下本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明
する。
(Example) Examples of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

第1図は本発明による高熱伝導多層セラミック基板の実
施例を示す説明図である。lは絶縁セラミックス層であ
り、主成分として窒化アルミニウムの多結晶体で構成さ
れている。2は信号線および電源等の導体層であシ、窒
化ジルコニウムを主成分として形成されておシ、絶縁セ
ラミックス層に形成されたピアホール3を介して各層間
を電気的に接続している。このように構成されている多
層セラミック基板上にはLSIチップがマウント出来る
ようにダイパッド4およびポンディングパッド5が形成
され、該実装基板外に信号を取シ出したり、基板内へ信
号を入れたシするための人出刃用パッド6が基板裏面に
形成されている。基板上にマウントされたLSIチップ
から発生する熱をダイパッド4を介してセラミック基板
内へ拡散させる。セラミック基板の熱伝導率が高いこと
により熱拡散が効率的に行なわれることになシ、LSI
チップの発熱による高温化を防止することができる。
FIG. 1 is an explanatory diagram showing an embodiment of a highly thermally conductive multilayer ceramic substrate according to the present invention. 1 is an insulating ceramic layer, which is mainly composed of polycrystalline aluminum nitride. Reference numeral 2 denotes a conductor layer for signal lines, power supply, etc., which is mainly made of zirconium nitride, and electrically connects each layer through a peer hole 3 formed in the insulating ceramic layer. A die pad 4 and a bonding pad 5 are formed on the multilayer ceramic substrate configured in this manner so that an LSI chip can be mounted, and a die pad 4 and a bonding pad 5 are formed to allow signals to be taken out from the mounting board or input into the board. A blade pad 6 for sharpening is formed on the back surface of the board. Heat generated from the LSI chip mounted on the substrate is diffused into the ceramic substrate via the die pad 4. Due to the high thermal conductivity of the ceramic substrate, heat diffusion is carried out efficiently.
It is possible to prevent the chip from increasing in temperature due to heat generation.

本実施例の配線基板の製造方法は次のとおりである。本
発明の基板を構成しているセラミックス材料としては、
窒化アルミニウムの焼結性を高めるため添加剤としてC
ab、を混入させている。まず窒化アルミニウム粉末と
CaC,粉末とを秤量し、ボールミルにより有機溶媒中
での湿式混合を48時間行なった。
The method for manufacturing the wiring board of this example is as follows. Ceramic materials constituting the substrate of the present invention include:
C as an additive to improve the sinterability of aluminum nitride
ab, is mixed. First, aluminum nitride powder and CaC powder were weighed and wet mixed in an organic solvent using a ball mill for 48 hours.

この混合粉末をポリカプロラクトン系あるいはポリアク
リレート系樹脂等の中性雰囲気下で分解されやすい有機
バインダーとともK11l媒中に分散し粘度3000〜
7000 cpの範囲の1漿を作成する。
This mixed powder is dispersed in a K11 medium with an organic binder that is easily decomposed in a neutral atmosphere, such as polycaprolactone or polyacrylate resin, and the viscosity is 3000~
Make 1 serum in the range of 7000 cp.

該泥葉をキャスティング製膜法によF>10pm〜zo
opm 糧度の均一な厚みになるように、有機フィルム
上にグリーンシートを作成する。
The mud leaves are coated with F>10pm~zo by casting film forming method.
OPM A green sheet is created on an organic film so that it has a uniform thickness.

次にこのグリーンシートを有機フィルムから剥離したの
ち、各層間を電気的に接続するためのピアホールを形成
する。ここで形成したピアホールは、機械的にポンチお
よびダイを用いて打抜いたが、他にレーザー加工等の方
法によっても開けることが可能である。
Next, after this green sheet is peeled off from the organic film, peer holes are formed to electrically connect each layer. The pier holes formed here were punched out mechanically using a punch and die, but they can also be punched out by other methods such as laser machining.

ピアホールの形成されたグリーンシート上へ、窒素雰囲
気あるいは他の中性雰囲気あるいは還元雰囲気の下で焼
成した際、窒化ジルコニウムになるジルコニウム化合物
を主成分とした導体ペーストをスクリーン印刷法により
所定の位置に所定のパターンを印刷する。こうして導体
を印刷した各グリーンシートを所望の枚数積層し加熱プ
レスする。その後必要な形状になるようにカッターを用
いて切断し、1400℃〜2000℃ の温度で非酸化
性雰囲気中で焼成する。焼成の際、その昇温過程で40
0℃〜600″Cの温度で脱バインダーを充分に行なり
た。作製した基板の特性を表に示す。
A conductive paste mainly composed of a zirconium compound, which becomes zirconium nitride when fired in a nitrogen atmosphere, other neutral atmosphere, or reducing atmosphere, is placed in a predetermined position onto the green sheet in which the pier holes are formed using a screen printing method. Print a predetermined pattern. A desired number of green sheets having conductors printed thereon are laminated and hot pressed. Thereafter, it is cut into the desired shape using a cutter and fired in a non-oxidizing atmosphere at a temperature of 1400°C to 2000°C. During firing, the temperature rises to 40
The binder was sufficiently removed at a temperature of 0° C. to 600″C. The properties of the prepared substrate are shown in the table.

以下余白 導体ペースト材料として、ZrNおよびZ r Heお
よびZrF4およびZr(QC,H,)4を使用した。
Below, ZrN, ZrHe, ZrF4, and Zr(QC,H,)4 were used as blank conductor paste materials.

ここに示したCaC*址は窒化アルミニウムを100と
したときの値である。またフリット量は導体材料とフリ
ット材料を合せた重量に対しての値である。
The CaC* value shown here is the value when aluminum nitride is taken as 100. Further, the amount of frit is a value relative to the combined weight of the conductor material and the frit material.

作成した基板の電気的特性を測定した結果、比抵抗がl
O″Ω・1以上であシ、誘電率は&7(IMHz )、
誘電損失は1×10 以下(IMHz)であった。電気
的特性においても従来の基板に対して同程度以上あシ実
装基板として十分であることがわかる。
As a result of measuring the electrical characteristics of the created substrate, the specific resistance was l
Must be O″Ω・1 or more, dielectric constant is &7 (IMHz),
The dielectric loss was less than 1×10 (IMHz). It can be seen that the electrical characteristics are also equivalent to or higher than conventional boards, and are sufficient as a mounting board.

一方窒化アルミニウムに対する添加物としてCaO,B
@o、YIOI、CuO,AgO,BaC,firc、
On the other hand, CaO, B as additives to aluminum nitride
@o, YIOI, CuO, AgO, BaC, firc,
.

N*@C@ 、に@C@ 、CuC@ 、 M、、c、
 、 kg@C@ 、 ZrC@等を用いた場合におい
ても窒化アルミニウムの焼結性を向上させる効果が得ら
れた。
N*@C@, ni@C@, CuC@, M,,c,
, kg@C@, ZrC@, etc., the effect of improving the sinterability of aluminum nitride was obtained.

(発明の効果) 実施例からも明らかなように1本発明の多層セラミック
配線基板は容易に信号線および電源層等を含めた導体を
有する高密度な回路を形成することが出来、熱放散性に
対し、ても非常に有効な高熱伝導多層セラミック基板が
得られる。
(Effects of the Invention) As is clear from the examples, the multilayer ceramic wiring board of the present invention can easily form a high-density circuit having conductors including signal lines and power supply layers, and has excellent heat dissipation properties. However, a highly effective multilayer ceramic substrate with high thermal conductivity can be obtained.

従来用いられているアルミナ基板の熱伝導率は17W/
mKであシ、本発明基板の熱伝導率が非常に高いレベル
であることがわかる。また熱膨張係数においては、アル
ミナ基板が65X10”/l−であるのに対して本発明
基板は小さな値をもち、よシシリコンチップの熱膨張係
数に近い値になっており有利である。
The thermal conductivity of the conventionally used alumina substrate is 17W/
mK, it can be seen that the thermal conductivity of the substrate of the present invention is at a very high level. Further, in terms of thermal expansion coefficient, while the alumina substrate has a coefficient of 65 x 10''/l, the substrate of the present invention has a small value, which is advantageous because it is close to that of a silicon chip.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明の一実施例を示す高熱伝導多層セラミッ
ク基板の概略図である。1−・・絶縁セラミック層、2
−・・導体層、3・・・ピアホール、4−・・ダイパッ
ド、5・・・ポンディングパッド、6−・・入出力用パ
ッド。
FIG. 1 is a schematic diagram of a highly thermally conductive multilayer ceramic substrate showing an embodiment of the present invention. 1--Insulating ceramic layer, 2
--- Conductor layer, 3 --- Pier hole, 4 --- Die pad, 5 --- Bonding pad, 6- --- Input/output pad.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  多層セラミック配線基板において、窒化アルミニウム
を主成分とするセラミック層と窒化ジルコニウムを主成
分とする導体とを備えたことを特徴とする多層セラミッ
ク配線基板。
A multilayer ceramic wiring board comprising a ceramic layer containing aluminum nitride as a main component and a conductor containing zirconium nitride as a main component.
JP21152985A 1985-09-24 1985-09-24 Multilayer ceramic circuit substrate Granted JPS6271294A (en)

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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57180006A (en) * 1981-04-30 1982-11-05 Hitachi Ltd High thermally conductive electric insulator
JPS6077186A (en) * 1983-09-30 1985-05-01 株式会社東芝 Ceramic sintered body with metallized surface
JPS6077177A (en) * 1983-09-30 1985-05-01 株式会社東芝 Ceramic bonded body
JPS60173900A (en) * 1984-02-20 1985-09-07 株式会社東芝 Ceramic circuit board

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57180006A (en) * 1981-04-30 1982-11-05 Hitachi Ltd High thermally conductive electric insulator
JPS6077186A (en) * 1983-09-30 1985-05-01 株式会社東芝 Ceramic sintered body with metallized surface
JPS6077177A (en) * 1983-09-30 1985-05-01 株式会社東芝 Ceramic bonded body
JPS60173900A (en) * 1984-02-20 1985-09-07 株式会社東芝 Ceramic circuit board

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JPH0413879B2 (en) 1992-03-11

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