JPH0263586A - 洗浄装置 - Google Patents
洗浄装置Info
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- JPH0263586A JPH0263586A JP21329688A JP21329688A JPH0263586A JP H0263586 A JPH0263586 A JP H0263586A JP 21329688 A JP21329688 A JP 21329688A JP 21329688 A JP21329688 A JP 21329688A JP H0263586 A JPH0263586 A JP H0263586A
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Landscapes
- Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)
- Filtering Materials (AREA)
- Treatment Of Water By Ion Exchange (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は半導体製造装置に間し、特にウェハ表面のゴミ
及び不純物を除去する洗浄装置の洗浄液供給ラインや洗
浄液循環ラインに組み込まれているゴミ回収、除去用フ
ィルタに関する。
及び不純物を除去する洗浄装置の洗浄液供給ラインや洗
浄液循環ラインに組み込まれているゴミ回収、除去用フ
ィルタに関する。
半導体製造において、ウェハ表面に付着したゴミ及び不
純物を除去する洗浄装置は一般的には第３図に示すよう
に、洗浄４１１１と、洗浄液溜め３と、洗浄液循環ポン
プ４と、フィルタ部５とを有しており、これらの相互間
を洗浄液供給ライン２、洗浄液循環ライン６にてそれぞ
れ接続し、かつ洗浄槽ｌに廃液ライン７を設けている。
純物を除去する洗浄装置は一般的には第３図に示すよう
に、洗浄４１１１と、洗浄液溜め３と、洗浄液循環ポン
プ４と、フィルタ部５とを有しており、これらの相互間
を洗浄液供給ライン２、洗浄液循環ライン６にてそれぞ
れ接続し、かつ洗浄槽ｌに廃液ライン７を設けている。
従来は、洗浄液をボンダ４によって循環させ、その循環
系路の配管８に第４図に示すように微小の孔か多数あい
た多孔質のフィルタ１０が組み込まれており、洗浄槽内
のゴミを回収、除去している。１１はＯリングである。
系路の配管８に第４図に示すように微小の孔か多数あい
た多孔質のフィルタ１０が組み込まれており、洗浄槽内
のゴミを回収、除去している。１１はＯリングである。
また、洗浄液供給ライン２にも、多孔質のフィルタを組
み込み、ゴミの除去を行っている。
み込み、ゴミの除去を行っている。
上述した従来の洗浄装置槽内のゴミ回収、除去及び洗浄
液供給ラインでのゴミ除去用のフィルタは多孔性のフィ
ルタであり、孔径以下のゴミや溶存する物質（特に金属
イオン）に対しては、はとんど捕集効果がないという欠
点がある。
液供給ラインでのゴミ除去用のフィルタは多孔性のフィ
ルタであり、孔径以下のゴミや溶存する物質（特に金属
イオン）に対しては、はとんど捕集効果がないという欠
点がある。
本発明の目的は前記課題を解決した洗浄装置を提供する
ことにある。
ことにある。
上述した従来の洗浄装置のゴミ回収、除去用フィルタは
多孔性フィルタを用いているのに対し、本発明はフィル
タに金属捕集能力を有するという相違点を有する。
多孔性フィルタを用いているのに対し、本発明はフィル
タに金属捕集能力を有するという相違点を有する。
前記目的を達成するため、本発明に係る洗浄装置におい
ては、ウェハを所要の洗浄液に浸漬し、ウェハ表面に付
着したゴミ及び不純物を除去する洗浄装置の洗浄液供給
ライン及び洗浄槽内の洗浄液を循環させるラインのフィ
ルタ部に、ゴミの回収、金属イオンの捕集を行うフィル
タを有するものである。
ては、ウェハを所要の洗浄液に浸漬し、ウェハ表面に付
着したゴミ及び不純物を除去する洗浄装置の洗浄液供給
ライン及び洗浄槽内の洗浄液を循環させるラインのフィ
ルタ部に、ゴミの回収、金属イオンの捕集を行うフィル
タを有するものである。
次に本発明について図面を参照して説明する。
（実施例１）
第３図は一般的な洗浄装置のブロックダイヤグラムであ
る。１は洗浄槽、２は洗浄液供給ライン、３は洗浄液溜
め、４は洗浄液循環ポンプ、５はゴミ回収用フィルタ部
、６は洗浄液循環ライン、７は廃液ラインである。
る。１は洗浄槽、２は洗浄液供給ライン、３は洗浄液溜
め、４は洗浄液循環ポンプ、５はゴミ回収用フィルタ部
、６は洗浄液循環ライン、７は廃液ラインである。
洗浄液溜め３の洗浄液は洗浄液供給ライン２から洗浄槽
１へ供給される際に、また洗浄槽１の洗浄液が循環ポン
プ４によって強制的に循環される際に、ゴミ回収用フィ
ルタ５でゴミ及び金属イオンが回収除去される。
１へ供給される際に、また洗浄槽１の洗浄液が循環ポン
プ４によって強制的に循環される際に、ゴミ回収用フィ
ルタ５でゴミ及び金属イオンが回収除去される。
第１図（ａ）は本発明の実施ＩＮ １を示す図である。
８は洗浄液供給ライン２又は洗浄液循環ライン６を構成
する配管、９が金属イオン捕集能力を有する高分子物質
からなるフィルタ、１０はゴミ回収用多孔質フィルタ、
１１は０リングである。本発明は配管８のフィルタ部に
、金属イオン捕集用フィルタ９とゴミ回収用フィルタ１
０とを一体に組込んだものである。
する配管、９が金属イオン捕集能力を有する高分子物質
からなるフィルタ、１０はゴミ回収用多孔質フィルタ、
１１は０リングである。本発明は配管８のフィルタ部に
、金属イオン捕集用フィルタ９とゴミ回収用フィルタ１
０とを一体に組込んだものである。
本発明によれば、多孔質フィルタ１０でゴミを回収し、
フィルタ１０により金属イオンが回収除去される。第１
図（ｂ）に金属イオン捕集能力を有する高分子の化学的
構造を示す、側鎖のイオン交換基の持つイオン交換作用
によって金属イオンが捕集できる。
フィルタ１０により金属イオンが回収除去される。第１
図（ｂ）に金属イオン捕集能力を有する高分子の化学的
構造を示す、側鎖のイオン交換基の持つイオン交換作用
によって金属イオンが捕集できる。
（実施例２）
第２図（ａ）は本発明の実施例２を示す図、第２図（ｂ
＞はフィルタ表面の化学的構造を示す図である。
＞はフィルタ表面の化学的構造を示す図である。
本実施例ではゴミ回収用多孔質フィルタ１０の表面の水
酸基、アミド基、炭素の二重結合鎖、エポキシ基等を活
性化させ、フィルタの表面に直接金属イオン交換基を導
入し、多孔質フィルタ自身に金属イオン捕集能力を持た
せたものである。
酸基、アミド基、炭素の二重結合鎖、エポキシ基等を活
性化させ、フィルタの表面に直接金属イオン交換基を導
入し、多孔質フィルタ自身に金属イオン捕集能力を持た
せたものである。
この実施例では、フィルタのとり扱いが簡便で従来の方
式に装置の改造することなく適用できるという利点があ
る。
式に装置の改造することなく適用できるという利点があ
る。
以上説明したように本発明は、洗浄装置のゴミ回収除去
フィルタに金属捕集能力を持たせた構造であり、溶存す
る金属イオンが除去可能であり、ウェハの汚染を軽減で
きる。また、充填する高分子物質と交換基を化学的に安
定なものとすれば、多くの湿式の表面処理装置に応用す
ることができるという効果を有する。
フィルタに金属捕集能力を持たせた構造であり、溶存す
る金属イオンが除去可能であり、ウェハの汚染を軽減で
きる。また、充填する高分子物質と交換基を化学的に安
定なものとすれば、多くの湿式の表面処理装置に応用す
ることができるという効果を有する。
第１図（ａ）は本発明の実施例１を示す構成図、第１図
（ｂ）は金属イオン捕集能力を有する高分子物質の化学
的構造を示す図、第２図（ａ）は本発明の実施例２を示
す構成図、第２図（ｂ）はフィルタの化学的＃４造を示
す図、第３図は一般的な洗浄装置を示すブロックダイヤ
グラム、第４図は従来例を示す図である。 １・・・洗浄槽 ２・・・洗浄液供給ライン
３・・−洗浄液溜め ４・・・洗浄液循環ポンプ
５・・・ゴミ回収用フィルタ部 ６・・・洗浄液循環ライン ７・・・廃液ライン ８・・・配管９・・・金属
捕集用高分子物質からなるフィルタ１０・・・多孔質フ
ィルタ １１・・・０リング（ｂ） 第１図 （Ｑ、） 一一一一二 （ｂ）
（ｂ）は金属イオン捕集能力を有する高分子物質の化学
的構造を示す図、第２図（ａ）は本発明の実施例２を示
す構成図、第２図（ｂ）はフィルタの化学的＃４造を示
す図、第３図は一般的な洗浄装置を示すブロックダイヤ
グラム、第４図は従来例を示す図である。 １・・・洗浄槽 ２・・・洗浄液供給ライン
３・・−洗浄液溜め ４・・・洗浄液循環ポンプ
５・・・ゴミ回収用フィルタ部 ６・・・洗浄液循環ライン ７・・・廃液ライン ８・・・配管９・・・金属
捕集用高分子物質からなるフィルタ１０・・・多孔質フ
ィルタ １１・・・０リング（ｂ） 第１図 （Ｑ、） 一一一一二 （ｂ）
Claims (1)
- （１）ウェハを所要の洗浄液に浸漬し、ウェハ表面に付
着したゴミ及び不純物を除去する洗浄装置の洗浄液供給
ライン及び洗浄槽内の洗浄液を循環させるラインのフィ
ルタ部に、ゴミの回収、金属イオンの捕集を行うフィル
タを有することを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21329688A JPH0263586A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | 洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21329688A JPH0263586A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | 洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0263586A true JPH0263586A (ja) | 1990-03-02 |
Family
ID=16636774
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21329688A Pending JPH0263586A (ja) | 1988-08-27 | 1988-08-27 | 洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0263586A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0432525U (ja) * | 1990-07-16 | 1992-03-17 | ||
| GB2313212A (en) * | 1994-12-27 | 1997-11-19 | Komatsu Mfg Co Ltd | Device and method for limiting the vehicle speed of a working vehicle |
| WO2000033367A1 (fr) * | 1998-12-01 | 2000-06-08 | Organo Corporation | Dispositif de lavage |
-
1988
- 1988-08-27 JP JP21329688A patent/JPH0263586A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0432525U (ja) * | 1990-07-16 | 1992-03-17 | ||
| GB2313212A (en) * | 1994-12-27 | 1997-11-19 | Komatsu Mfg Co Ltd | Device and method for limiting the vehicle speed of a working vehicle |
| WO2000033367A1 (fr) * | 1998-12-01 | 2000-06-08 | Organo Corporation | Dispositif de lavage |
| US6494223B1 (en) | 1998-12-01 | 2002-12-17 | Tadahiro Ohmi | Wet cleaning apparatus utilizing ultra-pure water rinse liquid with hydrogen gas |
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