JPH0269381A - 電子部品焼成用治具 - Google Patents
電子部品焼成用治具Info
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- JPH0269381A JPH0269381A JP21957988A JP21957988A JPH0269381A JP H0269381 A JPH0269381 A JP H0269381A JP 21957988 A JP21957988 A JP 21957988A JP 21957988 A JP21957988 A JP 21957988A JP H0269381 A JPH0269381 A JP H0269381A
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- 238000001354 calcination Methods 0.000 title 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims abstract description 39
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 29
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 20
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 18
- 238000005524 ceramic coating Methods 0.000 claims abstract description 17
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 12
- 230000009970 fire resistant effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 claims abstract description 6
- 229910052596 spinel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 239000011029 spinel Substances 0.000 claims abstract description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N iron Substances [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 31
- 239000012784 inorganic fiber Substances 0.000 claims description 11
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 14
- 239000000835 fiber Substances 0.000 abstract description 12
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 abstract description 7
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 15
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 8
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 7
- 239000000047 product Substances 0.000 description 7
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 4
- KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O.O=[Al]O[Al]=O KZHJGOXRZJKJNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052863 mullite Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 4
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000002657 fibrous material Substances 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 2
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 2
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 2
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 2
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 229910002076 stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 description 2
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019738 Limestone Nutrition 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N aluminum;hydroxy-[hydroxy(oxo)silyl]oxy-oxosilane;lithium Chemical compound [Li].[Al].O[Si](=O)O[Si](O)=O.O[Si](=O)O[Si](O)=O HEHRHMRHPUNLIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011959 amorphous silica alumina Substances 0.000 description 1
- 229910052454 barium strontium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002113 barium titanate Inorganic materials 0.000 description 1
- JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N barium titanate Chemical compound [Ba+2].[Ba+2].[O-][Ti]([O-])([O-])[O-] JRPBQTZRNDNNOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000003985 ceramic capacitor Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N dialuminum;dioxosilane;oxygen(2-);hydrate Chemical compound O.[O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3].O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O.O=[Si]=O GUJOJGAPFQRJSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 230000035876 healing Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052622 kaolinite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 1
- 239000006028 limestone Substances 0.000 description 1
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002075 main ingredient Substances 0.000 description 1
- 239000010445 mica Substances 0.000 description 1
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052901 montmorillonite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 229910002077 partially stabilized zirconia Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052670 petalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052851 sillimanite Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- VLCLHFYFMCKBRP-UHFFFAOYSA-N tricalcium;diborate Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]B([O-])[O-].[O-]B([O-])[O-] VLCLHFYFMCKBRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、バリスター、サーミスタ、圧電素子あるいは
コンデンサー等の電子部品焼成用治具に関し、特に鉛や
ビスマス等の反応性の高い酸化物を含有している電子部
品の焼成に遺した電子部品焼成用治具に関する。
コンデンサー等の電子部品焼成用治具に関し、特に鉛や
ビスマス等の反応性の高い酸化物を含有している電子部
品の焼成に遺した電子部品焼成用治具に関する。
(従来の技術)
主として耐熱性無機質繊維と耐火性粉末とからなる成形
体は、軽量(多孔質)で耐熱性に優れており、従来から
電子部品焼成用治具として広く使用されてきている。
体は、軽量(多孔質)で耐熱性に優れており、従来から
電子部品焼成用治具として広く使用されてきている。
ところで、これらの電子部品焼成用治具のうち、チタン
酸バリウ去やチタン酸ストロンチウムなどを主成分とす
るコンデンサーやフェライトなどを焼成する電子部品焼
成用治具は、電子部品焼成用治具の主成分である耐熱性
無機質繊維が焼成中にコンデンサーやフェライトと反応
するため、前記治具の表面には、反応を防止するために
ジルコニア、アルミナ、マグネシア等のセラミック粉末
をスラリー状にして刷毛塗り、スプレー塗布あるいは浸
漬等の方法で塗布した後焼成するごとにより、コーティ
ング層が施されていた。
酸バリウ去やチタン酸ストロンチウムなどを主成分とす
るコンデンサーやフェライトなどを焼成する電子部品焼
成用治具は、電子部品焼成用治具の主成分である耐熱性
無機質繊維が焼成中にコンデンサーやフェライトと反応
するため、前記治具の表面には、反応を防止するために
ジルコニア、アルミナ、マグネシア等のセラミック粉末
をスラリー状にして刷毛塗り、スプレー塗布あるいは浸
漬等の方法で塗布した後焼成するごとにより、コーティ
ング層が施されていた。
(発明が解決しようとする問題点)
しかしながら、前述の如きコーティング層が施された電
子部品焼成用治具はある程度の効果は認められるものの
、いずれも焼成時の反応を完全に防止することが困難で
あり、通常数回の使用で実質的に使用不能となった。
子部品焼成用治具はある程度の効果は認められるものの
、いずれも焼成時の反応を完全に防止することが困難で
あり、通常数回の使用で実質的に使用不能となった。
さらに、最近になって前記電子部品の製造コストを低減
することを目的として、鉛やビスマス等の低融点酸化物
を含有させることにより、焼成温度を低めようとする試
みもなされているが、このような低融点酸化物を含有す
る電子部品を焼成することのできる電子部品焼成用治具
は知られていなかった。
することを目的として、鉛やビスマス等の低融点酸化物
を含有させることにより、焼成温度を低めようとする試
みもなされているが、このような低融点酸化物を含有す
る電子部品を焼成することのできる電子部品焼成用治具
は知られていなかった。
本発明者は、前述の如き被焼成物と焼成用治具との反応
について種々研究した結果、従来焼成用治具に施されて
いたコーティング層は比較的低密度で連通気孔が存在し
ており、この気孔を介して被焼成物中の酸化物が浸透移
動することにより、前記反応が生起していることを知見
するに到り、前記コーティング層を高密度化することに
より、被焼成物中の酸化物が前記コーティング層を浸透
移動することを防止し、焼成用治具と被焼成物である電
子部品との反応を防止することができることに想到した
。
について種々研究した結果、従来焼成用治具に施されて
いたコーティング層は比較的低密度で連通気孔が存在し
ており、この気孔を介して被焼成物中の酸化物が浸透移
動することにより、前記反応が生起していることを知見
するに到り、前記コーティング層を高密度化することに
より、被焼成物中の酸化物が前記コーティング層を浸透
移動することを防止し、焼成用治具と被焼成物である電
子部品との反応を防止することができることに想到した
。
(問題点を解決するための手段)
本発明は、主として耐熱性無機質繊維と耐火性粉末とか
らなる多数の空隙を有する成形体の表面に、気孔率が2
0%以下、厚さが10〜200μmのセラミックコーテ
ィング層を有してなることを特徴とする電子部品焼成用
治具である。
らなる多数の空隙を有する成形体の表面に、気孔率が2
0%以下、厚さが10〜200μmのセラミックコーテ
ィング層を有してなることを特徴とする電子部品焼成用
治具である。
(発明の作用)
本発明の電子部品焼成用治具は、前記上として耐熱性無
機質繊維と耐火性粉末とからなる多数の空隙を有する成
形体の表面に、気孔率が20%以下、厚さが10〜20
0μmのセラミックコーティング層を有してなるもので
あることが必要である。前記セラミックコーティング層
の気孔率が20%以下であることが必要な理由は、気孔
率が20%よりも大きいと被焼成物中の酸化物が前記セ
ラミンクコーティング層を浸透することを防止すること
ができず、焼成治具と電子部品との反応を防止すること
ができないからであり、なかでも15%以下であること
が有利である。また前記セラミックコーティング層の厚
さが10〜200tImであることが必要な理由は、前
記厚さが10μmより薄いと実質的に被焼成物中の酸化
物が前記を浸透することを防止することが困難であり、
一方200μmより厚いと使用時の熱膨張収縮により成
形体から剥離したり、セラミックコーティング層中に亀
裂が発生し易いからである。
機質繊維と耐火性粉末とからなる多数の空隙を有する成
形体の表面に、気孔率が20%以下、厚さが10〜20
0μmのセラミックコーティング層を有してなるもので
あることが必要である。前記セラミックコーティング層
の気孔率が20%以下であることが必要な理由は、気孔
率が20%よりも大きいと被焼成物中の酸化物が前記セ
ラミンクコーティング層を浸透することを防止すること
ができず、焼成治具と電子部品との反応を防止すること
ができないからであり、なかでも15%以下であること
が有利である。また前記セラミックコーティング層の厚
さが10〜200tImであることが必要な理由は、前
記厚さが10μmより薄いと実質的に被焼成物中の酸化
物が前記を浸透することを防止することが困難であり、
一方200μmより厚いと使用時の熱膨張収縮により成
形体から剥離したり、セラミックコーティング層中に亀
裂が発生し易いからである。
前記セラミックコーティング層は、結晶粒径が1〜90
μmの溶射コーティング層であることが好ましい。
μmの溶射コーティング層であることが好ましい。
前記溶射コーティング層の結晶粒径が1〜90μmであ
ることが好ましい理由は、結晶粒径が1μmよりも小さ
いと溶射コーティング層にクラックが生じやすくなるる
からであり、一方90μmより粗いと膜強度が弱くなり
易く、しかも前記成形体との密着力が弱く剥離し易いか
らである。
ることが好ましい理由は、結晶粒径が1μmよりも小さ
いと溶射コーティング層にクラックが生じやすくなるる
からであり、一方90μmより粗いと膜強度が弱くなり
易く、しかも前記成形体との密着力が弱く剥離し易いか
らである。
前記セラミ、クコ−ティング層は、プラズマ溶射コーテ
ィング層であることが好ましい。その理由は、プラズマ
溶射コーティング層は、セラミンク粉末を熱プラズマ内
にて溶融噴射され、溶融した粒子同志が互いに融着した
後、冷却固化するため粒子間の空隙の少ない高密度の皮
膜を形成することができるからである。
ィング層であることが好ましい。その理由は、プラズマ
溶射コーティング層は、セラミンク粉末を熱プラズマ内
にて溶融噴射され、溶融した粒子同志が互いに融着した
後、冷却固化するため粒子間の空隙の少ない高密度の皮
膜を形成することができるからである。
前記セラミンクコーティング層を形成するためのセラミ
ック粉末はマグネシア、ジルコニア、アルミナ、あるい
はマグネシア−鉄スピネルが使用できるが、なかでも反
応性の面からジルコニアがより好適である。
ック粉末はマグネシア、ジルコニア、アルミナ、あるい
はマグネシア−鉄スピネルが使用できるが、なかでも反
応性の面からジルコニアがより好適である。
なお、前記セラミックコーティング層は、表面粗さ70
〜500μmであることが被焼成物との反応性、取り仮
性から好ましい。
〜500μmであることが被焼成物との反応性、取り仮
性から好ましい。
本発明の電子部品焼成用治具を構成する成形体は、主と
して耐熱性無機質繊維と耐火性粉末とからなるものであ
ることが必要である。その理由は、主として耐熱性無機
質繊維と耐火性粉末とからなる成形体は、内部に多数の
空隙を有しているため、熱容量が小さく、急熱急冷に強
く、軽量でしかも極めて高強度であり電子部品焼成用治
具として極めて適しているからである。
して耐熱性無機質繊維と耐火性粉末とからなるものであ
ることが必要である。その理由は、主として耐熱性無機
質繊維と耐火性粉末とからなる成形体は、内部に多数の
空隙を有しているため、熱容量が小さく、急熱急冷に強
く、軽量でしかも極めて高強度であり電子部品焼成用治
具として極めて適しているからである。
前記耐熱性無機質繊維としては、種々のものが使用でき
るが、なかでも非晶質のシリカ・アルミナ繊維、アルミ
ナ結晶質繊維の少なくとも一種であることが有効である
。前記シリカ・アルミナ繊維は通常A 12 z Ox
が40〜60wL%、5iftが40〜60wt%とか
ら成るものであり900℃付近でムライトの結晶が、1
200°C付近でクリストバライトの結晶が析出して粒
成長が生じ、耐火性粉末および、または無機結合剤との
焼結を促進させるので本発明においては特に好ましいも
のである。また、前記アルミナ結晶質繊維はAl寥0、
が70〜99wt%、Sin、がl〜30wL%とから
成るものであり、η−2γ−9δ−2θ−型の遷移状の
アルミナやα−型の安定なアルミナあるいはムライトで
構成されている。前記遷移状のアルミナは1400℃付
近の焼成によりα型へと転移して粒成長を生じ、またα
−型アルミナやムライトも粒成長を生ずるので、前記シ
リカ・アルミナ繊維と同様に焼成促進剤としての働きが
期待でき好ましいものである。
るが、なかでも非晶質のシリカ・アルミナ繊維、アルミ
ナ結晶質繊維の少なくとも一種であることが有効である
。前記シリカ・アルミナ繊維は通常A 12 z Ox
が40〜60wL%、5iftが40〜60wt%とか
ら成るものであり900℃付近でムライトの結晶が、1
200°C付近でクリストバライトの結晶が析出して粒
成長が生じ、耐火性粉末および、または無機結合剤との
焼結を促進させるので本発明においては特に好ましいも
のである。また、前記アルミナ結晶質繊維はAl寥0、
が70〜99wt%、Sin、がl〜30wL%とから
成るものであり、η−2γ−9δ−2θ−型の遷移状の
アルミナやα−型の安定なアルミナあるいはムライトで
構成されている。前記遷移状のアルミナは1400℃付
近の焼成によりα型へと転移して粒成長を生じ、またα
−型アルミナやムライトも粒成長を生ずるので、前記シ
リカ・アルミナ繊維と同様に焼成促進剤としての働きが
期待でき好ましいものである。
ただし、これらの耐熱性無機質繊維は、成形体表面の平
滑性をなくす上で、非繊維状物の含有量を20重量%以
下のものを使用することが有利である。
滑性をなくす上で、非繊維状物の含有量を20重量%以
下のものを使用することが有利である。
前記耐火性粉末は、耐熱性無機質繊維間に存在し、焼成
時に焼結作用を呈し、強固な構造物たる成形体となすた
めに配合される。
時に焼結作用を呈し、強固な構造物たる成形体となすた
めに配合される。
前記耐火性粉末としては、例えばアルミナ質、アルミナ
・シリカ質、ジルコニア質、マグネシア賞、チタニア質
とから選ばれるいずれか1種又は2種以上が耐火温度が
高く好適である。具体的には、アルミナ、ムライト、カ
オリンナイト、木節粘土、蛙目粘土、シリマナイト、ス
テアタイト、フォルステライト、ジルコニア、マグネシ
ア、スピネル、チタニア等が有利である。
・シリカ質、ジルコニア質、マグネシア賞、チタニア質
とから選ばれるいずれか1種又は2種以上が耐火温度が
高く好適である。具体的には、アルミナ、ムライト、カ
オリンナイト、木節粘土、蛙目粘土、シリマナイト、ス
テアタイト、フォルステライト、ジルコニア、マグネシ
ア、スピネル、チタニア等が有利である。
本発明の成形体は、前記耐熱性態Il繊維と耐火性粉末
の他に、より高強度の成形体を得ることを目的として、
無機結合剤を含有することができる。
の他に、より高強度の成形体を得ることを目的として、
無機結合剤を含有することができる。
前記無機結合剤としては、シリカ・ソーダ系、ホウ酸カ
ルシウム系、シリカ系のフリットから選ばれるいずれか
1種又は2種以上を使用することができる。具体的な物
質としては、例えば、長石、マイカ粉末、ホウ酸、石灰
石、ペタライト、ガラス粉末、珪石等が列挙される。
ルシウム系、シリカ系のフリットから選ばれるいずれか
1種又は2種以上を使用することができる。具体的な物
質としては、例えば、長石、マイカ粉末、ホウ酸、石灰
石、ペタライト、ガラス粉末、珪石等が列挙される。
これらの耐火性粉末及び無機結合剤はあらかじめ所定の
温度で焼結する組成に配合された後、ボールミル等の粉
砕機でおよそ50tIm以下の粒径。
温度で焼結する組成に配合された後、ボールミル等の粉
砕機でおよそ50tIm以下の粒径。
にまで粉砕して使用することが有利である。なお、無機
結合剤は特に微粉末であることが好ましく、1μm以下
のものが最適である。
結合剤は特に微粉末であることが好ましく、1μm以下
のものが最適である。
次に、本発明の電子部品焼成用治具の製造方法の一例を
簡単に述べる。
簡単に述べる。
本発明の電子部品焼成用治具は、耐熱性1報賞繊維と耐
火性粉末と必要により添加される無機結合剤とを所定量
配合後、混線あるいは水中に分散させてから成形し、次
いで焼成した後表面にセラミック粉末をプラズマ溶射す
ることにより、製造される。
火性粉末と必要により添加される無機結合剤とを所定量
配合後、混線あるいは水中に分散させてから成形し、次
いで焼成した後表面にセラミック粉末をプラズマ溶射す
ることにより、製造される。
前記セラミック粉末としては、粒子径が10〜90μm
のものを使用することが有利である。その理由は、セラ
ミックの粒子径が90μmより粗いと、膜強度が弱くな
るとともに前記成形体である繊維質材料との密着力が弱
く剥離し易くなるからであり、さらに溶融、固化した粒
子が大きくなりすぎるため成形されたコーティング層の
表面粗さを必要以上に粗くし、前記粒子間の空隙の少な
い高密度のコーティング層を形成することができないか
らである。
のものを使用することが有利である。その理由は、セラ
ミックの粒子径が90μmより粗いと、膜強度が弱くな
るとともに前記成形体である繊維質材料との密着力が弱
く剥離し易くなるからであり、さらに溶融、固化した粒
子が大きくなりすぎるため成形されたコーティング層の
表面粗さを必要以上に粗くし、前記粒子間の空隙の少な
い高密度のコーティング層を形成することができないか
らである。
また、10μmより細かいとコーティング層にクラック
が生じやすくなるとともに溶射により融着固化された粒
子が成長しない為、高密度化されないので好適でない0
粒子径が20〜50IImになる粒度において最も良い
コーティング層が得られる。
が生じやすくなるとともに溶射により融着固化された粒
子が成長しない為、高密度化されないので好適でない0
粒子径が20〜50IImになる粒度において最も良い
コーティング層が得られる。
以下、本発明の実施例について比較例と併せて説明する
。
。
裏癒斑上
耐熱性無機質繊維として、水中で分級することにより、
非繊維状物の含を世を6重量%に制御した平均長さ1.
8mm、平均アスペクト比1000のアルミナ・シリカ
ファイバー600gと耐火性粉末として平均粒径3μm
のアルミナ粉末1100gおよび平均二次粒子径63m
の末節粘土300gと、無機結合材として平均二次粒子
径3μmのモンモリロナイト150gとを配合して万能
ミキサーの中に入れ、水1400gとを機成形助材およ
び繊維処理剤(ワックス、ポリアクリルアミン酢酸塩)
300gとを添加してから5分間混練した。混練物を真
空中で脱気した後、エポキシ樹脂からなる多孔質の型に
入れプレス成形して、150X150X5’ mmの成
形体を製造した。
非繊維状物の含を世を6重量%に制御した平均長さ1.
8mm、平均アスペクト比1000のアルミナ・シリカ
ファイバー600gと耐火性粉末として平均粒径3μm
のアルミナ粉末1100gおよび平均二次粒子径63m
の末節粘土300gと、無機結合材として平均二次粒子
径3μmのモンモリロナイト150gとを配合して万能
ミキサーの中に入れ、水1400gとを機成形助材およ
び繊維処理剤(ワックス、ポリアクリルアミン酢酸塩)
300gとを添加してから5分間混練した。混練物を真
空中で脱気した後、エポキシ樹脂からなる多孔質の型に
入れプレス成形して、150X150X5’ mmの成
形体を製造した。
乾燥後、大気雰囲気下、1500°Cで3時間焼成した
。得られた成形体は、密度が1.1g/cm開放気孔率
が66%であった。
。得られた成形体は、密度が1.1g/cm開放気孔率
が66%であった。
次いで、この成形体の表面に、Y2O3を20%含存す
る平均粒径が45μmの安定化ジルコニア粉末をプラズ
マ溶射して、約100μmのセラミックコーティング層
を形成した。プラズマl容射は、A r / H,ガス
プラズマ中へ安定化ジルコニア粉末を45g/minの
速度で供給し、成形体の表面とプラズマガンの間隔は約
70mmとした。
る平均粒径が45μmの安定化ジルコニア粉末をプラズ
マ溶射して、約100μmのセラミックコーティング層
を形成した。プラズマl容射は、A r / H,ガス
プラズマ中へ安定化ジルコニア粉末を45g/minの
速度で供給し、成形体の表面とプラズマガンの間隔は約
70mmとした。
溶射中の成形体の表面温度は常に200 ′C以下に保
たれており、割れなどは発生しなかった。
たれており、割れなどは発生しなかった。
プラズマ溶射は、1回に約50μmの被膜を形成する処
理を2回行った。
理を2回行った。
前記ジルコニア粉末の付着効率は約55%であった。
コーティング層厚は成形体断面を光学顕微鏡で観察し写
真から測定し、この場合は100μmであった。また、
コーティング層の密度は約4.2g/clであった。
真から測定し、この場合は100μmであった。また、
コーティング層の密度は約4.2g/clであった。
こうしてできた本発明の実施例にあたる成形体にチップ
状で焼成前のバリスター、圧電素子等をその表面に載せ
てその後、1100°Cで3時間焼成してから冷却し、
反応の有無を確認後、新しい千ノブを載せかえ、前記操
作を繰返した。本発明の実施例の場合は、前記操作を1
0回繰返したが被焼成物との反応は生じなかった。
状で焼成前のバリスター、圧電素子等をその表面に載せ
てその後、1100°Cで3時間焼成してから冷却し、
反応の有無を確認後、新しい千ノブを載せかえ、前記操
作を繰返した。本発明の実施例の場合は、前記操作を1
0回繰返したが被焼成物との反応は生じなかった。
ル較斑上
実施例1と同様の方法で、かさ密度1.0g/cd、1
50X150X5’ mmの平板を製造した。
50X150X5’ mmの平板を製造した。
続いて、市販の部分安定化ジルコニア(日本研磨材工業
(株)製、ZrCh93wt%、y、o。
(株)製、ZrCh93wt%、y、o。
6wt%、粒度325メツシユド)を、2隻L%メチル
セルロース水溶液中に分散させ、数滴のイソプロピルア
ルコールを消泡のため添加後、スプレーで塗布し乾燥さ
せてから、1500°Cで焼成してジルコニアコーティ
ングを焼付は本発明の比較例とした。コーティング層厚
は同様に測定し160μmであった。また、コーティン
グ層の密度は約2.5g/Cdであった。
セルロース水溶液中に分散させ、数滴のイソプロピルア
ルコールを消泡のため添加後、スプレーで塗布し乾燥さ
せてから、1500°Cで焼成してジルコニアコーティ
ングを焼付は本発明の比較例とした。コーティング層厚
は同様に測定し160μmであった。また、コーティン
グ層の密度は約2.5g/Cdであった。
実施例1で使用したものと同一のチップ状のバリスター
、圧電素子等を同様の載せて反応性についての比較試験
を同じ条件下で行った。その結果、バリスターについて
は5回目で、圧電素子については3回目で、被焼成物が
反応し、コーティング層の剥離が生じた。
、圧電素子等を同様の載せて反応性についての比較試験
を同じ条件下で行った。その結果、バリスターについて
は5回目で、圧電素子については3回目で、被焼成物が
反応し、コーティング層の剥離が生じた。
止較炎又
実施例1と同様の方法で、嵩密度1.0g/cd、15
0x150X5’ mmの平板を製造した。
0x150X5’ mmの平板を製造した。
続いて、市販のアルミナ(住友化学(株)製、A2□0
393.9wt% 粒度325メンシユ下)を、2wt
%メチルセルロース水溶液、に分散液イソプロピルアル
コールで消泡後、スプレーで塗布し乾燥させてから、1
600℃で焼成してアルミナコーティングを焼付は本発
明の比較例とした。コーティング層厚は170μmであ
り、層密度は2.5g/c4であった。
393.9wt% 粒度325メンシユ下)を、2wt
%メチルセルロース水溶液、に分散液イソプロピルアル
コールで消泡後、スプレーで塗布し乾燥させてから、1
600℃で焼成してアルミナコーティングを焼付は本発
明の比較例とした。コーティング層厚は170μmであ
り、層密度は2.5g/c4であった。
比較例1と同様にして反応性の比較試験を行った。その
結果、バリスターについては4回目で、圧電素子につい
ては5回目で、被焼成物が反応し、コーティング層の剥
離が生じた。
結果、バリスターについては4回目で、圧電素子につい
ては5回目で、被焼成物が反応し、コーティング層の剥
離が生じた。
(発明の効果)
以上の様に本発明の電子部品焼成用治具は、特にバリス
ター、サーミスタ、圧電素子、セラミックコンデンサー
等の電子部品は、勿論のこと、低融点酸化物を含有する
電子部品をも極めて効率よく焼成できるものであり、焼
成スピードのアップによる生産性の向上、および省エネ
による製品のコストダウンという大きな効果があられれ
るものである。
ター、サーミスタ、圧電素子、セラミックコンデンサー
等の電子部品は、勿論のこと、低融点酸化物を含有する
電子部品をも極めて効率よく焼成できるものであり、焼
成スピードのアップによる生産性の向上、および省エネ
による製品のコストダウンという大きな効果があられれ
るものである。
以上
Claims (3)
- (1)主として耐熱性無機質繊維と耐火性粉末とからな
る多数の空隙を有する成形体の表面に、気孔率が20%
以下、厚さが10〜200μmのセラミックコーティン
グ層を有してなることを特徴とする電子部品焼成用治具
。 - (2)前記セラミックコーティング層は、結晶粒径が1
〜90μmの溶射コーティング層である請求項1記載の
電子部品焼成用治具。 - (3)前記セラミックコーティング層は、マグネシア、
ジルコニア、アルミナ、マグネシア−鉄スピネルから選
択されるいずれか少なくとも一種であることを特徴とす
る請求項1記載の電子部品焼成用治具。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21957988A JPH0269381A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子部品焼成用治具 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21957988A JPH0269381A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子部品焼成用治具 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0269381A true JPH0269381A (ja) | 1990-03-08 |
Family
ID=16737738
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21957988A Pending JPH0269381A (ja) | 1988-08-31 | 1988-08-31 | 電子部品焼成用治具 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0269381A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05270925A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-19 | Ngk Insulators Ltd | セラミック焼成用耐火材 |
KR100444335B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2004-08-16 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | 전자 부품용 소성 지그 |
JP2007045641A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 焼成用容器 |
JP2017224705A (ja) * | 2016-06-15 | 2017-12-21 | 日本電気硝子株式会社 | 封止用タブレット及びその製造方法 |
-
1988
- 1988-08-31 JP JP21957988A patent/JPH0269381A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05270925A (ja) * | 1992-03-23 | 1993-10-19 | Ngk Insulators Ltd | セラミック焼成用耐火材 |
KR100444335B1 (ko) * | 2000-11-10 | 2004-08-16 | 니뽄 가이시 가부시키가이샤 | 전자 부품용 소성 지그 |
JP2007045641A (ja) * | 2005-08-08 | 2007-02-22 | Toshiba Ceramics Co Ltd | 焼成用容器 |
JP4713981B2 (ja) * | 2005-08-08 | 2011-06-29 | コバレントマテリアル株式会社 | セラミック電子部品焼成用容器 |
JP2017224705A (ja) * | 2016-06-15 | 2017-12-21 | 日本電気硝子株式会社 | 封止用タブレット及びその製造方法 |
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