JPH0265969A - 光ディスク用スタンパーの製造方法 - Google Patents
光ディスク用スタンパーの製造方法Info
- Publication number
- JPH0265969A JPH0265969A JP63214433A JP21443388A JPH0265969A JP H0265969 A JPH0265969 A JP H0265969A JP 63214433 A JP63214433 A JP 63214433A JP 21443388 A JP21443388 A JP 21443388A JP H0265969 A JPH0265969 A JP H0265969A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stamper
- polishing
- obtd
- providing
- optical disk
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 10
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 4
- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims abstract description 37
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 26
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 22
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 16
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 16
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 14
- 230000007547 defect Effects 0.000 abstract description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 4
- 238000005253 cladding Methods 0.000 abstract 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 4
- 239000003082 abrasive agent Substances 0.000 description 3
- 238000003698 laser cutting Methods 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004026 adhesive bonding Methods 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005323 electroforming Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007517 polishing process Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野1
本発明は、光デイスクマスクリングプロセスにおける、
スタンパーの研磨技術に関する。
スタンパーの研磨技術に関する。
[従来の技術]
従来の光ディスク用スタンパ−の研磨方法には2種類あ
って、その第1の方法は、ガラス基板上に密着したスタ
ンパーを研磨する方法であって、ガラス基板とスタンパ
−が一体構造になっている状態(ガラス基板付研磨とい
う)で行なうものであった。
って、その第1の方法は、ガラス基板上に密着したスタ
ンパーを研磨する方法であって、ガラス基板とスタンパ
−が一体構造になっている状態(ガラス基板付研磨とい
う)で行なうものであった。
つまり、光デイスクプロセス技術の要点(日本工業技術
センター発行)の様に、光学研磨されたガラス基板上に
ポジ型フォトレジストを塗付し、レーザーカッティング
をした後に現像処理を行ない、凹凸のパターンを形成し
、その上に、スパッタリング法によってNiの導体化膜
を形成し、さらに、電鋳メツキ法によって約300μm
のNiメツキ層を形成していく、所定のNiメツキ層が
得られたら、スタンパ−の厚み精度を確保することと、
研磨面の面粗度を向上させる目的で研磨を行なう。
センター発行)の様に、光学研磨されたガラス基板上に
ポジ型フォトレジストを塗付し、レーザーカッティング
をした後に現像処理を行ない、凹凸のパターンを形成し
、その上に、スパッタリング法によってNiの導体化膜
を形成し、さらに、電鋳メツキ法によって約300μm
のNiメツキ層を形成していく、所定のNiメツキ層が
得られたら、スタンパ−の厚み精度を確保することと、
研磨面の面粗度を向上させる目的で研磨を行なう。
ガラス基板付研磨方式の場合、第2図に示す様に、下部
の研磨定盤上に、研磨パッドをはり付け、上側のプレッ
シャープレートにガラス基盤付スタンパ−を取り付け、
圧力の加えながら研磨定盤を回転させ、遊離と粒を供給
しながら研磨な行なうものであった。
の研磨定盤上に、研磨パッドをはり付け、上側のプレッ
シャープレートにガラス基盤付スタンパ−を取り付け、
圧力の加えながら研磨定盤を回転させ、遊離と粒を供給
しながら研磨な行なうものであった。
次に、第2の方法は、前述の電鋳メツキ工程が完了した
スタンパ−をガラス基板からはがしてから研磨する方法
(単品研磨という)であって、いわゆるスタンパ−の複
製化技術(ファーザー−マザー−スタンバ−法によるメ
ツキでのスタンパ−の大量複製技術)のなかで、マザー
およびスタンパ−を研磨する時に必要な技術である。ま
た、スクンパーを研磨する目的は、前述のガラス基板付
研磨と全く同一のものである。
スタンパ−をガラス基板からはがしてから研磨する方法
(単品研磨という)であって、いわゆるスタンパ−の複
製化技術(ファーザー−マザー−スタンバ−法によるメ
ツキでのスタンパ−の大量複製技術)のなかで、マザー
およびスタンパ−を研磨する時に必要な技術である。ま
た、スクンパーを研磨する目的は、前述のガラス基板付
研磨と全く同一のものである。
単品研磨方式の場合、第3図の様に、はり合わせ基板上
に接着部材(この場合、両面テープを用いた)を介して
、スタンパ−をはり付は固定する。下部の研磨定盤上に
、研磨パッドをはり付け、上側のプレッシャープレート
には前記のはり合わせ基板付スタンパ−を取り付け、ガ
ラス基板付研磨方式と同様に研磨を行なっていた。
に接着部材(この場合、両面テープを用いた)を介して
、スタンパ−をはり付は固定する。下部の研磨定盤上に
、研磨パッドをはり付け、上側のプレッシャープレート
には前記のはり合わせ基板付スタンパ−を取り付け、ガ
ラス基板付研磨方式と同様に研磨を行なっていた。
[発明が解決しようとする課題]
しかし、前述の従来技術では、まず第1の方法では、レ
ーザーカッティング1回につき1枚のスタンパ−しか得
られないため生産効率が低く、生産性向上に期待がもて
ないという問題があった。
ーザーカッティング1回につき1枚のスタンパ−しか得
られないため生産効率が低く、生産性向上に期待がもて
ないという問題があった。
また、第2の方法では、接着部材とスタンパ−のはりあ
わせ部から研磨材が浸入したり、接着部材がスタンパ−
側へ残ったり、はり合わせ時に異物が付着することによ
って、スタンパ−の記録面欠陥多発という問題があった
。さらに、接着部材からスタンパ−をはがす時に、変形
してしまうという問題もあった。
わせ部から研磨材が浸入したり、接着部材がスタンパ−
側へ残ったり、はり合わせ時に異物が付着することによ
って、スタンパ−の記録面欠陥多発という問題があった
。さらに、接着部材からスタンパ−をはがす時に、変形
してしまうという問題もあった。
そこで、本発明はこの様な問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、記録面欠陥が少なくて、信頼性
の高いスタンパ−を得ることと、スタンパ−の複製化技
術を併用することによって、大量のスタンパ−を安価に
製造するためのスタンパ−の研磨方法を提供するところ
にある。
の目的とするところは、記録面欠陥が少なくて、信頼性
の高いスタンパ−を得ることと、スタンパ−の複製化技
術を併用することによって、大量のスタンパ−を安価に
製造するためのスタンパ−の研磨方法を提供するところ
にある。
[課題を解決するための手段]
本発明は、光ディスク用スクンパーの研磨加工において
、はり合わせ基板側に接着部材を設け。
、はり合わせ基板側に接着部材を設け。
スタンパー側に保護部材を設けた構成にしておき、前記
接着部材と前記保護部材の中間に干渉部材を設けて、前
記のスタンパ−を固定したことを特徴とする。
接着部材と前記保護部材の中間に干渉部材を設けて、前
記のスタンパ−を固定したことを特徴とする。
[イ乍 用1
本発明の上記の方法によれば、スタンパ−の記録面が保
護部材で完全に保護されるため欠陥の無いスクンパーが
得られる。しかも、干渉部材を一層設けたことで接着部
材からの着脱が容易になり、変形の無いスタンパ−が得
られる。また、スタンパ−の複製化技術を併用すること
で、ガラス原盤1枚につき大量のスタンパ−を得ること
が可能となる。
護部材で完全に保護されるため欠陥の無いスクンパーが
得られる。しかも、干渉部材を一層設けたことで接着部
材からの着脱が容易になり、変形の無いスタンパ−が得
られる。また、スタンパ−の複製化技術を併用すること
で、ガラス原盤1枚につき大量のスタンパ−を得ること
が可能となる。
[実 施 例1
第1図は本発明の実施例におけるスクンパーの研磨状態
図である。
図である。
使用したスタンパ−は、電鋳Niメツキ後のもので、ガ
ラス基板からはがした状態で、その大きさはφ175×
φ20X0.3mmであった。
ラス基板からはがした状態で、その大きさはφ175×
φ20X0.3mmであった。
スタンパ−の記録面側には、記録信号に対応した微細な
凹凸(ビットという)が形成されていて、取扱い不良等
による記録面へのダメージは、記録信号の欠落につなが
るため、何らかの保護が必要となる。ここでは、有機系
樹脂材料(シリテクト2)をスピンコード法によって約
20〜30μmの厚さにコーティングを行なった。
凹凸(ビットという)が形成されていて、取扱い不良等
による記録面へのダメージは、記録信号の欠落につなが
るため、何らかの保護が必要となる。ここでは、有機系
樹脂材料(シリテクト2)をスピンコード法によって約
20〜30μmの厚さにコーティングを行なった。
次に、φ200XIOmmで、その平面度が3μm以下
のはりあわせ基板を準備しておく。材質は、金属、ガラ
ス、セラミック等どれでも良いが、ここではスチール製
のSK材を用いた。
のはりあわせ基板を準備しておく。材質は、金属、ガラ
ス、セラミック等どれでも良いが、ここではスチール製
のSK材を用いた。
前記のはり合わせ基板上に接着部材を付着させる。接着
部材はプラスチックマグネットであり、その片面には、
両面テープを付着させ、前記のはり合わせ基板上に接着
し固定した。この時使用した接着部材の大きさはφ15
0X2mmであった。
部材はプラスチックマグネットであり、その片面には、
両面テープを付着させ、前記のはり合わせ基板上に接着
し固定した。この時使用した接着部材の大きさはφ15
0X2mmであった。
次に、前記の接着部材上に干渉部材を設け、その上に、
記録面側がはり合わせ面となる様に、前記の保護部材材
スタンパーをはり付けた。前記の干渉部材は金属膜で、
その大きさはφ150×0.012mmのもので、ここ
では一般に市販されているアルミホイールを使用した。
記録面側がはり合わせ面となる様に、前記の保護部材材
スタンパーをはり付けた。前記の干渉部材は金属膜で、
その大きさはφ150×0.012mmのもので、ここ
では一般に市販されているアルミホイールを使用した。
従って、スタンパ−の研磨時におけるスタンパ−の保持
構造は、はり合わせ基板上に接着部材、次に干渉部材、
次に保護部材、最後にスタンパ−の構成となり5層構造
となる。この構成によって、研磨中のスクンパーは、研
磨材の浸入を防ぎながら、しかも強固に保持されること
になる。
構造は、はり合わせ基板上に接着部材、次に干渉部材、
次に保護部材、最後にスタンパ−の構成となり5層構造
となる。この構成によって、研磨中のスクンパーは、研
磨材の浸入を防ぎながら、しかも強固に保持されること
になる。
一方、はり合わせ基板からのスタンパ−の着脱は記録面
を保護しながら容易に実施できる。外す場合は、干渉部
材と保護部材の間からはく離されることになり、は(離
後のスクンパーは保護部材との2層構造となる。
を保護しながら容易に実施できる。外す場合は、干渉部
材と保護部材の間からはく離されることになり、は(離
後のスクンパーは保護部材との2層構造となる。
第1図に示す様に、研磨定盤上に前記のはり合わせ基板
付のスタンパ−をセットし、研磨を行なう。
付のスタンパ−をセットし、研磨を行なう。
研磨装置は片面研磨式の高速平面研磨装置(スピードフ
ァム24B)を用い、研磨定盤上には、研磨パッドを付
けた。定盤は、80〜1100rpで回転していて、研
磨時の圧力は100〜150g/cm”に設定し、研磨
材(不二貝研磨材KKのポリブラフ00)は10〜20
cC/minの量を連続的に滴下しながら研磨した。目
標のスタンパ−の厚さに達したら研磨を完了し、はり合
わせ基板から外した。スタンパ−の厚さの測定は、超音
波厚さ計を用い評価を行なった。
ァム24B)を用い、研磨定盤上には、研磨パッドを付
けた。定盤は、80〜1100rpで回転していて、研
磨時の圧力は100〜150g/cm”に設定し、研磨
材(不二貝研磨材KKのポリブラフ00)は10〜20
cC/minの量を連続的に滴下しながら研磨した。目
標のスタンパ−の厚さに達したら研磨を完了し、はり合
わせ基板から外した。スタンパ−の厚さの測定は、超音
波厚さ計を用い評価を行なった。
[発明の効果1
以上述べた様に、本発明によればスタンパ−の信号記録
面側に保護部材を設け、一方のはり合わせ基板側に接着
部材を設け、その中間に金属膜の干渉部材をはさみ込ん
で研磨をしたことによって、記録面欠陥の無い、エラー
レートの良好で、しかも、着脱時の変形の無い良好なス
タンパ−を得ることが可能となった。
面側に保護部材を設け、一方のはり合わせ基板側に接着
部材を設け、その中間に金属膜の干渉部材をはさみ込ん
で研磨をしたことによって、記録面欠陥の無い、エラー
レートの良好で、しかも、着脱時の変形の無い良好なス
タンパ−を得ることが可能となった。
さらに、スタンパ−の複製化技術を併用することで、レ
ーザーカッティング1回につき、大量のスタンパ−が複
製できるという効果を有することになる。
ーザーカッティング1回につき、大量のスタンパ−が複
製できるという効果を有することになる。
第1図は本発明の光ディスク用スタンバ−の研磨状態図
。 第2図は従来の光ディスク用スタンパ−の研磨状態図、
(ガラス基板付研磨) 第3図は従来の光デイスク用スタンパ−の研磨状態図。 ・定盤 ・パッド ・スタンパ− ・接着部材 ・はり合わせ基板 ・プレッシャープレート ガラス基板 ・保護部材 ・干渉部材 Y1囚 ′Iz図 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴 木 喜三部(他1名)’g3Fj
A
。 第2図は従来の光ディスク用スタンパ−の研磨状態図、
(ガラス基板付研磨) 第3図は従来の光デイスク用スタンパ−の研磨状態図。 ・定盤 ・パッド ・スタンパ− ・接着部材 ・はり合わせ基板 ・プレッシャープレート ガラス基板 ・保護部材 ・干渉部材 Y1囚 ′Iz図 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴 木 喜三部(他1名)’g3Fj
A
Claims (1)
- 光ディスク用スタンパーの研磨加工において、はり合わ
せ基板側に接着部材を設け、スタンパー側に保護部材を
設けた構成にしておき、前記接着部材と前記保護部材の
中間に干渉部材を設けて、前記のスタンパーを固定した
ことを特徴とする光ディスク用スタンパーの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63214433A JPH0265969A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63214433A JPH0265969A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0265969A true JPH0265969A (ja) | 1990-03-06 |
Family
ID=16655703
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63214433A Pending JPH0265969A (ja) | 1988-08-29 | 1988-08-29 | 光ディスク用スタンパーの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0265969A (ja) |
-
1988
- 1988-08-29 JP JP63214433A patent/JPH0265969A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2506123B2 (ja) | 光ディスク | |
JPH0766571B2 (ja) | 光デイスク | |
JP2790043B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
US4911967A (en) | Substrate for magnetic disk memory and production process | |
JP2002352406A (ja) | 磁気ヘッドスライダの浮上面形状加工方法及び磁気ヘッドスライダの製造方法 | |
JPH0265969A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
JPH03295017A (ja) | 磁気ヘッドスライダーの製造方法 | |
JPS6171487A (ja) | 記録媒体用ガラス基板 | |
WO2015002152A1 (ja) | キャリア、磁気ディスク用基板の製造方法及び磁気ディスクの製造方法 | |
JP5191137B2 (ja) | 磁気ディスク用ガラス基板の製造方法 | |
JP3813289B2 (ja) | 両面ラップ盤用回転定盤の製造方法 | |
JPH052779A (ja) | スタンパーの製造方法 | |
JPH01127265A (ja) | 光ディスク成形用スタンパの裏面研摩装置 | |
JPS58132458A (ja) | 硬脆材料基板の平面研磨方法及び研磨装置 | |
JP3207560B2 (ja) | 光ディスク用スタンパの裏面研摩方法。 | |
JPS63302441A (ja) | スタンパの研磨方法 | |
JPH03230337A (ja) | スタンパの裏打ち方法 | |
JP2000339654A (ja) | 薄膜磁気ヘッドスライダーの製造方法 | |
JPH01159845A (ja) | 光ディスク用スタンパーの製造方法 | |
JPH09153234A (ja) | 光ディスクとその製造方法およびその貼り合わせ装置 | |
JPH05217111A (ja) | 複合型薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPH10100064A (ja) | 研磨装置及び研磨方法 | |
JPH0725025B2 (ja) | 両面研磨方法 | |
JPH1196531A (ja) | 薄膜磁気ヘッドの製造方法 | |
JPS59114032A (ja) | デイスクスタンプ盤の製造方法 |